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注入機(jī)進(jìn)階報(bào)告射頻離子源氣體面板加速器氬氣面板：提供氬氣—射頻離子源點(diǎn)火的介質(zhì)，并在在紅磷加熱升華前，維持射頻等離子體。紅磷加熱器硅片

射頻離子源：將介質(zhì)離子化，提供工藝需要的等離子體。加速器：引出離子并使其加速，使離子獲得一定的能量。硅片：離子注入的靶材。1.點(diǎn)火：使用氬氣點(diǎn)火，氣壓要在-3次方下。手動(dòng)調(diào)節(jié)2.加速SourcechamberIonbeamcurrent

（1）在加速場(chǎng)中，較寬的電場(chǎng)對(duì)等離子體進(jìn)行束流，通過(guò)前后左右的電場(chǎng)將離子左右的動(dòng)量抵消，使離子垂直向下從縫隙中進(jìn)入第二電場(chǎng)。在第二電場(chǎng)中，通過(guò)反向電場(chǎng)，剔除等離子體中多余的電子，減少干擾。（2）影響加速場(chǎng)的因素：1.第一電場(chǎng)中兩板之間的距離d2.兩個(gè)電場(chǎng)的場(chǎng)強(qiáng)E3.縫隙的寬度4.電場(chǎng)中的壓強(qiáng)電源的使用：RF380Vsuppression220V—10kVExtaction330V—40kV泵20kV水：

各種泵、離子源、加速器、皮帶軸、電磁鐵CDA:閥門、水冷系統(tǒng)、各種氣

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