ICS31.200L97中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)CB/T16878-1997用于集成電路制造技術(shù)的檢測(cè)圖形單元規(guī)范Speeificationformetrologypatterncellsforintegratedcircuitmanufacture1997-06-20發(fā)布1998-03-01實(shí)施國(guó)家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布

CB/T16878-1997次前言1范圍…引用標(biāo)準(zhǔn)定義4要求應(yīng)用指南

GB/T16878-1997本標(biāo)準(zhǔn)等同采用1994年SEMI標(biāo)準(zhǔn)版本“微型構(gòu)圖"部分中的SEMIP19—92《用于集成電路制造技術(shù)的檢測(cè)圖形單元規(guī)范》（Specificationformetrologypatterncellsforintegratedeireuitmanufacture）。SEMI標(biāo)準(zhǔn)是國(guó)際上公認(rèn)的一套半導(dǎo)體設(shè)備和材料國(guó)際標(biāo)準(zhǔn),SEMIP19-92《用于集成電路制造技術(shù)的檢測(cè)圖形單元規(guī)范》是其中的一項(xiàng),它將與已經(jīng)轉(zhuǎn)化的SEMIP1一92《硬面光掩模基板》、SEMIP2一86《硬面光掩模用鉻薄膜》、SEMIP3一90《硬面感光板中光致抗蝕劑和電子抗蝕劑》SEMIP4一92《圓形石英玻璃光掩?；濉稴EMIP6-88《光掩模定位標(biāo)記規(guī)范》及SEMIP21-92《拖模瞬光系統(tǒng)精蜜度和準(zhǔn)確度表示準(zhǔn)則》和SEMIP22-93《光掩模缺陷分類和尺寸定義的準(zhǔn)則》兩項(xiàng)SEMI標(biāo)準(zhǔn)形成一個(gè)微型構(gòu)圖標(biāo)準(zhǔn)系列。本標(biāo)準(zhǔn)是根據(jù)SEMIP19—92《用于集成電路制造技術(shù)的檢測(cè)圖形單元規(guī)范》制定的。。在技術(shù)內(nèi)容上等同地采用了該國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)的格式和結(jié)構(gòu)按國(guó)標(biāo)GB/T1.1一1993第一單元第一部分的規(guī)定編制。本標(biāo)準(zhǔn)從1998年3月1日實(shí)施。本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)科學(xué)院提出。本標(biāo)準(zhǔn)由電子工業(yè)部標(biāo)準(zhǔn)化研究所歸口本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：中國(guó)科學(xué)院微電子中心、本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：陳寶欽、陳森錦、廖溫初

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)用于集成電路制造技術(shù)的檢測(cè)圖形單元規(guī)范GB/T16878-1997Specificntionformetrologypaterncelsforintegratedcircuitmanufacture1范圍本規(guī)范規(guī)定若干種標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試圖形，用以對(duì)集成電路生產(chǎn)中所用的微圖形設(shè)備、計(jì)量?jī)x器和工藝進(jìn)行一致的全面評(píng)估和檢測(cè)。1.2本規(guī)范針對(duì)線寬計(jì)量、分辨率測(cè)試和鄰近效應(yīng)測(cè)試的需要，規(guī)定若干種基本測(cè)試圖形單元的形狀、一般尺寸、以及推薦的布局和設(shè)計(jì)規(guī)則。這些標(biāo)準(zhǔn)圖形包括可供光學(xué)顯微鏡、電子顯微鏡和電子探針測(cè)量用的各種圖形單元。1.3本規(guī)范不規(guī)定驗(yàn)證母版上測(cè)試圖形關(guān)鍵尺寸的測(cè)量技術(shù)，也不規(guī)定如何測(cè)量大圓片上的光刻圖形,只規(guī)定若干種必要的基本測(cè)試圖形，以及用戶實(shí)施符合本規(guī)范的實(shí)際測(cè)試圖形。2引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文,通過在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí),所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會(huì)被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。SJ/T10152—91集成電路主要工藝設(shè)備術(shù)語SJ/T10584-94微電子學(xué)光掩蔽技術(shù)術(shù)語3定義3.1規(guī)范中所用術(shù)語的定義除下述修訂外,按SJ/T10152、SJ/T10584的規(guī)定，3.1.1線寬Iinewidth半導(dǎo)體工藝中，線寬是指一根圖形線條的某一垂直橫截面上的寬度,即以構(gòu)成線條的圖形層和下層之