標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 19500-2025 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜分析方法通則》與《GB/T 19500-2004 X射線光電子能譜分析方法通則》相比,在多個(gè)方面進(jìn)行了更新和改進(jìn)。新版標(biāo)準(zhǔn)更加注重技術(shù)細(xì)節(jié)的明確化以及對(duì)實(shí)驗(yàn)條件、數(shù)據(jù)處理方式的具體要求,以適應(yīng)近年來科學(xué)技術(shù)的發(fā)展和技術(shù)手段的進(jìn)步。具體變更包括但不限于以下幾個(gè)方面:
一、術(shù)語定義部分:新增或修訂了部分專業(yè)術(shù)語,確保用詞準(zhǔn)確無誤,便于理解和執(zhí)行。
二、儀器設(shè)備要求:對(duì)于X射線光電子能譜儀的技術(shù)指標(biāo)提出了更高的要求,比如分辨率、穩(wěn)定性等參數(shù),旨在提高測(cè)試結(jié)果的精確度與可靠性。
三、樣品制備流程:細(xì)化了不同類型樣品(如固體、粉末、薄膜)的準(zhǔn)備步驟及注意事項(xiàng),減少了因操作不當(dāng)導(dǎo)致的數(shù)據(jù)偏差。
四、實(shí)驗(yàn)操作規(guī)范:增加了關(guān)于背景扣除、能量校準(zhǔn)等方面的指導(dǎo)性內(nèi)容,強(qiáng)調(diào)了在實(shí)際應(yīng)用中應(yīng)遵循的最佳實(shí)踐原則。
五、數(shù)據(jù)分析方法:引入了更多先進(jìn)的數(shù)據(jù)處理算法,并對(duì)如何正確選擇合適的擬合模型給出了建議,有助于研究人員獲得更準(zhǔn)確的信息。
六、報(bào)告編寫指南:對(duì)實(shí)驗(yàn)報(bào)告的內(nèi)容結(jié)構(gòu)進(jìn)行了優(yōu)化調(diào)整,明確了必須包含的關(guān)鍵信息點(diǎn),使得報(bào)告更具可讀性和參考價(jià)值。
七、安全環(huán)??剂浚杭訌?qiáng)了對(duì)實(shí)驗(yàn)室安全防護(hù)措施和個(gè)人健康保護(hù)的關(guān)注,提倡使用綠色環(huán)保材料和技術(shù)減少環(huán)境污染。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2025-06-30 頒布
- 2026-01-01 實(shí)施
文檔簡(jiǎn)介
ICS7104040
CCSG.04.
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T19500—2025
代替GB/T19500—2004
表面化學(xué)分析X射線光電子能譜分析
方法通則
Surfacechemicalanalysis—GeneralrulesforX-rayphotoelectron
spectroscopicanalysismethod
2025-06-30發(fā)布2026-01-01實(shí)施
國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布
國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T19500—2025
目次
前言
…………………………Ⅲ
引言
…………………………Ⅳ
范圍
1………………………1
規(guī)范性引用文件
2…………………………1
術(shù)語和定義
3………………1
符號(hào)和縮略語
4……………8
方法原理
5…………………9
儀器
6………………………9
儀器組成
6.1……………9
儀器性能
6.2……………13
試樣
7………………………13
分析步驟
8…………………14
概述
8.1…………………14
分析準(zhǔn)備
8.2……………14
分析須知
8.3……………15
定性分析
8.4……………16
定量分析
8.5……………17
成像與微區(qū)分析
8.6……………………18
深度剖析
8.7……………18
數(shù)據(jù)處理與分析
8.8……………………19
結(jié)果報(bào)告
9…………………19
概述
9.1…………………19
基礎(chǔ)信息
9.2……………20
擴(kuò)展信息
9.3……………20
參考文獻(xiàn)
……………………21
Ⅰ
GB/T19500—2025
前言
本文件按照標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第部分標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)定
GB/T1.1—2020《1:》
起草
。
本文件代替射線光電子能譜分析方法通則與相
GB/T19500—2004《X》,GB/T19500—2004
比除結(jié)構(gòu)調(diào)整和編輯性改動(dòng)外主要技術(shù)性變化如下
,,:
更改了規(guī)范性引用文件的引用文件見第章
a)“”(2);
增加了術(shù)語和定義的引用文件及部分術(shù)語和定義見第章
b)“”(3,3.1、3.2、3.4、3.6、3.7、3.8、3.9、
和
3.11、3.19、3.20、3.25、3.26、3.27、3.28、3.32、3.37、3.38、3.393.40);
增加了符號(hào)和縮略語一章見第章
c)“”(4);
更改了方法原理一章見第章年版的第章
d)“”(5,20044);
更改了儀器組成條目中的概述及圖見年版的
e)“”1(6.1.1,20045.1);
更改了射線激發(fā)源條目的描述增加了表和同步輻射光源的描述見年版的
f)“X”,1(6.1.2,2004
5.1.1);
增加了電子透鏡系統(tǒng)條目見
g)“”(6.1.3);
更改電子探測(cè)器條目的描述見年版的
h)“”(6.1.5,20045.1.3);
更改了電荷中和器條目的描述見年版的
i)“”(6.1.7,20045.1.6);
更改了數(shù)據(jù)采集與處理系統(tǒng)條目名稱并增加了內(nèi)容見年版的
j)“”(6.1.9,20045.1.4);
更改了儀器性能條目中的引用文件并增加了陽極功率信號(hào)強(qiáng)度和能量分辨荷電中和
k)“”,、、、
離子濺射等條目見年版的
(6.2,20045.2);
更改了試樣一章的名稱和內(nèi)容見第章年版的第章
l)“”(7,20046);
增加了分析步驟一章的引用文件見
m)“”(8.1);
更改并增加了分析準(zhǔn)備條目中的概述和內(nèi)容見年版的
n)“”(8.2,20047.1);
更改了荷電校正和譜儀能量分辨條目的描述見和年版的和
o)“”“”(8.3.18.3.2,20047.2.1
7.2.2);
增加了成像與微區(qū)分析深度剖析和數(shù)據(jù)處理與分析條目見和
p)“”“”“”(8.6、8.78.8);
更改了結(jié)果報(bào)告一章名稱和內(nèi)容見第章年版的第章
q)“”(9,20048)。
請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專利的責(zé)任
。。
本文件由全國(guó)表面化學(xué)分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口
(SAC/TC608)。
本文件起草單位北京大學(xué)清華大學(xué)北京師范大學(xué)中國(guó)科學(xué)院化學(xué)研究所中國(guó)科學(xué)院物理研
:、、、、
究所
。
本文件主要起草人謝景林徐堯周雄姚文清吳正龍劉芬沈電洪
:、、、、、、。
本文件及其所代替文件的歷次版本發(fā)布情況為
:
年首次發(fā)布為
———2004GB/T19500—2004;
本次為第一次修訂
———。
Ⅲ
GB/T19500—2025
引言
射線光電子能譜是一種廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)和表面化學(xué)領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)技術(shù)它使用射線
X(XPS),X
束照射材料同時(shí)測(cè)量從被分析的材料的頂部深度內(nèi)逸出的光電子的動(dòng)能和數(shù)量來獲得
0nm~10nm
各元素的特征譜圖實(shí)驗(yàn)室使用典型的射線激發(fā)源可以檢測(cè)到除氫和氦以外的所有元素原
XPS。X,(
子序數(shù)Z大部分元素的檢測(cè)限可在千分之幾范圍內(nèi)
≥3),。
方法對(duì)測(cè)試樣品的破壞性小具有高表面靈敏度可用于材料表面化學(xué)組成和電子結(jié)構(gòu)的表
XPS,,
征獲得有關(guān)表面化學(xué)態(tài)原子鍵合構(gòu)型雜質(zhì)或污染物等信息成像和微區(qū)分析技術(shù)具有較高的
,、、。XPS
空間分辨能夠?qū)Σ牧媳砻嫖⒚准?jí)局部區(qū)域進(jìn)行元素分布和化學(xué)態(tài)分析而深度剖析可以得到表
,,XPS
面以下納米級(jí)不同深度的定性及定量結(jié)果
。
本文件描述了分析技術(shù)的基本規(guī)范和方法流程包括儀器結(jié)構(gòu)與功能實(shí)驗(yàn)前的準(zhǔn)備工作實(shí)
XPS,、、
驗(yàn)中的操作步驟以及實(shí)驗(yàn)后的數(shù)據(jù)處理等內(nèi)容涉及試樣的準(zhǔn)備和安裝儀器參數(shù)的選擇和數(shù)據(jù)
,XPS、
采集圖譜處理和定性定量分析以及檢驗(yàn)檢測(cè)報(bào)告的編制等遵照本文件和流程可以確保實(shí)驗(yàn)
、,。,XPS
結(jié)果的準(zhǔn)確性可靠性和可比性為獲得材料表面真實(shí)的電子結(jié)構(gòu)及化學(xué)組成信息提供有力的數(shù)據(jù)
、,
支撐
。
從基礎(chǔ)研究到工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域分析技術(shù)的發(fā)展使科技人員能夠更深入地了解材料表面的特
,XPS
性助力表面化學(xué)及材料科學(xué)的研究在新材料和新技術(shù)的研發(fā)中繼續(xù)發(fā)揮重要作用
,,。
Ⅳ
GB/T19500—2025
表面化學(xué)分析X射線光電子能譜分析
方法通則
1范圍
本文件規(guī)定了射線光電子能譜的一般表面分析方法的通用要求
X(XPS)。
本文件界定了相關(guān)的表面化學(xué)分析術(shù)語
XPS。
本文件適用于射線光電子能譜儀
X。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款其中注日期的引用文
。,
件僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于
,;,()
本文件
。
表面化學(xué)分析詞匯第部分通用術(shù)語及譜學(xué)術(shù)語
GB/T22461.11:
射線光電子能譜儀檢定方法
GB/T25184X
表面化學(xué)分析射線光電子能譜選擇儀器性能參數(shù)的表述
GB/T28892X
表面化學(xué)分析射線光電子能譜分析指南
GB/T30704X
3術(shù)語和定義
中界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件
GB/T22461.1。
31
.
表面surface
凝聚相與氣相蒸汽或自由空間之間的界面
、。
注1固相和氣相之間的界面稱為表面
:。
注2為了表面分析的目的建議對(duì)一般的表面物理表面和實(shí)驗(yàn)表面進(jìn)行區(qū)分表面深度不確定的樣品
:,“”“
溫馨提示
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