ICS17.180.30N33中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T：19500-)—2004X射線光電子能譜分析方法通則GeneralrulesforX-rayphotoelectronspectroscopicanalysismethod2004-04-30發(fā)布2004-12-01實(shí)施中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T19500-2004三次前言范圍2規(guī)范性引用文件3術(shù)語(yǔ)和定義方法原理45儀器6洋品分析步驛8分析結(jié)果的表述

GB/T19500一2004前本標(biāo)準(zhǔn)提出單位：全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)本標(biāo)準(zhǔn)歸口單位：全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)。本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位：北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：黃惠忠。本標(biāo)準(zhǔn)參加起草人：曹立禮、趙良仲、王亦曼、吳文輝、沈電洪、朱永法、劉」芬、于廣華、吳正龍

GB/T19500—2004X射線光電子能譜分析方法通則范范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了X射線光電子能譜（XPS.X-rayPhotoelectronSpectroscopy或ESCA.ElectronSpeetroscopyforChemicalAnalysis)的一般表面分析方法以及相關(guān)的表面化學(xué)分析術(shù)語(yǔ)的含義.適用于X射線光電子能譜儀。規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過(guò)本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件.其隨后所有的修改單（不包括劫誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而，鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件.其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。JJG013-—1996電子能譜計(jì)量檢定規(guī)程3術(shù)語(yǔ)和定義下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)定量分析quantitativeanalysis對(duì)樣品中被分析物數(shù)量的確定。住1：分析物可以是天然的元素或化合物。住2數(shù)量可表示為原子或質(zhì)量百分?jǐn)?shù)、原子或質(zhì)量分?jǐn)?shù)、每單位體積的摩爾或質(zhì)量、每單位面積的(原子)數(shù)、每單位體積的（原子)數(shù)或按要求所設(shè)。注3:樣品材料可能是非均勾的,因此在解釋中要應(yīng)用特定的模型結(jié)構(gòu),并且需說(shuō)明該模型的細(xì)節(jié)3.2電子減速在電子能量分析器前或分析器內(nèi)使電子運(yùn)動(dòng)速度降低后測(cè)定動(dòng)能分布的方法3.3峰-本底比peak-to-backgroundratio本底強(qiáng)度以上峰的最大高度與本底高度之比注：需給出測(cè)定本底的方法。3.4峰寬或線寬peakwidthorlinewidth在峰高度某個(gè)確定的分?jǐn)?shù)處的峰的寬度住1:應(yīng)說(shuō)明所用的扣除本底方法。注2:最通用的峰寬測(cè)量是取在最大峰高一半處峰的寬度注3:對(duì)不對(duì)稱峰而言，簡(jiǎn)便的測(cè)量是取在峰的每側(cè)最大強(qiáng)度一半處的寬度.3.5飛離角take-orfangle光電子在其離開固體表面時(shí)的軌跡和該處或平