ICS7104040

G04..

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T34174—2017/ISO/TR162682009

:

表面化學(xué)分析工作參考物質(zhì)中離子

注入產(chǎn)生的駐留面劑量定值的推薦程序

Surfacechemicalanalysis—Proposedprocedureforcertifyingtheretained

areicdoseinaworkingreferencematerialproducedbyionimplantation

(ISO/TR16268:2009,IDT)

2017-09-07發(fā)布2018-08-01實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T34174—2017/ISO/TR162682009

:

目次

前言

…………………………Ⅲ

引言

…………………………Ⅳ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

術(shù)語(yǔ)和定義

3………………1

符號(hào)和縮略語(yǔ)

4……………4

概念和程序

5………………5

要求

6………………………7

定值

7………………………8

附錄資料性附錄離子注入

A()…………10

附錄資料性附錄離子注入劑量

B()……………………11

附錄資料性附錄射線熒光光譜術(shù)

C()X………………12

附錄資料性附錄非定值二級(jí)參考物質(zhì)及其替代物

D()………………13

附錄資料性附錄面劑量測(cè)量中的不確定度

E()………14

參考文獻(xiàn)

……………………17

Ⅰ

GB/T34174—2017/ISO/TR162682009

:

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)使用翻譯法等同采用表面化學(xué)分析工作參考物質(zhì)中離子注入產(chǎn)生

ISO/TR16268:2009《

的駐留面劑量定值的建議程序

》。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口

(SAC/TC38)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位中國(guó)科學(xué)院化學(xué)研究所中國(guó)石化石油化工科學(xué)研究院國(guó)家納米科學(xué)中心

:、、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人邱麗美劉芬徐鵬刁玉霞趙志娟章小余

:、、、、、。

Ⅲ

GB/T34174—2017/ISO/TR162682009

:

引言

本標(biāo)準(zhǔn)匯總經(jīng)驗(yàn)后提供一個(gè)尚未被驗(yàn)證為完整程序的推薦程序以描述獲得一個(gè)定值工作參考物

,

質(zhì)時(shí)的常見(jiàn)問(wèn)題此用于給定晶圓片狀固體材料的表面化學(xué)定量分析此處討論的

(WoRM),WoRM。

已離子注入某種原子序數(shù)比大的化學(xué)元素稱作分析物的同位素其初始晶片由分析者選

WoRMSi(),

擇或準(zhǔn)備通過(guò)推薦程序?qū)χ旭v留分析物的面劑量進(jìn)行定值

。WoRM。

離子注入晶片中的分析物的駐留面劑量通過(guò)與硅片上離子注入的同種分析物的駐留面劑

WoRM

量進(jìn)行比較測(cè)量得到定值并且此硅片為二級(jí)參考物質(zhì)最好已定值比較測(cè)量分兩步進(jìn)行

,(SeRM)()。,

其中用到作為中間物質(zhì)的第三種參考物質(zhì)和兩種測(cè)試技術(shù)波長(zhǎng)色散射線熒光光譜和離

(X(WD/XRF)

子注入劑量術(shù)作為傳遞參考物質(zhì)的中間參考物質(zhì)同樣是一片離子注入的硅片且與

)。(TrRM),,

是非等同孿生注入的即它與同時(shí)生成但基片類型和駐留面劑量與不同

WoRM()(WoRM,WoRM)。

它的首要功能是在對(duì)進(jìn)行直接測(cè)量中避免可能的二次激發(fā)效應(yīng)其次是在駐留面劑

WoRMWD/XRF;

量遠(yuǎn)低于測(cè)量范圍時(shí)也允許被定值

WD/XRFWoRM。

的定值是參考物質(zhì)表征的新概念和程序的一部分在此概念中和

WoRM。,WoRM、TrRMSeRM

在系列參考物質(zhì)及其定值中有它們各自的作用是分析者責(zé)任范圍和參考物質(zhì)供應(yīng)商責(zé)任范圍

。SeRM

之間的傳遞物質(zhì)此標(biāo)準(zhǔn)假設(shè)能獲得一個(gè)合適的描述了分析者責(zé)任區(qū)的部分程序當(dāng)獲得一

。SeRM,。

個(gè)后為進(jìn)行駐留面劑量的比較測(cè)量分析者需同時(shí)有合適的離子注入機(jī)和合適的波長(zhǎng)色散

SeRM,,X

射線熒光光譜儀

。

的晶片性質(zhì)特別適合半導(dǎo)體材料分析但不局限于此應(yīng)用然而在表面分析技術(shù)的選擇

WoRM,。,

上存在限制雖然樣品和的分析物及基片或許相同但是分析物可能存在不同的化學(xué)態(tài)和不

。WoRM,

同的深度分布采用時(shí)所選擇的表面分析技術(shù)需對(duì)分析物的化學(xué)態(tài)不敏感且允許對(duì)不同深

。WoRM,,

度分布進(jìn)行校正才能獲得有意義的結(jié)果此問(wèn)題可在二次離子質(zhì)譜分析中使用特殊參考物來(lái)解決

,。。

當(dāng)選擇合適的表面分析技術(shù)后可用于均勻的離子注入的擴(kuò)散的分層的分析物的深度分布

,WoRMs、、、

測(cè)量

。

此標(biāo)準(zhǔn)主要根據(jù)參考文獻(xiàn)[1]

。

Ⅳ

GB/T34174—2017/ISO/TR162682009

:

表面化學(xué)分析工作參考物質(zhì)中離子

注入產(chǎn)生的駐留面劑量定值的推薦程序

1范圍

對(duì)表面分析用的工作參考物質(zhì)中離子注入原子序數(shù)大于硅的分析物元素本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了

(WoRM),

對(duì)其駐留面劑量進(jìn)行定值的程序?yàn)榻M成均勻的標(biāo)稱直徑不小于的拋光或類似磨

。WoRM、50mm(

面基片也稱作基片并已離子注入一種基片上不存在的某種化學(xué)元素的同位素也稱作分析物其

)(),(),

標(biāo)稱面劑量范圍通常為162至132即半導(dǎo)體技術(shù)中最感興趣的范圍

10atoms/cm10atoms/cm()。WoRM

晶片中離子注入分析物的面劑量是通過(guò)與二級(jí)參考物質(zhì)硅片中注入相同分析物的駐留面劑

,(SeRM)

量比較而進(jìn)行定值的

。

本標(biāo)準(zhǔn)提供了定值的概念和程序方面的信息同時(shí)也有對(duì)參考物質(zhì)要求比較測(cè)量和實(shí)

WoRM。、

際定值的描述離子注入離子注入劑量術(shù)波長(zhǎng)色散射線熒光光譜和無(wú)法得到時(shí)的無(wú)證替

。、、XSeRM

代物的補(bǔ)充材料見(jiàn)附錄到附錄定值過(guò)程中產(chǎn)生的不確定度來(lái)源和數(shù)值見(jiàn)附錄

AD。E。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

表面化學(xué)分析詞匯

ISO18115(Surfacechemicalanalysis—Vocabulary)

3術(shù)語(yǔ)和定義

界定的以及下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件

ISO18115。

31

.

定值certification

對(duì)某一參考物質(zhì)按某一程序定值將某一屬性的值溯源至可用準(zhǔn)確單位來(lái)表達(dá)該屬性值的行為

,。,

并賦予認(rèn)定值在給定置信度下的不確定度

。

注該術(shù)語(yǔ)可同時(shí)用于確認(rèn)行為即通過(guò)一個(gè)程序來(lái)定值和證書(shū)發(fā)布以表述該程序定值的內(nèi)容

:“”()“”。

32

.

下臨界能lowercriticalenerg