標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 32996-2016 表面化學(xué)分析 輝光放電發(fā)射光譜法分析金屬氧化物膜》是一項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn),旨在規(guī)范使用輝光放電發(fā)射光譜技術(shù)對金屬氧化物薄膜進(jìn)行表面化學(xué)成分分析的方法。該標(biāo)準(zhǔn)適用于通過輝光放電發(fā)射光譜技術(shù)測定金屬基底上形成的氧化層或涂層的元素組成及分布情況,特別是對于那些難以采用傳統(tǒng)濕化學(xué)方法或其他物理手段直接獲取信息的情況尤為適用。
在具體操作過程中,首先需要準(zhǔn)備樣品,確保其清潔無污染,并且尺寸和形狀適合放入輝光放電發(fā)射光譜儀中;其次,在儀器設(shè)置方面,根據(jù)待測材料特性選擇合適的激發(fā)條件(如功率、氣體壓力等),以獲得最佳信號強(qiáng)度與分辨率;接著,利用校準(zhǔn)曲線將實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為實(shí)際濃度值;最后,基于所收集到的信息對樣品表面的化學(xué)性質(zhì)做出評價(jià)。
如需獲取更多詳盡信息,請直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
....
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 32996-2025
- 2016-10-13 頒布
- 2017-09-01 實(shí)施
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GB/T 32996-2016表面化學(xué)分析輝光放電發(fā)射光譜法分析金屬氧化物膜-免費(fèi)下載試讀頁文檔簡介
ICS7104040
G04..
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T32996—2016/ISO/TS251382010
:
表面化學(xué)分析輝光放電發(fā)射光譜法
分析金屬氧化物膜
Surfacechemicalanalysis—Analysisofmetaloxidefilmsby
glow-dischargeopticalemissionspectrometry
(ISO/TS25138:2010,IDT)
2016-10-13發(fā)布2017-09-01實(shí)施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布
中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
GB/T32996—2016/ISO/TS251382010
:
目次
前言
…………………………Ⅰ
范圍
1………………………1
規(guī)范性引用文件
2…………………………1
原理
3………………………1
儀器
4………………………1
調(diào)節(jié)輝光放電譜儀系統(tǒng)設(shè)置
5……………3
樣品處理
6…………………6
建立工作曲線
7……………7
測試樣品的分析
8…………………………11
分析結(jié)果的表示
9…………………………12
精密度
10…………………13
實(shí)驗(yàn)報(bào)告
11………………13
附錄規(guī)范性附錄工作曲線常數(shù)的計(jì)算和深度剖析的定量評價(jià)
A()…………………14
附錄資料性附錄測定元素的建議譜線
B()……………22
附錄資料性附錄氧化物密度和相關(guān)量ρ的實(shí)例
C()0………………24
附錄資料性附錄金屬氧化物膜實(shí)驗(yàn)室間試驗(yàn)報(bào)告
D()………………25
參考文獻(xiàn)
……………………30
GB/T32996—2016/ISO/TS251382010
:
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)使用翻譯法等同采用表面化學(xué)分析輝光放電發(fā)射光譜法分析金屬
ISO/TS25138:2010《
氧化物膜
》。
與本標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)范性引用的國際文件有一致性對應(yīng)關(guān)系的我國文件如下
:
表面化學(xué)分析輝光放電發(fā)射光譜方法通則
———GB/T19502—2004(ISO14707:2000,IDT);
鋼和鐵化學(xué)成分測定用試樣的取樣與制樣方法
———GB/T20066—2006(ISO14284:1996,
IDT)。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會提出并歸口
(SAC/TC38)。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位上海市計(jì)量測試技術(shù)研究院華東師范大學(xué)中國科學(xué)院化學(xué)研究所
:、、。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人徐建郝萍張?jiān)破G劉芬吳立敏陳永康朱麗娜周瑩
:、、、、、、、。
Ⅰ
GB/T32996—2016/ISO/TS251382010
:
表面化學(xué)分析輝光放電發(fā)射光譜法
分析金屬氧化物膜
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了利用輝光放電發(fā)射光譜測定金屬氧化物膜厚度單位面積質(zhì)量和金屬氧化物膜化學(xué)
、
組成的方法
。
本方法適用于測定金屬上厚度為的氧化物膜氧化物的金屬元素包括鐵鉻
1nm~10000nm,、、
鎳銅鈦硅鉬鋅鎂錳和鋁中的一種或多種其他可測元素還包括氧碳氮?dú)淞缀土?/p>
、、、、、、、。、、、、。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
鋼和鐵化學(xué)成分測定用試樣的取樣和制樣方法
ISO14284(Steelandiron—Samplingand
preparationofsamplesforthedeterminationofchemicalcomposition)
表面化學(xué)分析輝光放電發(fā)射光譜方法通則
ISO14707[Surfacechemicalanalysis—Glowdischarge
opticalemissionspectrometry(GD-OES)—Introductiontouse]
表面化學(xué)分析輝光放電光發(fā)射光譜鋅和或鋁基金屬鍍層的分析
GB/T29559—2013/
(ISO16962:2005,IDT)
3原理
輝光放電發(fā)射光譜法的分析包括如下過程
:
在直流或射頻輝光放電源裝置中使金屬氧化物表面產(chǎn)生陰極濺射
a),;
在輝光放電裝置中分析物原子在等離子體中被激發(fā)
b),;
被測物原子特征譜線發(fā)射強(qiáng)度隨時(shí)間變化的光譜測量深度剖析
c)();
通過工作曲線將深度剖析中強(qiáng)度隨時(shí)間的變化轉(zhuǎn)化為質(zhì)量分?jǐn)?shù)隨濺射深度的變化定量化
d),()。
通過測量已知化學(xué)成分和濺射率的樣品建立系統(tǒng)工作曲線
。
4儀器
41輝光放電發(fā)射光譜儀
.
411概述
溫馨提示
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