第一部分射線(xiàn)檢測(cè) 共: 690題 其中: 是非題?213題? 選擇題?283題 ? 問(wèn)答題?７9題? 計(jì)算題 115題?一、是非題1.1 原子序數(shù)Z等于原子核中的質(zhì)子數(shù)量。?(）1．2 為了使原子呈中性，原子核中的質(zhì)子數(shù)必須等于核外的電子數(shù)。 (）1.3?當(dāng)原子核內(nèi)的中子數(shù)改變時(shí)，它就會(huì)變?yōu)榱硪环N元素。 （)1.4 當(dāng)一個(gè)原子增長(zhǎng)一個(gè)質(zhì)子時(shí)，仍可保持元素的種類(lèi)不變。?()1.５ 原子序數(shù)相同而原子量不同的元素,我們稱(chēng)它為同位素。?（)1.6?不穩(wěn)定同位素在衰變過(guò)程中,始終要輻射γ射線(xiàn)。?（）１.7 不同種類(lèi)的同位素,放射性活度大的總是比放射性活度小的具有更高的輻射劑量。? (）1.8 放射性同位素的半衰期是指放射性元素的能量變?yōu)楸緛?lái)一半所需要的時(shí)間。??（）1.9 各種γ射線(xiàn)源產(chǎn)生的射線(xiàn)均是單能輻射。?（)1.10?α射線(xiàn)和β射線(xiàn)雖然有很強(qiáng)的穿透能力,但由于對(duì)人體輻射傷害太大,所以一般不用于工業(yè)探傷。?()１.11 將元素放在核反映堆中受過(guò)量中子轟擊,從而變成人造放射性同位素，這一過(guò)程稱(chēng)為“激活”。?()1.12 與其他放射性同位素不同,Cs1３７是原子裂變的產(chǎn)物,在常溫下呈液態(tài),使用前須防止泄漏污染。 ()1.13 與Ir１９2相比,Ｓe75放射性同位素的半衰期更短,因此其衰變常數(shù)λ也更小一些。?（)1.14?射線(xiàn)能量越高,傳播速度越快,例如γ射線(xiàn)比X射線(xiàn)傳播快。 （)１．1５ Ｘ射線(xiàn)或γ射線(xiàn)強(qiáng)度越高，其能量就越大。?（）1.16?X射線(xiàn)或γ射線(xiàn)是以光速傳播的微小的物質(zhì)粒子。?（）１.17 當(dāng)X射線(xiàn)通過(guò)2個(gè)半價(jià)層后,其能量?jī)H僅剩下最初的１/4。?（)１．1８?假如母材的密度比缺陷的密度大一倍，而母材的原子序數(shù)比缺陷的原子序數(shù)小一半時(shí)，缺陷在底片上所成的象是白斑。?（）1.19 標(biāo)記X射線(xiàn)具有高能量,那是由于高速電子同靶原子核相碰撞的結(jié)果。 （）1.20 連續(xù)X射線(xiàn)是高速電子同靶原子的軌道電子相碰撞的結(jié)果。 (）1.21?Ｘ射線(xiàn)的波長(zhǎng)與管電壓有關(guān)。?（）1.22?X射線(xiàn)機(jī)產(chǎn)生X射線(xiàn)的效率比較高,大約有９5%的電能轉(zhuǎn)化為X射線(xiàn)的能量。 ()1.2３ 一種同位素相稱(chēng)于多少千伏或兆伏能力的X射線(xiàn)機(jī)來(lái)做相同的工作，這種關(guān)系叫做同位素的當(dāng)量能。 （）１.24 同能量的γ射線(xiàn)和Ｘ射線(xiàn)具有完全相同的性質(zhì)。?（)１.２５ X射線(xiàn)的強(qiáng)度不僅取決于X射線(xiàn)機(jī)的管電流并且還取決于Ｘ射線(xiàn)機(jī)的管電壓。??（)１.26?與Cｏ60相對(duì),Cs137發(fā)出的γ射線(xiàn)能量較低,半衰期較短。?()1.27?光電效應(yīng)中光子被完全吸取,而康普頓效應(yīng)中光子未被完全吸取。?（)1.28?一能量為30０ＫeV的光子與原子互相作用，使一軌道電子脫離50KeＶ結(jié)合能的軌道,且具有50KeV動(dòng)能飛出，則新光子的能量是20０KeV。 (）1.２９ 光電效應(yīng)的發(fā)生幾率隨原子序數(shù)的增大而增長(zhǎng)。?（）１．３0?光電子又稱(chēng)為反沖電子。 (）1．3１ 隨著入射光子能量的增大，光電吸取系數(shù)迅速減少,康普頓衰減系數(shù)逐漸增大。??()１.32 當(dāng)射線(xiàn)能量在1.02ＭeＶ至1０MeV區(qū)間,與物質(zhì)互相作用的重要形式是電子對(duì)效應(yīng)。? (）1.33?連續(xù)X射線(xiàn)穿透物質(zhì)后，強(qiáng)度減弱，線(xiàn)質(zhì)不變。 （）1.34?射線(xiàn)通過(guò)材料后，其強(qiáng)度的９/1０被吸取,該厚度即稱(chēng)作1/10價(jià)層。 （）1.35?當(dāng)射線(xiàn)穿過(guò)三個(gè)半價(jià)層后，其強(qiáng)度僅剩下最初的1/8。 （)1.36 連續(xù)X射線(xiàn)的有效能量是指穿透物質(zhì)后,未被物質(zhì)吸取的能量。所以穿透厚度越大,有效能量越小。?（)1．37 Co60和Ir192射線(xiàn)源是穩(wěn)定的同位素在核反映堆中俘獲中子而得到的,當(dāng)射線(xiàn)源通過(guò)幾個(gè)半衰期后,將其放在核反映堆中激活,可反復(fù)使用。 (）1.38?X射線(xiàn)和γ射線(xiàn)都是電磁輻射,而中子射線(xiàn)不是電磁輻射。?()1.39?放射性同位素的當(dāng)量能總是高于其平均能。 （）1．4０ X射線(xiàn)與可見(jiàn)光本質(zhì)上的區(qū)別僅僅是振動(dòng)頻率不同。?（)１.41?高速電子與靶原子的軌道電子相撞發(fā)出X射線(xiàn),這一過(guò)程稱(chēng)作韌致輻射。? ()１．42?連續(xù)X射線(xiàn)的能量與管電壓有關(guān),與管電流無(wú)關(guān)。?（)1．43?連續(xù)X射線(xiàn)的強(qiáng)度與管電流有關(guān)，與管電壓無(wú)關(guān)。 （)1.4４ 標(biāo)記X射線(xiàn)的能量與管電壓、管電流均無(wú)關(guān)，僅取決于靶材料。 (）1.４5 X射線(xiàn)與γ射線(xiàn)的基本區(qū)別是后者具有高能量,可以穿透較厚物質(zhì)。 ()１.46?采用一定措施可以使射線(xiàn)照射范圍限制在一個(gè)社區(qū)域,這樣的射線(xiàn)稱(chēng)為窄束射線(xiàn)。 ()1.4７ 對(duì)鋼、鋁、銅等金屬材料來(lái)說(shuō)，射線(xiàn)的質(zhì)量吸取系數(shù)值總是小于線(xiàn)吸取系數(shù)值。? （)1．48?原子核的穩(wěn)定性與核內(nèi)中子數(shù)有關(guān),核內(nèi)中子數(shù)越小，核就越穩(wěn)定。?（)1.４9 通過(guò)一次衰變,元素的原子序數(shù)Z增長(zhǎng)1，而通過(guò)一次α衰變,元素的原子序數(shù)Ｚ將減少2。 ()１.5０?放射性同位素衰變常數(shù)越小,意味著該同位素半衰期越長(zhǎng)。１.5１?在管電壓、管電流不變的前提下，將Ｘ射線(xiàn)管的靶材料由鉬改為鎢，所發(fā)生的射線(xiàn)強(qiáng)度會(huì)增大。 （）1.５2 在工業(yè)射線(xiàn)探傷中，使膠片感光的重要是連續(xù)譜X射線(xiàn)，標(biāo)記譜X射線(xiàn)不起什么作用。 (）1.53 Ir１９2射線(xiàn)與物質(zhì)互相作用,肯定不會(huì)發(fā)生電子對(duì)效應(yīng)。?(）1.54 高能X射線(xiàn)與物質(zhì)互相作用的重要形式之一是瑞利散射。 （)1.５5?連續(xù)X射線(xiàn)穿透物質(zhì)后，強(qiáng)度減弱,平均波長(zhǎng)變短。?(）2.1?X光管的有效焦點(diǎn)總是小于實(shí)際焦點(diǎn)。 ()2.2?X射線(xiàn)機(jī)中的焦點(diǎn)尺寸，應(yīng)盡也許大，這樣發(fā)射的X射線(xiàn)能量大,同時(shí)也可防止靶過(guò)份受熱。 ()２.３ X射線(xiàn)管中電子的速度越小，則所發(fā)生的射線(xiàn)能量也就越小。?（）2.4?由于X射線(xiàn)機(jī)的電壓峰值(ＫVP）容易使人誤解,所以X射線(xiàn)機(jī)所發(fā)出的射線(xiàn)能量用電壓的平均值表達(dá)。?(）2.５?全波整流Ｘ射線(xiàn)機(jī)所產(chǎn)生射線(xiàn)的平均能比半波整流Ｘ射線(xiàn)機(jī)所產(chǎn)生射線(xiàn)的平均能高。?(）2.6 移動(dòng)式X射線(xiàn)機(jī)只能室內(nèi)小范圍移動(dòng),不能到野外作業(yè)。 （)2.7 移動(dòng)式X射線(xiàn)機(jī)有油冷和氣冷兩種絕緣介質(zhì)冷卻方式。 ()2.8 相同千伏值的金屬陶瓷管和玻璃管，前者體積和尺寸小于后者。?（）2.9 “變頻”是減小Ｘ射線(xiàn)機(jī)重量的有效措施之一。?（)2.１0 放射性同位素的比活度越大，其輻射強(qiáng)度也就越大。 （）2.11 適宜探測(cè)厚度10０ｍm以上鋼試件γ源的是Ｃo60，透宜探測(cè)厚度20mm以下鋼試件的γ源是I2.12?黑度定義為阻光率的常用對(duì)數(shù)值。?()2．13?底片黑度D=1，即意味著透射光強(qiáng)為入射光強(qiáng)的十分之一。 ()2.14 ＩSＯ感光度１0０的膠片，達(dá)成凈黑度２．0所需的曝光量為100戈瑞。?（）2.１5?能量較低的射線(xiàn)較更容易被膠片吸取，引起感光,因此,射線(xiàn)透照時(shí)防止散射線(xiàn)十分重要。?（)2．16 用來(lái)說(shuō)明管電壓、管電流和穿透厚度關(guān)系的曲線(xiàn)稱(chēng)為膠片特性曲線(xiàn)。 （）2.1７?膠片達(dá)成一定黑度所需的照射量(即倫琴數(shù))與射線(xiàn)質(zhì)無(wú)關(guān)。 ()2．18 同一膠片對(duì)不同能量的射線(xiàn)具有不同的感光度。 （)2．１9 比活度越小，即意味著該放射性同位素源的尺寸可以做得更小。 （）2．2０ 膠片灰霧度涉及片基固有密度和化學(xué)灰霧密度兩部分。 (）２.21?非增感型膠片反差系數(shù)隨黑度的增長(zhǎng)而增大，而增感型膠片反差系數(shù)隨黑度增長(zhǎng)的增大而減小。?(）2.22?在常用的100KV－４0０ＫVＸ射線(xiàn)能量范圍內(nèi)，鉛箔增感屏的增感系數(shù)隨其厚度的增大而減小。?(）２.23?對(duì)X射線(xiàn),增感系數(shù)隨射線(xiàn)能量的增高而增大。但對(duì)γ射線(xiàn)來(lái)說(shuō)則不是這樣,例如,鉆6０的增感系數(shù)比銥１92低。?()2.24?對(duì)X射線(xiàn)機(jī)進(jìn)行“訓(xùn)練”的目的是為了排出絕緣油中的氣泡。 （)2.２５ X和射線(xiàn)的本質(zhì)是相同的,但射線(xiàn)來(lái)自同位素,而X射線(xiàn)來(lái)自于一個(gè)以高壓加速電子的裝置。?()２．26?在任何情況下，同位素都有優(yōu)于Ｘ射線(xiàn)設(shè)備，這是由于使用它能得到更高的對(duì)比度和清楚度。 （)2.２7 對(duì)于某一同位素放射源，其活度越大，則所發(fā)出的射線(xiàn)強(qiáng)度也越大。?(）2．２8 將一張具有針孔的鉛板放于X射線(xiàn)管和膠片之間的中間位置上,可以用來(lái)測(cè)量中心射線(xiàn)的強(qiáng)度。?（)2．29 相同標(biāo)稱(chēng)千伏值和毫安值的X射線(xiàn)機(jī)所產(chǎn)生的射線(xiàn)強(qiáng)度和能量必然相同。 ?（）２.3０ 所謂“管電流”就是流過(guò)X射線(xiàn)管燈絲的電流。 （)2.３１?放射源的比活度越大,其半衰期就越短。 (）２．32?膠片對(duì)比度與射線(xiàn)能量有關(guān),射線(xiàn)能量越高，膠片對(duì)比度越小。 (）2.33 膠片特性曲線(xiàn)的斜率用來(lái)度量膠片的對(duì)比度。 （)２．３４?從實(shí)際應(yīng)用的角度來(lái)說(shuō),射線(xiàn)的能量對(duì)膠片特性曲線(xiàn)形狀基本上不產(chǎn)生影響。? （)2.35?寬容度大的膠片其對(duì)比度必然低。 （）2.36?顯影時(shí)間延長(zhǎng)，將會(huì)使特性曲線(xiàn)變陡，且在座標(biāo)上的位置向左移。?（）２.37 膠片特性曲線(xiàn)在座標(biāo)上的位置向左移,意味著膠片感光速度減小。?（)2.３8 與一般膠片不同,X射線(xiàn)膠片雙面涂布感光乳劑層,其目的是為了增長(zhǎng)感光速度和黑度。 （）2.3９ “潛象”是指在沒(méi)有強(qiáng)光燈的條件下不能看到的影像。 ()2．4０ 鉛增感屏除有增感作用外，尚有減少散射線(xiàn)的作用，因此在射線(xiàn)能穿透的前提下，應(yīng)盡量選用較厚的鉛屏。?()2．４１ 透照不銹鋼焊縫,可以使用碳素鋼絲象質(zhì)計(jì)2.42?透照鈦焊縫,必須使用鈦金屬絲象質(zhì)計(jì)。?（）2．４3 透照鎳基合金焊縫時(shí)使用碳素鋼絲象質(zhì)計(jì)，假如底片上顯示的線(xiàn)徑編號(hào)剛剛達(dá)成標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定值，則該底片的實(shí)際靈敏度肯定達(dá)不到標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的規(guī)定。?()２.44 由于鉛箔增感屏的增感系數(shù)高于熒光增感屏,所以得到廣泛使用。 (）2．45 膠片鹵化銀粒度就是顯影后底片的顆粒度。 (）2.46 梯噪比高的膠片成像質(zhì)量好。?(）２.47?膠片系統(tǒng)分類(lèi)的重要依據(jù)是膠片感光速度和梯噪比。 （）3.1?影象顆粒度完全取決于膠片乳劑層中鹵化銀微粒尺寸的大小。?（)3．２ 象質(zhì)計(jì)靈敏度1．５%,就意味著尺寸大于透照厚度１.５%的缺陷均可被檢出。? （)3.３?使用較低能量的射線(xiàn)可得到較高的主因?qū)Ρ榷取?（)3．４?射線(xiàn)照相時(shí),若千伏值提高，將會(huì)使膠片對(duì)比度減少。 (）３．5?一般來(lái)說(shuō)，對(duì)厚度差較大的工件,應(yīng)使用較高能量射線(xiàn)透照,其目的是減少對(duì)比度，增大寬容度。?（)３.６?增大曝光量可提高主因?qū)Ρ榷取?()3.7 當(dāng)射線(xiàn)的有效量增長(zhǎng)到大約250KV以上時(shí),就會(huì)對(duì)底片顆粒度產(chǎn)生明顯影響。??（)3.8?增大最小可見(jiàn)對(duì)比度ΔDmin，有助于辨認(rèn)小缺陷。?()３.9 射線(xiàn)照相主因?qū)Ρ榷扰c入射線(xiàn)的能譜有關(guān),與強(qiáng)度無(wú)關(guān)。 ()3.１0 用增大射源到膠片距離的辦法可減少射線(xiàn)照相固有不清楚度。 ()3．1１?減小幾何不清楚度的途徑之一，就是使膠片盡也許地靠近工件。 (）3.12 運(yùn)用陽(yáng)極側(cè)射線(xiàn)照相所得到的底片的幾何不清楚度比陰極側(cè)好。?(）3．１3?膠片的顆粒越粗，則引起的幾何不清楚度就越大。?(）3．14?使用γ射線(xiàn)源可以消除幾何不清楚度。 （）3．15?增長(zhǎng)源到膠片的距離可以減小幾何清楚度，但同時(shí)會(huì)引起固有不清楚度增大。? (）３.1６ 膠片成象的顆粒性會(huì)隨著射線(xiàn)能量的提高而變差。?()3.１7?對(duì)比度、清楚度、顆粒度是決定射線(xiàn)照相靈敏度的三個(gè)重要因素。?（）3.18?膠片對(duì)比度和主因?qū)Ρ榷染c工件厚度變化引起的黑度差有關(guān)。 (）3.１9 使用較低能量的射線(xiàn)可提高主因?qū)Ρ榷?但同時(shí)會(huì)減少膠片對(duì)比度。 （）3.20 膠片的粒度越大，固有不清楚度也就越大。?（）３.21 顯影局限性或過(guò)度,會(huì)影響底片對(duì)比度,但不會(huì)影響顆粒度。?（）3．22 事實(shí)上由射線(xiàn)能量引起的不清楚度和顆粒度是同一效應(yīng)的不同名稱(chēng)。?(）3．23 當(dāng)缺陷尺寸大大小于幾何不清楚度尺寸時(shí)，影象對(duì)比度會(huì)受照相幾何條件的影響。? (）３.２4?可以采用增大焦距的辦法使尺寸較大的源的照相幾何不清楚度與尺寸較小的源完全同樣。 （）3.2５ 假如信噪比不夠,即使增大膠片襯度，也不也許辨認(rèn)更小的細(xì)節(jié)影像。?（）3.26 散射線(xiàn)只影響主因?qū)Ρ榷?，不影響膠片對(duì)比度。?（)3.2７?底片黑度只影響膠片對(duì)比度,與主因?qū)Ρ榷葻o(wú)關(guān)。 ()3.28?射線(xiàn)的能量同時(shí)影響照相的對(duì)比度、清楚度和顆粒度。 （）3.２9?透照有余高的焊縫時(shí)，所選擇的“最佳黑度”就是指是能保證焊縫部位和母材部位得到相同角質(zhì)計(jì)靈敏度顯示的黑度值。?()3.３0 由于最小可見(jiàn)對(duì)比度ΔＤmin隨黑度的增大而增大，所以底片黑度過(guò)大會(huì)對(duì)缺陷辨認(rèn)產(chǎn)生不利的影響。 (）3.３1 底片黑度只影響對(duì)比度，不影響清楚度。?()3.32?實(shí)驗(yàn)證明,平板試件照相，底片最佳黑度值大約在2.5左右。 (）3.3３?固有不清楚度是由于使溴化銀感光的電子在乳劑層中有一定穿越行程而導(dǎo)致的。??（)３．34?底片可以記錄的影象細(xì)節(jié)的最小尺寸取決于顆粒度。 (）3．35 對(duì)有余高的焊縫照相，應(yīng)盡量選擇較低能量的射線(xiàn)，以保證焊縫區(qū)域有較高的對(duì)比度。 (）3.36?對(duì)比度修正系數(shù)σ值與缺陷的截面形狀有關(guān),例如裂紋的截面形狀與象質(zhì)計(jì)金屬絲不同,兩者的σ值也不同。 （)3．3７ 由于底片上影象信噪比隨曝光量的增長(zhǎng)而增大，所以增長(zhǎng)曝光量有助于缺陷影象辨認(rèn)。 （）3.38 射線(xiàn)照相的信噪比與膠片梯噪比具有不同含義。 （）4.１?按照“高靈敏度法”的規(guī)定,3０0KVX射線(xiàn)可透照鋼的最大厚度大約是40mm。? (）4．2 γ射線(xiàn)照相的優(yōu)點(diǎn)是射源尺寸小，且對(duì)大厚度工件照相曝光時(shí)間短。?（）4.3 選擇較小的射源尺寸df,或者增大焦距值F,都可以使照相Ug值減小。 （）4．４ 欲提高球罐內(nèi)壁表面的小裂紋檢出率，采用源在外的透照方式比源在內(nèi)的透照方式好。 （)4.5?環(huán)焊縫的各種透照方式中，以源在內(nèi)中心透照周向曝光法為最佳方式。 ()4．６ 無(wú)論采用哪一種透照方式,一次透照長(zhǎng)度都隨著焦距的增大而增大。 ()4.7 所謂“最佳焦距”是指照相幾何不清楚度Ug與固有不清楚度Ui相等時(shí)的焦距值。 ?()４.8?已知銅的等效系數(shù)Ψ銅=1.5,則透照同樣厚度的鋼和銅時(shí)，后者的管電壓應(yīng)為前者的1.5倍。?（)4.9 對(duì)有余高的焊縫進(jìn)行透照，熱影響區(qū)部位的散射比要比焊縫中心部位大得多。 ?（）4.10?源在內(nèi)透照時(shí),搭接標(biāo)記必須放在射源側(cè)。 （）４.11 背散射線(xiàn)的存在,會(huì)影響底片的對(duì)比度。通?？稍诠ぜ湍z片之間放置一個(gè)鉛字Ｂ來(lái)驗(yàn)證背散射線(xiàn)是否存在。 (）4.1２ 不管采用何種透照布置,為防止漏檢,搭接標(biāo)記均應(yīng)放在射源側(cè)。?（）4.１3?由于“互易定律失效”，采用熒光增感時(shí),根據(jù)曝光因子公式選擇透照參數(shù)也許會(huì)產(chǎn)生較大誤差。 （)4．１4 當(dāng)被透工件厚度差較大時(shí),就會(huì)有“邊蝕散射”發(fā)生。４.１５?在源和工件之間放置濾板來(lái)減小散射線(xiàn)的措施對(duì)γ射線(xiàn)并不合用。 ()4.16?使用“濾板”可增大照相寬容度,但濾板最佳是放在工件和膠片之間。?()4.17?在源和工件之間放置濾板減小散射線(xiàn)的措施對(duì)于平板工件照相并不合用。?(）4.18 在實(shí)際工作中正常使用的焦距范圍內(nèi)，可以認(rèn)為焦距對(duì)散射比沒(méi)有影響。?(）4.19?采用平靶周向X射線(xiàn)機(jī)對(duì)環(huán)縫作內(nèi)透中心法周向曝光時(shí),有助于檢出橫向裂紋,但不利于檢出縱向裂紋。?()４.20 采用源在外單壁透照方式，如K值不變,則焦距越大,一次透照長(zhǎng)度L3就越大。? （）4.21 采用雙壁單影法透照時(shí),如保持K值不變，則焦距越大,一次透照長(zhǎng)度L3就越小。 （）4.22?用單壁法透照環(huán)焊縫時(shí),所用搭接標(biāo)記均應(yīng)放在射源側(cè)工件表面，以免端部缺陷漏檢。 (）4.23 對(duì)某一曝光曲線(xiàn)，應(yīng)使用同一類(lèi)型的膠片，但可更換不同的X射線(xiàn)機(jī)。?()4.2４?使用γ射線(xiàn)曝光曲線(xiàn)時(shí),一方面應(yīng)知道射線(xiàn)源在給定期間的活度。?(）4.25?假如已知等效系數(shù)，用X射線(xiàn)曝光曲線(xiàn)來(lái)代替γ射線(xiàn)曝光曲線(xiàn),也能求出曝光參數(shù)。?()4.26 小徑管射線(xiàn)照相采用垂直透照法比傾斜透照法更有助于檢出根部未熔合。? （）4.2７?增大透照厚度寬容度最常用的辦法是適當(dāng)提高射線(xiàn)能量。?（)4.2８ 對(duì)尺寸很小的缺陷,其影象的對(duì)比度不僅與射線(xiàn)能量有關(guān),并且與焦距有關(guān)。 ?()4.29 材料的種類(lèi)影響散射比，例如給定能量的射線(xiàn)在鋼中的散射比要比在鋁中大得多。? （)4.30?在常規(guī)射線(xiàn)照相檢查中,散射線(xiàn)是無(wú)法避免的。 （）4.31?環(huán)縫雙壁單影照相,搭接標(biāo)記應(yīng)放膠片側(cè),底片的有效評(píng)估長(zhǎng)度是底片上兩搭接標(biāo)記之間的長(zhǎng)度。?（)4.32 縱焊縫雙壁單影照相,搭接標(biāo)記應(yīng)放膠片側(cè)，底片的有效評(píng)估長(zhǎng)度就是兩搭接標(biāo)記之間的長(zhǎng)。 （)４．33 小徑管雙壁透照的要點(diǎn)是選用較高管電壓，較低曝光量,其目的是減小底片反差,擴(kuò)大檢出區(qū)域。 ()4.3４ 射線(xiàn)照相實(shí)際透照時(shí)很少采用標(biāo)準(zhǔn)允許的最小焦距值。 (）５.1?顯影時(shí)膠片上的AgBr被還原成金屬銀，從而使膠片變黑。?（)5.２?對(duì)曝光局限性的底片,可采用增長(zhǎng)顯影時(shí)間或提高顯影溫度的方法來(lái)增長(zhǎng)底片黑度,從而獲得符合規(guī)定的底片。 （）5.3?膠片在顯影液中顯影時(shí)，假如不進(jìn)行任何攪動(dòng),則膠片上每一部位都會(huì)影響緊靠在它們下方部位的顯影。 (）5．4 定影液有兩個(gè)作用,溶解未曝光的AｇＢr和堅(jiān)膜作用。 （）5.5?所謂“通透時(shí)間”就是指膠片從放入定影液到乳劑層變?yōu)橥该鞯倪@段時(shí)間。??()5．6 減少底片上水跡的方法是溫膠片快速干燥。?（)5．7 膠片表面起網(wǎng)狀皺紋也許是膠片解決溫度變化急劇而引起的。 (）5．8?沖洗膠片時(shí),只要使用安全燈，膠片上就不會(huì)出現(xiàn)灰霧。 (）5.9 顯影液中假如過(guò)量增長(zhǎng)碳酸鈉,在底片上會(huì)產(chǎn)生反差減少的不良后果。?（）5.１0 使用被劃傷的鉛箔增感屏照相，底片上會(huì)出現(xiàn)與劃傷相應(yīng)的清楚的黑線(xiàn)。???（)5.１1 膠片上靜電花紋的產(chǎn)生是由于射線(xiàn)管兩端的電壓過(guò)高的因素。?()5.12 射線(xiàn)底片上產(chǎn)生亮的月牙形痕跡的因素也許是曝光前使膠片彎曲。 （)5.13?射線(xiàn)底片上產(chǎn)生黑的月牙形痕跡的因素也許是曝光后使膠片彎曲。 (）５.14?假如顯影時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，有些未曝光的ＡｇBr也會(huì)被還原,從而增大了底片灰霧。 ?(）５．15 顯影液中氫離子濃度增大,則顯影速度減慢，故借助于堿使顯影液保持一定pH值。??（)５.１6?定影液中的氫離子濃度越高,定影能力就越強(qiáng)。?(）５.１7?膠片未曝光部分變?yōu)橥该鲿r(shí)，即說(shuō)明定影過(guò)程已經(jīng)完畢。?()5.18?由于鐵不耐腐蝕且容易生銹，所以不能用鐵制容器盛放顯影液。 （）5．19 溴化鉀除了克制灰霧的作用外,尚有增大反差的作用。 （)５.20 顯影時(shí)攪動(dòng)不僅可以使顯影速度加快,尚有提高反差的作用。 （)5.２１ 所謂“超加和性”是指米吐?tīng)柡头颇嵬浜鲜褂?顯影速度大大提高的現(xiàn)象。（)6．1 由于射線(xiàn)照相存在影象放大現(xiàn)象，所以底片評(píng)估時(shí),缺陷定量應(yīng)考慮放大的影響。 ?（)6.２ 各種熱裂紋只發(fā)生在焊縫上，不會(huì)發(fā)生在熱影響區(qū)。?()6．3?形狀缺陷不屬于無(wú)損檢測(cè)檢出范疇,但對(duì)于目視檢查無(wú)法進(jìn)行的場(chǎng)合和部位,射線(xiàn)照相應(yīng)對(duì)形狀缺陷，例如內(nèi)凹、燒穿、咬邊等，評(píng)級(jí)。?（）7.1 暗室內(nèi)的工作人員在沖洗膠片的過(guò)程中，會(huì)受到膠片上的衍生的射線(xiàn)照射,因而白血球也會(huì)減少。 ()7．２?一個(gè)射線(xiàn)工作者懷疑自己處在高輻射區(qū)域,驗(yàn)證的最有效方法是看劑量筆上的讀數(shù)是否也增長(zhǎng)。 (）7.3 熱釋光膠片劑量計(jì)和袖珍劑量筆的工作原理均基于電離效應(yīng)。 （）7．4 照射量單位“倫琴”只合用X射線(xiàn)或γ射線(xiàn)，不能用于中子射線(xiàn)。?（)７.５?當(dāng)Ｘ或γ射源移去以后工件不再受輻射作用，但工件自身仍殘留極低的輻射。 (）7.７?小劑量,低劑量率輻射不會(huì)發(fā)生隨機(jī)性損害效應(yīng)。 ()７.6 即使劑量相同,不同種類(lèi)輻射對(duì)人體傷害是不同的。?(）7.８ 只要嚴(yán)格遵守輻射防護(hù)標(biāo)準(zhǔn)關(guān)于劑量當(dāng)量限值的規(guī)定，就可以保證不發(fā)生輻射損傷。?（）7.9 從X射線(xiàn)機(jī)和γ射線(xiàn)的防護(hù)角度來(lái)說(shuō)，可以認(rèn)為1戈瑞＝１希沃特。 （)7.1０ 焦耳/公斤是劑量當(dāng)量單位,庫(kù)倫/公斤是照射量單位。 （)７.11?劑量當(dāng)量的國(guó)際單位是希沃特，專(zhuān)用單位是雷姆，兩者的換算關(guān)系是1希沃特=１00雷姆。?(）7．１2?X射線(xiàn)比γ射線(xiàn)更容易被人體吸取,所以X射線(xiàn)對(duì)人體的傷害比γ射線(xiàn)大。? （）7.13?當(dāng)照射量相同時(shí)，高能Ｘ射線(xiàn)比低能Ｘ射線(xiàn)對(duì)人體傷害力更大一些。?（）８．1 與電子回旋加速器相比,直線(xiàn)加速器能量更高,束流更大,焦點(diǎn)更小。 （)8.２ 寬容度大是高能X射線(xiàn)照相的優(yōu)點(diǎn)之一。?（)８.3 加速器照相一般選擇較大的焦距，其目的是減小幾何不清楚度，提高靈敏度。? （）８.4 中子幾乎不具有使膠片溴化銀感光的能力。?(）8.５ 中子照相的應(yīng)用之一是用來(lái)檢查航空材料蜂窩結(jié)構(gòu)的粘接質(zhì)量。?()8．６ 中子對(duì)鋼鐵材料的穿透力很強(qiáng)，因此常用它來(lái)檢測(cè)厚度超過(guò)100mm的對(duì)接焊縫的焊接缺陷。 ()8.7 高能X射線(xiàn)照相的不清楚度重要是固有不清楚度，幾何不清楚度的影響幾乎可以忽略。 （）8．8?射線(xiàn)實(shí)時(shí)成像檢查系統(tǒng)的圖像容易得到較高的對(duì)比度，但不容易得到較好的清楚度。?(）8.9 象素的多少?zèng)Q定了射線(xiàn)實(shí)時(shí)成像系統(tǒng)圖像辨認(rèn)細(xì)節(jié)的能力。?（）８.10?在高能射線(xiàn)照相中,增感屏的增感作用重要靠前屏。?(）10.1 按ASME規(guī)范規(guī)定，透照雙面焊縫的使用孔型象質(zhì)計(jì)，應(yīng)在象質(zhì)計(jì)下放墊板,墊板厚度應(yīng)為上下焊縫余高之和。?（)10.2?在ASMＥ規(guī)范中,１00%照相和局部抽查的焊縫中允許的條件夾渣尺寸是不同樣的。 (）

是非題答案1．1 ○?1.２?○?1．３?×?1.4 × 1．5 ○1.6 ×?1.7 ×?1.８?×?1.9 ×?１.10?×1．11?○?１.12?○ 1．１３?× １.14?× 1．1５ ×1.16?×?1．１7 ×?1．１8?× 1.19 ×?1.2０ ×1.21?○ 1．22 ×?1.２３?○?1.24 ○?1．２5 ○1.２６ ×?1.27?○ 1.2８ ○?１．29 ○ 1．30?×1.31 ×?１.32 ×?1.33 × １.34 ○ １.３5?○１.３6 × 1.３7 ×?1.3８ ○?1．3９?○ 1．40?○1．41 × 1．4２?○?1.43 × 1．44?○ １．45?×1.４６?× 1.47 ○?1．4８ × 1．49 ○ 1.50 ○1.51 ×?１．52?○ 1.53 ○ 1.５4 ×?１.55?○２．1?○?2.2?× ２.３?○ 2.4?× 2.５ ○２.6 ○?2.7?× 2.８ ○ ２．9 ○ ２．１０?×2.11?×?2.12 ○?2.1３ ○?2.14 × 2．15 ○２.16?×?２.17 ×?2.18?○ 2.１9?×?2.2０?○2.21 × 2．2２?○ ２.２３ ○?2.24 ×?２.25 ○2．26?× 2．27?○ 2．2８ × 2.２9 ×?2.3０ ×２.３1 ×?2．32?× 2.33?○?2．3４?○ 2．35 ○2.36 ○?２.３7?× 2.38?○ 2.39?×?2.40?×2.41?○ 2.42?○ 2.43 ×2.44?×?２.45?×２.4６ ○2.4７ ×3.1?× 3.2?×?3.3?○?３.4?×?3.5?○３.６?×?3.７?○ ３.8?×?3.９ ○ 3.1０ ×３．11 ○ 3．１2 ○?３.13 ×?３.14?× 3．1５ ×3.１6?○?3.17?○?3.18 × 3．１9 × 3.20?×3.21?× 3.２2?× 3.23 ○?3.24 ○ 3.２5 ○3.26 ○?3．27?○?3.２8 ○?3.2９ ○?3.３0 ○3．31?○ 3．32?○?3.33?○?３.34 ○ 3.３5?×３．36?○?3.３７?○?３．3８?○4.1 ○ ４.2?× 4.3?○?4.4?○ 4.5 ○4.6 ×?4.7 ○?４.８?× 4.9?×?4.１0?×4.11?×?４.１2?× ４.１3?○ 4.1４?○?4．1５ ○4.16?×?4.１7 ○ 4．１8?○?4．１9?○ ４.２0 ○4.21 ○?4.22 × 4.２3 × 4.2４?○?4.2５ ×4.2６?○?４.27 ○?４.28?○?4.29 ×?4.30?○４．3１ ○ 4.3２?× 4.33?○?4．34 ○5．１?○ 5.２ ×?5．３?○?5.４ ○ 5.5?○５.６?× ５.7?○ 5．８?× ５.9 ○ 5.１0 ○5.11 ×?５.１2 ○?5.１3?○ 5．14 ○ 5.15 ○5.１6?×?５.１７?×?５.18 ×?5.19?× 5．20?○5.21?×6．1 × 6．2?× 6.3 ○7．1 ×?7.２?×?7.３?×?7.4?○ 7.5?×７.６ ○?7.7?× ７.８ × 7.9 ○?7.1０ ○7.1１?○?7.1２?× ７.1３?○８.１ × 8．2?○?8.3 × 8.4 ○ 8.５ ○8．6 × 8．7 ○?8.8 ○ ８.9?○?8．10 ○10．1 ○?１0.２ ○?二、選擇題1.１?原子的重要組成部分是（)。?A.質(zhì)子、電子、光子 B．質(zhì)子、重子、電子 C.光子、電子、X射線(xiàn) D.質(zhì)子、中子、電子1．2 電磁波的頻率(f)，速度(c)和波長(zhǎng)(λ)之間的關(guān)系可用()表達(dá)。 Ａ.f=λ·c?B.c=f·λ?C.λ=f·c?D．λ＝f/c1.3 原子核的質(zhì)子數(shù)等于(）。 A．中子數(shù)?B．原子序數(shù)?C.光子數(shù)?D.原子量1.4 質(zhì)子和中子的區(qū)別是中子沒(méi)有（）。 A.電荷?Ｂ.質(zhì)量?C.自旋 D.半衰期1.5?當(dāng)幾種粒子和射線(xiàn)通過(guò)空氣時(shí)，其電離效應(yīng)最高的是(）。?A.α粒子?B.β粒子 C.中子?Ｄ.X和γ射線(xiàn)1．6 在射線(xiàn)探傷中應(yīng)用最多的三種射線(xiàn)是（）。 A.Ｘ射線(xiàn)，γ射線(xiàn)和中子射線(xiàn)?B．α射線(xiàn)、β射線(xiàn)和γ射線(xiàn)?C.X射線(xiàn),γ射線(xiàn)和β射線(xiàn) Ｄ.X射線(xiàn)，γ射線(xiàn)和α射線(xiàn)1.7?原子核外電子能級(jí)量高的是（）。 A.外殼層 B.中間殼層?Ｃ.內(nèi)殼層 D.以上均不是１.8?同位素是指()。 A.質(zhì)量數(shù)相同而中子數(shù)不同的元素;?Ｂ.質(zhì)量數(shù)相同而質(zhì)子數(shù)不同的元素；?C.中子數(shù)相同而質(zhì)子數(shù)不同的元素； D.質(zhì)子數(shù)相同而質(zhì)量數(shù)不同的元素。１．9?X射線(xiàn)、γ射線(xiàn)和α粒子有一個(gè)共同點(diǎn)，即它們都是（)。?A.均質(zhì)粒子輻射?B．電磁輻射 C.微波輻射 D.電離輻射1.10 在射線(xiàn)檢查中采用的能量范圍(約100KeVo-10MeＶ）射線(xiàn)穿過(guò)鋼鐵強(qiáng)度衰減的最重要因素是（）。 A．光電效應(yīng) Ｂ.湯姆遜效應(yīng)?C.康普頓效應(yīng) D.電子對(duì)效應(yīng)1.11 光子能量的數(shù)學(xué)表達(dá)式是（）。?A.Ｅ=h/v?B.E=λ／hｃ C.Ｅ=hv Ｄ.Ｅ=hv21.12 ΔI=μIΔX，此式表達(dá)下列哪種現(xiàn)象?(） A.光電效應(yīng)?B.康普頓散射?Ｃ.吸取?Ｄ.半價(jià)層厚度1．1３?通常所說(shuō)的２00KVX射線(xiàn)指（）。?A.最大能量為0.２ＭeV的“白色”Ｘ射線(xiàn) Ｂ.平均能量為0．2ＭeV的連續(xù)射線(xiàn) C.能量為0．２MｅV的連續(xù)射線(xiàn) D.有效能量為0.２MeＶ的連續(xù)射線(xiàn)1.１4??單色射線(xiàn)是指(）。 A.標(biāo)記Ｘ射線(xiàn) Ｂ.工業(yè)探傷γ源產(chǎn)生的射線(xiàn) C.用來(lái)產(chǎn)生高對(duì)比度的窄束射線(xiàn) D.由單一波長(zhǎng)的電磁波組成的射線(xiàn)1.15在一般的工業(yè)探傷中，射線(xiàn)與物質(zhì)互相作用時(shí),重要產(chǎn)生的二個(gè)效應(yīng)是(）。?A.光電效應(yīng)和電子對(duì)效應(yīng) B.光電效應(yīng)和康普頓散射?C.康普頓散射和電子對(duì)效應(yīng) D.康普頓散射和電離1.１6?當(dāng)光子與物質(zhì)互相作用時(shí),光子將部分能量用于逐出軌道電子,且剩余的能量變?yōu)殡娮拥膭?dòng)能，這就是（）。 A.康普頓散射?B.光電效應(yīng). C.電子對(duì)效應(yīng) Ｄ.電離1．１7當(dāng)光子與物質(zhì)互相作用時(shí)，光子的波長(zhǎng)增長(zhǎng)，方向改變，這是由于（)的結(jié)果。 A.光電效應(yīng)?B．康普頓散射 C．湯姆遜散射?D.電子對(duì)產(chǎn)生1.18 康普頓散射的特性是（)。?A.產(chǎn)生光電子?B.產(chǎn)生俄歇電子?C．產(chǎn)生反沖電子 D.產(chǎn)生正負(fù)電子對(duì)1.19 光電效應(yīng)的特性是（）。 A.產(chǎn)生光電子 B．發(fā)射標(biāo)記X射線(xiàn)?C.發(fā)射二次電子 D.以上都是1.2０ 已知某單能射線(xiàn)在鋼中的半價(jià)層為3mｍ，則該射線(xiàn)在鋼中的吸取系數(shù)為()。 A.0.2３1ｃm B.2．31cm－１?C.2．0７9cm Ｄ.0.00231mm－１１．21?射線(xiàn)通過(guò)物質(zhì)時(shí)的衰減取決于(）。 A．物質(zhì)的原子序數(shù)、密度和厚度?Ｂ.物質(zhì)的楊氏模量 C．物質(zhì)的泊松比?Ｄ.物質(zhì)的晶粒度１.22 窄束和寬束的區(qū)別是()。?A．窄束是指散射和未散射的射線(xiàn)均到達(dá)檢測(cè)器，而寬束是指只有未散射的射線(xiàn)到達(dá)檢測(cè)器。 Ｂ.窄束是指只有未散射的射線(xiàn)到達(dá)檢測(cè)器，而寬束是指散射和未散射的射線(xiàn)均到達(dá)檢測(cè)器。?C.窄束和寬束區(qū)別在于源尺寸大小不同。?D.窄束和寬束區(qū)別在于照射場(chǎng)大小不同。1.23散射線(xiàn)的重要成份是低能電磁輻射，它是由光子在哪一過(guò)程中減弱而產(chǎn)生的(）。?A.光電過(guò)程?B．康普頓過(guò)程 C.電子對(duì)過(guò)程 Ｄ.電離過(guò)程１.２4 從X射線(xiàn)管中發(fā)射出的射線(xiàn)涉及(）。?A.連續(xù)X射線(xiàn) B.標(biāo)記X射線(xiàn)?Ｃ．射線(xiàn)?D.Ａ和B1.25 連續(xù)Ｘ射線(xiàn)穿透厚工件時(shí),有何特點(diǎn)？() A．第二半價(jià)層小于第一半價(jià)層； B.第二半價(jià)層等于第一半價(jià)層; C.第二半價(jià)層大于第一半價(jià)層；?D.１．26 當(dāng)射線(xiàn)波長(zhǎng)一定期，下列哪種物質(zhì)的最大?（) A.Fe?B.Al?C.Tｉ D.Cu1．27? 產(chǎn)生Ｘ射線(xiàn)的一般方法是在高速電子的運(yùn)動(dòng)方向上設(shè)立一個(gè)障礙物,使高速電子在這個(gè)障礙物上忽然減速,這個(gè)障礙物被叫()。?A.陽(yáng)極?B.陰極 C.靶 D．燈絲1.28?Ｘ射線(xiàn)的穿透能力取決于(）。?Ａ.毫安?B．千伏 C．曝光時(shí)間?Ｄ.焦點(diǎn)尺寸1.２９?γ射線(xiàn)的穿透能力取決于()。?A.源的尺寸?B．源的種類(lèi)?Ｃ.曝光時(shí)間 D.焦點(diǎn)尺寸1.30 當(dāng)施加于Ｘ射線(xiàn)管兩端的管電壓不變，管電流增長(zhǎng)時(shí),則()。 Ａ．產(chǎn)生的X射線(xiàn)波長(zhǎng)不變，強(qiáng)度不變；?B．產(chǎn)生的X射線(xiàn)波長(zhǎng)不變，強(qiáng)度增長(zhǎng)； C．產(chǎn)生的X射線(xiàn)波長(zhǎng)不變，強(qiáng)度減小; D.產(chǎn)生的X射線(xiàn)波長(zhǎng)增長(zhǎng),強(qiáng)度不變。１.３1?X射線(xiàn)機(jī)的管電流不變,管電壓減小時(shí)，則X射線(xiàn)將會(huì)發(fā)生()。?Ａ．強(qiáng)度不變,波長(zhǎng)減小 B．強(qiáng)度不變，波長(zhǎng)增大 C.波長(zhǎng)減小，強(qiáng)度減小?Ｄ.波長(zhǎng)增大,強(qiáng)度減小1．32?X射線(xiàn)管所產(chǎn)生的連續(xù)Ｘ射線(xiàn)的強(qiáng)度與管電壓的關(guān)系是()。 A.強(qiáng)度與管電壓成正比； B．強(qiáng)度與管電壓成反比； C．強(qiáng)度與管電壓平方與正比； D.強(qiáng)度與管電壓平方成反比。1.３3 活度為80Ci、平均能量為1.66ＭeV的同位素源，通過(guò)3個(gè)半衰期后，其平均能量為（)。 Ａ．0.008MeV Ｂ.0.２2ＭeV?C．０．３3MeV?D.1．66MｅV１.３４ 放射性同位素衰變時(shí)，原子核衰變方式通常是（）。 Ａ．粒子發(fā)射 B.K俘獲 C.裂變?D.A和B1.3５ 韌致輻射是指高速運(yùn)動(dòng)的電子同靶相碰撞時(shí),與靶的什么互相作用而放也電子的能量，產(chǎn)生連續(xù)X射線(xiàn)的？（)?A．自由電子 B.原子核的質(zhì)子或中子 C.殼層電子 D.原子核外庫(kù)侖場(chǎng)１.３6?放射性元素Ｃo６0轉(zhuǎn)變?yōu)镹i60的過(guò)程是一次（） A.α衰變?Ｂ.β衰變?C.γ衰變?Ｄ.K俘獲１．3７ 以下關(guān)于光電效應(yīng)的敘述,哪一條是錯(cuò)誤的（) Ａ．光電效應(yīng)發(fā)生幾率隨光子能量的增大而減小； B．光電效應(yīng)發(fā)生幾率材料的原子序數(shù)增大而增大;?C.在光電效應(yīng)過(guò)程中除產(chǎn)生光電子外,有時(shí)還會(huì)產(chǎn)生反沖電子； D．光電效應(yīng)發(fā)射出的電子的能量肯定小于入射光子的能量。１.３8?以下關(guān)于康普頓效應(yīng)的敘述,哪一條是錯(cuò)誤的() A.散射光子的波長(zhǎng)肯定小于入射光子； Ｂ.反光子與散射光子能沖電子的能量為入射量之差；?C.散射角α越大，散射光子能量越小; D．康普頓效應(yīng)發(fā)生幾率隨入射光子能量增大而減小。1.39?某放射性同位素的衰變常數(shù)為0.00５3７１天-1,則其半衰期為(） A.1８６天?Ｂ.1２9天?C.５3天 D.537天1.４0下列幾種材料中，射線(xiàn)衰減系數(shù)較大的是(）?Ａ．銅?B.鋁 C.鐵 D.碳1.41 以下關(guān)于瑞利散射的敘述,哪一條是錯(cuò)誤的（) A.瑞利散射是相干散射的一種； B.瑞利散射不改變光子能量，只改變光子的運(yùn)動(dòng)方向； C.瑞利散射的發(fā)生幾率隨原子序數(shù)的增大而減?。?D.瑞利散射的發(fā)生幾率隨光子能量的增大而急劇減小。1.42?射線(xiàn)照相難以檢出的缺陷是(）?A.未焊透和裂紋 B.氣孔和未熔合 Ｃ.夾渣和咬邊 D.分層和折疊１．43 射線(xiàn)照相法對(duì)哪一種焊接方法不合用。(） A.氣焊、電渣焊 B.氣體保護(hù)焊、埋弧自動(dòng)焊?C.手工電弧焊、系離子弧焊 D.摩擦焊、釬焊1.44 以下哪些材料的熔化焊對(duì)接焊縫適宜使用射線(xiàn)照相法檢測(cè)（）?A．鋼和不銹鋼 Ｂ.鈦和鈦合金 C．鋁及鋁合金?Ｄ．以上都適宜1．4５ 以下關(guān)于射線(xiàn)照相特點(diǎn)的敘述,哪些是錯(cuò)誤的（） A.鑒定缺陷性質(zhì)、數(shù)量、尺寸比較準(zhǔn)確 Ｂ.檢測(cè)靈敏度受材料晶粒度的影響較大 C.成本較高,檢測(cè)速度不快?D．射線(xiàn)對(duì)人體有傷害２.1 管電壓、管電流不變,將X射線(xiàn)管陽(yáng)極由銅換成鎢，產(chǎn)生Ｘ射線(xiàn)線(xiàn)質(zhì)如何變化?(）?A.變硬?B．變軟 Ｃ.不變 Ｄ.不一定2.2 X射線(xiàn)管的陽(yáng)極靶最常用的材料是（) A.銅 Ｂ．鎢?C.鈹?Ｄ.銀２.３?軟射線(xiàn)X射線(xiàn)管的窗口材料一般是()。?A.銅?B.鎢 C.鈹 D.銀2.4?Ｘ射線(xiàn)機(jī)技術(shù)性能指標(biāo)中，焦點(diǎn)尺寸是一項(xiàng)重要指標(biāo)，焦點(diǎn)尺寸是指(）。 A．靶的幾何尺寸 B.電子束的直徑?C.實(shí)際焦點(diǎn)尺寸 D.有效焦點(diǎn)尺寸2.5?在條件允許的情況下,焦點(diǎn)尺寸應(yīng)盡也許的小，其目的是(）。 Ａ.減小設(shè)備體積 B.提高清楚度 C.增長(zhǎng)能量密度 D．節(jié)省合金材料2.6?X射線(xiàn)管中轟擊靶產(chǎn)生X射線(xiàn)的高速電子的數(shù)量取決于(）。 A．陽(yáng)極靶材料的原子序數(shù); Ｂ.陰極靶材料的原子序數(shù)；?C.燈絲材料的原子序數(shù)； Ｄ.燈絲的加熱溫度２．7 下列哪一特性，不是Ｘ射線(xiàn)管的靶材料所規(guī)定的(）。 A．高原子序數(shù)?Ｂ.高熔點(diǎn) Ｃ.高熱傳導(dǎo)率?Ｄ.高質(zhì)量吸取系數(shù)２.8?當(dāng)兩臺(tái)相同型號(hào)的Ｘ射線(xiàn)機(jī)的千伏值和毫安值均相同時(shí)，則()。 A.產(chǎn)生的X射線(xiàn)的強(qiáng)度和波長(zhǎng)一定相同; B.產(chǎn)生的X射線(xiàn)的波長(zhǎng)相同，強(qiáng)度不同; Ｃ.產(chǎn)生的X射線(xiàn)的強(qiáng)度相同,波長(zhǎng)不同；?D.產(chǎn)生的Ｘ射線(xiàn)的強(qiáng)度和波長(zhǎng)不一定相同。2.9 高壓變壓器直接與Ｘ射線(xiàn)管相連接的X射線(xiàn)機(jī)叫做（） A．全波整流X射線(xiàn)機(jī) B．自整流X射線(xiàn)機(jī) C.交流X射線(xiàn)機(jī)?Ｄ.恒電壓X射線(xiàn)機(jī)２．１０?X射線(xiàn)管對(duì)真空度規(guī)定較高，其因素是（） A.防止電極材料氧化；?B.使陰極與陽(yáng)極之間絕緣； C．使電子束不電離氣體而容易通過(guò); D.以上三者均是。2.１1?決定X射線(xiàn)機(jī)工作時(shí)間長(zhǎng)短的重要因素是() A.工作電太KV的大??； Ｂ.工作電流mA的大小； C．工件厚度的大小； Ｄ.陽(yáng)極冷卻速度的大小。2．１2 X射線(xiàn)機(jī)中循環(huán)油的作用是(） A.吸取散射線(xiàn)?B.濾去一次射線(xiàn)中波長(zhǎng)較長(zhǎng)的射線(xiàn); C.散熱； Ｄ．增強(qiáng)一次射線(xiàn)2.1３ 大焦點(diǎn)Ｘ射線(xiàn)機(jī)與小焦點(diǎn)X射線(xiàn)機(jī)相比，其特點(diǎn)是() Ａ.射線(xiàn)的能量低穿透力小;?B.射線(xiàn)不集中,強(qiáng)度小;?C.照相黑度不易控制； D.照相清楚度差。２.１４?一般X射線(xiàn)機(jī)調(diào)節(jié)管電壓的方法通常是() Ａ．調(diào)節(jié)燈絲的加熱電壓; Ｂ.調(diào)節(jié)陰極和陽(yáng)極之間的電壓; C．調(diào)節(jié)陰極和陽(yáng)極之間的距離；?Ｄ.調(diào)節(jié)燈絲與陰極之間的距離。２.15?X射線(xiàn)管中的陰極最常見(jiàn)的是(） Ａ.冷陰極?B.熱陰極?Ｃ.旋轉(zhuǎn)陰極?D．固定陰極２.16 提高燈絲溫度的目的是使() A．發(fā)射電子的能量增大;?B.發(fā)射電子的數(shù)量增多； C．發(fā)出X射線(xiàn)的波長(zhǎng)較短; D.發(fā)出X射線(xiàn)的波長(zhǎng)較長(zhǎng)。2.17?大功率Ｘ射線(xiàn)管陽(yáng)極冷卻的常用方法是（） Ａ．輻射冷卻?Ｂ.對(duì)流冷卻 Ｃ.傳導(dǎo)冷卻 Ｄ．液體逼迫循環(huán)冷卻2.18 γ射線(xiàn)探傷機(jī)與Ｘ射線(xiàn)探傷機(jī)相比其優(yōu)點(diǎn)是(）?A．設(shè)備簡(jiǎn)樸 Ｂ.不需外部電源?C．射源體積小?Ｄ.以上三者都是2.19 探傷所用的放射性同位素，都是（) A.天然同位素 Ｂ.人造同位素?C．穩(wěn)定同位素 D.以上三者都是2.20 放射性同位素的輻射強(qiáng)度與時(shí)間的關(guān)系是()?A．隨時(shí)間增大?B.與時(shí)間無(wú)關(guān) Ｃ.隨時(shí)間減小 D.三者都不對(duì)2.2１?運(yùn)用γ射線(xiàn)探傷時(shí)，若要增長(zhǎng)射線(xiàn)強(qiáng)度可以采用(）?A.增長(zhǎng)焦距 B.減小焦距 Ｃ.減小曝光時(shí)間?Ｄ．三者均可2．２2?下列四種放射性元素中，半價(jià)層最厚的是（)?A.Cｏ６0?Ｂ.Cs137?C.Iｒ19２ D．Tm１70２.２3 下列四種放射性元素中，半衰期最長(zhǎng)的為(）?A．Co60?Ｂ.Cs137 C.Ｉr19２?D.Ｔm１70２.24?Tm170γ源發(fā)出的射線(xiàn)能量為:(）?A.０.084和0.０５２ＭeV B.0.11和0.15ＭｅV C.１.33和1.１7ＭeＶ D．0．３1和０．47MeV2．25?１80mm厚的鋼試件射線(xiàn)照相，也許使用的γ A.鈷60?B.銩１70 C.銥192 D.２．26?可使用銥19２照相的鋼試件厚度范圍是() A.10０－2０0ｍm Ｂ.8-60mm Ｃ.4－１5mm?D.302.27 決定材料對(duì)X射線(xiàn)吸取量最重要的因素是（）?Ａ.材料厚度 B.材料密度 C．材料原子序數(shù) D．材料晶粒度2.2８ 下面有關(guān)Ｘ射線(xiàn)管焦點(diǎn)的敘述,哪一條是錯(cuò)誤的？(） A.有效焦點(diǎn)總是小于實(shí)際焦點(diǎn); Ｂ．焦點(diǎn)越小,照相幾何不清楚度越小; C.管電壓、管電流增長(zhǎng)，實(shí)際焦點(diǎn)會(huì)有一定限度的增大； D.焦點(diǎn)越大，散熱越困難。2.29?放射性同位素源的比活度取決于(）?Ａ.核反映堆中照射的中子流； Ｂ.材料在反映堆中的停留時(shí)間； Ｃ.照射材料的特性(原子量、活化截面） Ｄ.以上全是２.30 下列四種放射性同位素中,可用來(lái)透照厚度為３-１2mm的薄壁管,輻射特性類(lèi)似100-2５0KVX射線(xiàn)的是(） Ａ．Iｒ192?B.Cｓ13７?Ｃ.Ｃo60 D.Tｍ１７02.３1?一般放射性比活度高的源其自吸取(）?A.較高?Ｂ.較低 C.兩者無(wú)關(guān)?D.無(wú)自吸?。玻?2?決定X射線(xiàn)管靶材合用性的兩個(gè)因素是（)?Ａ.拉伸強(qiáng)度和屈服強(qiáng)度?B.硬度和磁導(dǎo)率?Ｃ.電阻和抗氧化性能?D.原子序數(shù)和熔點(diǎn)2.3３?以下關(guān)于便攜式X射線(xiàn)機(jī)操作使用的敘述，哪條是錯(cuò)誤的（)?A.X射線(xiàn)機(jī)停用超過(guò)3天,才需要訓(xùn)機(jī)?Ｂ.送高壓前應(yīng)預(yù)熱燈絲?C.機(jī)內(nèi)ＳF6氣機(jī)過(guò)低,將影響絕緣性能 D.應(yīng)保持工作和間歇時(shí)間1:1２.34?以下哪一條不是射線(xiàn)探傷設(shè)備優(yōu)點(diǎn)（) A．不需用電和水 B.可連續(xù)操作?C．可進(jìn)行周向曝光和全景曝光?D.曝光時(shí)間短、效率高２.3５ X射線(xiàn)管中,電子轟擊靶時(shí)能量轉(zhuǎn)換的重要形式是產(chǎn)生（) A.連續(xù)X射線(xiàn)?B．標(biāo)記X射線(xiàn)?C.短波長(zhǎng)X射線(xiàn) Ｄ.熱2.36?X射線(xiàn)管管電流大小重要取決于()?A.靶材料 B.燈絲電流 Ｃ.陽(yáng)極到陰極的距離?D.以上都是2.37 X射線(xiàn)管中轟擊靶的電子運(yùn)動(dòng)的速度取決于（） A.靶材的原子序數(shù)?Ｂ.管電壓?C.管電流 D.燈絲電壓2.３８ 在管電壓、管電流相同的情況下，下列哪種線(xiàn)路產(chǎn)生的射線(xiàn)質(zhì)較硬、照射劑量率較大?（） A.半波整流 B．全波整流 C.穩(wěn)恒直流 Ｄ.線(xiàn)路種類(lèi)與射線(xiàn)的質(zhì)和劑量率無(wú)關(guān)2.３9?在管電壓、管電流相同的情況下，焦點(diǎn)尺寸越小，其焦點(diǎn)的溫度()?A.越低 B．越高?C．不變?D.不一定2.4０?各種膠片成像的粒度(） A.隨千伏值提高而增大?B．隨千伏值提高而減小 Ｃ.與千伏值無(wú)關(guān)?D．變化服從朗伯定律２.４1?表達(dá)膠片受到一定量X射線(xiàn)照射,顯影后的底片黑度是多少的曲線(xiàn)叫做 (） Ａ.曝光曲線(xiàn) B.靈敏度曲線(xiàn)?C.特性曲線(xiàn)?Ｄ．吸取曲線(xiàn)2.４２ X膠片的片基常用的材料是() Ａ.聚氯乙烯薄膜?Ｂ．聚氨脂薄膜?C.滌綸薄膜?D.聚乙烯薄膜2.4３ 保存射線(xiàn)膠片的環(huán)境相對(duì)濕度應(yīng)為(） A．１0－25％?B．50-65%?C.7０－85%?D.越干燥越好２.44 膠片特性曲線(xiàn)上,過(guò)兩個(gè)特定黑度點(diǎn)的直線(xiàn)的斜率叫做（) A.膠片寬谷度 Ｂ.梯度 C.平均梯度?D．感光度2.４５ 由膠片特性曲線(xiàn)可以得到膠片的技術(shù)參數(shù)是(） A.膠片的反差系數(shù)?Ｂ.膠片的本底灰霧度 Ｃ.正常的曝光范圍?D．三者均是2．46?哪一因素變化，會(huì)使膠片特性曲線(xiàn)形狀明顯改變?（)?A．改變管電壓 B.改變管電流?C.改變焦距?Ｄ．改變顯影條件2．47?實(shí)際使膠片鹵化銀顆粒感光的因素是(） A．X或γ光量子?B.α粒子 C.電子?D.中子２.4８ 下面有關(guān)膠片的四種敘述中，唯一對(duì)的的是（）?A．膠片顆粒度大，感光速度就快，底片圖象清楚； B.膠片顆粒度小,感光速度就快,底片圖象模糊; C.膠片顆粒度大，感光速度快，底片圖象模糊;?D．膠片顆粒度小,感光速度快,底片圖象清楚。2.4９?底片的黑度范圍限制在膠片特性曲線(xiàn)的直線(xiàn)區(qū)域內(nèi)，這是由于在此區(qū)域透照出的底片() Ａ.黑度大?B.感光度高?C.本底灰霧度小 D.對(duì)比度高2.50 已曝過(guò)光的X膠片，不能在高溫高濕的環(huán)境內(nèi)保持時(shí)間過(guò)長(zhǎng),否則會(huì)引起?（) Ａ.藥膜自動(dòng)脫落?B.產(chǎn)生白色斑點(diǎn)?Ｃ.產(chǎn)生靜電感光?D.潛象衰退、黑度下降2.５1?膠片分類(lèi)的依據(jù)重要是() A.梯度和顆粒度 B.感光度和顆粒度?C．感光度和梯度 D.灰霧度和寬容度２.5２?X膠片乳劑中與射線(xiàn)作用產(chǎn)生光化學(xué)作用的成份是（) A.AｇBr B.AgO2 Ｃ.AgS?Ｄ.AgＢｒ22.５3?用含銻6％的鉛合金代替鉛作增感屏其因素是這種增感屏（) A.清楚度好?B.斑點(diǎn)效應(yīng)好?Ｃ.比較耐用 D．增感系數(shù)高２.54?與非增感型膠片配合使用的增感屏是(）?Ａ.熒光增感屏 B．鉛箔增感屏 C.熒光鉛箔增感屏?D．稀土熒光增感屏２.55?熒光增感屏與鉛箔增感屏相比，熒光增感屏的重要優(yōu)點(diǎn)() A.圖象的清楚度高?Ｂ.可提高靈敏度 C.可縮短曝光時(shí)間 D.能屏蔽散射線(xiàn)2.5６?鉛箔增感屏的重要優(yōu)點(diǎn)是()?A．可加速膠片感光同時(shí)吸取部分散射線(xiàn)?Ｂ．可提高照相清楚度 Ｃ．可減小照相顆粒度 Ｄ.以上都是2.57?使用鉛箔增感屏可以縮短曝光時(shí)間，提高底片的黑度，其因素是鉛箔受X射線(xiàn)或射線(xiàn)照射時(shí)（)?A.能發(fā)出熒光從而加速膠片感光; B.能發(fā)出可見(jiàn)光從而使膠片感光；?Ｃ．能發(fā)出紅外線(xiàn)從而使膠片感光； D.能發(fā)出電子從而使膠片感光。2.5８ 射線(xiàn)照相中,使用象質(zhì)計(jì)的重要目的是(）?Ａ.測(cè)量缺陷大小?Ｂ.評(píng)價(jià)底片靈敏度 Ｃ.測(cè)定底片清楚度 D.以上都是２.59?什么是使用象質(zhì)計(jì)的局限性?（)?A.不能提供射線(xiàn)照相檢查靈敏度的永久性證據(jù)；?Ｂ.不能比較兩種不同透照技術(shù)的質(zhì)量高低； Ｃ.不能提供可檢出缺陷尺寸的度量指示； D.不能驗(yàn)證所用透照工藝的適當(dāng)性。2.６0?平板孔型象質(zhì)計(jì)的象質(zhì)等級(jí)2-1T是指：（) Ａ.象質(zhì)計(jì)厚度為透照厚度2％,孔徑為象質(zhì)計(jì)厚度1倍,等效靈敏度為1.４% B．象質(zhì)計(jì)厚度為透照厚度１％,孔徑為象質(zhì)計(jì)厚度２倍，等效靈敏度為1．４%?C．象質(zhì)計(jì)厚度為透照厚度2%，孔徑為象質(zhì)計(jì)厚度1倍,等效靈敏度為1%?D.以上都不對(duì)２.61 對(duì)母材厚度為1２毫米的雙面焊接的焊縫進(jìn)行射線(xiàn)探傷時(shí)，在底片上能發(fā)現(xiàn)直徑為０．32毫米的鋼絲質(zhì)象質(zhì)計(jì),其象質(zhì)計(jì)靈敏度為(） Ａ.１% B.１．５% Ｃ．２% Ｄ．2.5％２.6２?平板焊縫照相時(shí)，下面四種關(guān)于象質(zhì)計(jì)擺放的敘述,唯一對(duì)的的擺放位置是（) A．近膠片一側(cè)的工件表面,并應(yīng)靠近膠片端頭; B.近射源一側(cè)工件表面,金屬絲垂直焊縫，并位于工件中部; C.近膠片一側(cè)的工件表面，并應(yīng)處在有效照相范圍一端的焊縫上，金屬絲垂直于焊縫，細(xì)絲在外；?D.近射源一側(cè)有效照相范圍一端的焊縫上,金屬絲垂直于焊縫,細(xì)絲在外。2．63?鈦對(duì)射線(xiàn)的吸取系數(shù)小于鋼,在透照鈦試件時(shí)采用了鋼絲象質(zhì)計(jì),假如底片上顯示的象質(zhì)指數(shù)剛好達(dá)成標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定,則該底片的靈敏度（) A.剛好符合標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定?B.達(dá)不到標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定 C.遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定 D．無(wú)法判斷2．64?已知入射光強(qiáng)200cd/m2,則底片黑度為2.３的區(qū)域透過(guò)的光強(qiáng)為：（） A.5ｃd／m2 B.0.5６cd/m2?C.1ｃｄ/m2 Ｄ.０．1cd/ｍ22.6５?一個(gè)電壓調(diào)節(jié)器由鐵芯變壓器組成,變壓器只有一個(gè)繞組,繞組上有許多抽頭。這種變壓器叫做:（） A．高壓變壓器; Ｂ.燈絲變壓器; C.自耦變壓器; D.脈沖變壓器。２.６6?以下關(guān)于周向輻射X射線(xiàn)管陽(yáng)極靶的敘述,哪一條是錯(cuò)誤的：(）A.周向輻射X射線(xiàn)管的陽(yáng)極靶有平面靶和錐形靶兩種；B．平面靶多用于300KＶX射線(xiàn)管;C.平面靶散熱效果比錐形靶好；D.使用平面靶X射線(xiàn)管的探傷機(jī)照相要注意橫向裂紋漏檢問(wèn)題。2.6７ 在其他參數(shù)不變的情況下,若顯影時(shí)間延長(zhǎng),膠片特性曲線(xiàn)會(huì)出現(xiàn)（)?A.梯度增大，感光速度提高;?B.梯度減小,感光速度提高 C.梯度減小，感光速度減少；?D．梯度增大,感光速度減少2.68?Iｒ192所發(fā)出的重要γ射線(xiàn)能量為() Ａ．0．6６，0.84，０.91MeV?B.0.3１，０.47,0．6０MeV C.0.08,０.05,0.66MeV D．0．１5，1.1２,0.18MeＶ２.69?以下哪一條,不是金屬陶瓷管Ｘ射線(xiàn)機(jī)的優(yōu)點(diǎn)（）?Ａ.體積小 B.重量輕?C.故障小 D．不需要訓(xùn)機(jī)2.70?以下哪一因素,對(duì)膠片對(duì)比度不產(chǎn)生影響（) A．射線(xiàn)能量 B．底片黑度?Ｃ.膠片類(lèi)型 D.顯影條件2.7１ 使用“真空暗盒”的重要優(yōu)點(diǎn)是()?A.提高主因?qū)Ρ榷?B．減小固有不清楚度?C.減小底片顆粒度?D.以上都是２.７2?膠片系統(tǒng)分類(lèi)中所指的膠片系統(tǒng)涉及（) Ａ.膠片、增感屏、暗盒?Ｂ.膠片、增感屏、暗盒、背防護(hù)鉛板 C.膠片、增感屏、沖洗條件 D．源、膠片、增感屏、沖洗條件2.73?適宜檢測(cè)厚度5-３0ｍm?A.Ir19２?B.Tｍ１70 C.Yｂ169?D．Ｓe3.1 從可檢出最小缺陷的意義上說(shuō),射線(xiàn)照相靈敏度取決于(） Ａ.底片成象顆粒度； Ｂ.底片上缺陷圖象不清楚度； C.底片上缺陷圖象對(duì)比度; D.以上都是。3.２ 射線(xiàn)底片上兩個(gè)不同區(qū)域之間的黑度差叫做（）?A.主因反差；?B．底片反差；?C.清楚度; Ｄ.膠片反差。3.3?影響主因?qū)Ρ榷鹊氖?) A．射線(xiàn)的波長(zhǎng)?B.散射線(xiàn) C．工件的厚度差 D．以上都是3.4?下面哪個(gè)因素的變化使最小可見(jiàn)對(duì)比度增大（）?A.粗粒膠片改用微粒膠片; Ｂ．底片黑度從1．5增大以２.5; C.影象寬度從0.2mm增大到0.4mm;?D.透過(guò)底片光強(qiáng)從30cｄ/ｍ２增大到10０cｄ/m2。3.5?射線(xiàn)底片上缺陷輪廓鮮明的限度叫做(） A.主因?qū)Ρ榷?B．顆粒度 C．清楚度?D．膠片對(duì)比度3．6 幾何不清楚度也可稱(chēng)為(） A．固有不清楚度?B．幾何放大 Ｃ.照相失真 D.半影３.7 射線(xiàn)透照的幾何不清楚度（）?A．與工件厚度成正比，與焦點(diǎn)尺寸成反比; B．與工件厚度成反比,與焦點(diǎn)尺寸成反比;?C.與焦點(diǎn)尺寸成正比，與焦距成反比; Ｄ．與焦點(diǎn)尺寸成反比，與焦距成正比。3.8?決定細(xì)節(jié)在射線(xiàn)底片上可記錄最小尺寸的是（)?A.對(duì)比度 B.不清楚度 C．顆粒度?D.以上都是３.９ 射線(xiàn)照相底片的顆粒性是由什么因素導(dǎo)致的?（)?A.影象顆?；蝾w粒團(tuán)塊的不均勻分布; Ｂ．底片單位面積上顆粒數(shù)的記錄變化; C.顆粒團(tuán)塊的重重疊疊；?D．以上都是。３.1０?下列四種因素中，不能減小幾何不清楚度的因素是（）?A.射源到膠片的距離；?B.膠片到工件的距離; Ｃ.射源的強(qiáng)度；?D.射源的尺寸。３.１1 減小幾何不清楚度的方法是() Ａ．選用焦點(diǎn)較大射源； B.使用感光速度較快的膠片; C.增大射源到膠片的距離； D．增大工件到膠片的距離。3.12 固有不清楚度與下列哪一因素有關(guān)（)?Ａ．源尺寸; B.膠片感光度; C.膠片粒度； D.射線(xiàn)能量3.13 為了提高透照底片的清楚度,選擇焦距時(shí),應(yīng)當(dāng)考慮的因素是（)?A.射源的尺寸,射源的強(qiáng)度,膠片類(lèi)型； Ｂ.工件厚度,膠片類(lèi)型,射源類(lèi)型;?C.射源強(qiáng)度,膠片類(lèi)型，增感屏類(lèi)型； Ｄ.射源尺寸，幾何不清楚度,工件厚度。3.１４?下列四種因素中對(duì)底片的清楚度無(wú)任何影響的是（） Ａ.射源的焦點(diǎn)尺寸 Ｂ.增感屏的類(lèi)型； C.射線(xiàn)的能量?D．底片的黑度3.15 下列哪一種情況對(duì)膠片梯度和底片顆粒度同時(shí)產(chǎn)生影響？()?Ａ.改變KV值 B.改變焦距?C．改變ｍA值 Ｄ.改變底片的黑度３.１6 在射線(xiàn)照相中，使缺陷影象發(fā)生畸變最重要的因素是（) A．射源尺寸 Ｂ．射源到缺陷的距離 C.缺陷到膠片的距離 D.３.17?下面關(guān)于幾何修正系數(shù)σ的敘述,哪一條是錯(cuò)誤的?（) Ａ.當(dāng)缺陷尺寸小于射源尺寸時(shí),才需要引入σ對(duì)底片對(duì)比度進(jìn)行修正； B.σ值越小，幾何條件對(duì)底片對(duì)比度的影響越大； C.為提高σ而改變透照布置，常用的方法是增大焦距； D.為提高底片對(duì)比度,應(yīng)盡量采用σ>1的透照布置。3．1８?當(dāng)象質(zhì)計(jì)金屬絲影象寬度小于某一特定值時(shí),其最小可見(jiàn)對(duì)比度ΔDmin值?()?A.隨影象寬度的減小而減小;?Ｂ．隨影象寬度的減小而增大；?C.不隨影象寬度而變化; D.在某一影象寬度處有一極大值。３.19?透照有余高的焊縫時(shí)，為使象質(zhì)計(jì)金屬絲在焊縫和母材部位得到相同顯示，應(yīng)（）?A．根據(jù)焊縫的余高選擇合適的射線(xiàn)能量;?Ｂ.盡量選擇較高能量射線(xiàn)； C.盡量選擇較低能量射線(xiàn)； D.以上都不對(duì)。3.20 以下哪一個(gè)參數(shù)不被認(rèn)為是影響裂紋檢出的關(guān)鍵參數(shù)（) A.長(zhǎng)度L?B.開(kāi)口寬度W C.自身高度d D.裂紋與射線(xiàn)角度3.２1 透照板厚一定且有余高的焊縫,散射比隨有效能量的提高而(）?A.增大?B.減小?C.不變?Ｄ.不一定3．2２ 用單壁外透法透照同一筒體時(shí),如不考慮焦點(diǎn)投影尺寸的變化，縱縫Uｇ與環(huán)縫Ug的區(qū)別是:在一張底片的不同部位（) Ａ.縱縫Ug值各處都同樣,而環(huán)縫Ug隨部位而變化;?Ｂ．環(huán)縫Uｇ值各處都同樣，而縱縫Ｕg值隨部位而變化；?C.無(wú)論縱縫、環(huán)縫,Ug值在任何部位都相同，不發(fā)生變化;?D．以上都不是。３.2３?用置于透照區(qū)中心附近的鉑——鎢雙絲透度計(jì)可以從射線(xiàn)底片上測(cè)出一定管電壓下的()?A.吸取系數(shù); B．散射因子； C．固有不清楚度； D．形狀修正系數(shù)。3.2４?下列哪一因素的變化不會(huì)改變射線(xiàn)照相的主因?qū)Ρ榷龋? Ａ.試件的材質(zhì)； B.射線(xiàn)的能譜; Ｃ．散射線(xiàn)的分布;?D．毫安分或居里分。3.25 下列哪一因素對(duì)照相底片顆粒性無(wú)明顯影響？() Ａ．顯影限度；?Ｂ.使用鉛增感屏； C.射線(xiàn)穿透力；?Ｄ.使用熒光增感屏。3.26 工件中靠近射源一側(cè)的缺陷圖像，在下列哪種情況下清楚度最差?(） A.焦距增大;?B．焦點(diǎn)尺寸減小； C.工件厚度增大; Ｄ.膠片與工件距離減小。3.27 如何提高射線(xiàn)底片的信噪比?（) A.增長(zhǎng)曝光量;?B．提高管電壓； C.增大焦距； D．膠片與工件距離減小。3.28 下列哪一參數(shù)不是影響小缺陷射線(xiàn)照相清楚度和對(duì)比度的共同因素??()?A.焦點(diǎn)或射源尺寸； B.黑度; Ｃ.焦距；?Ｄ．射線(xiàn)線(xiàn)質(zhì)。3.29?在什么條件下尺寸較大的源攝得的射線(xiàn)底片質(zhì)量可與尺寸較小的源相稱(chēng)? （） A.增大源到膠片距離; B．采用較厚的鉛增感屏；?C.使用速度快的膠片; D.縮短曝光時(shí)間。3.３０ 決定缺陷在射線(xiàn)透照方向上可檢出最小厚度差的因素是(） Ａ．對(duì)比度?Ｂ．不清楚度?B．顆粒度?Ｄ.以上都是3.31?膠片與增感屏貼合不緊，會(huì)明顯影響射線(xiàn)照相的（)?A.對(duì)比度 B.不清楚度 Ｃ.顆粒度 Ｄ.以上都是3.32 以下有關(guān)d′的敘述,哪一條是錯(cuò)誤的（)?A.d′值與df成正比?B.ｄ′值與L1、L2成反比?C.d′小于缺陷寬度W時(shí)，底片上缺陷影象有本影，對(duì)比度根據(jù)缺陷形狀進(jìn)行修正?Ｄ.d′大于缺陷寬度W時(shí)，底片上缺陷影象無(wú)本影，對(duì)比度急劇下降3．3３ 以下關(guān)于信息理論在射線(xiàn)照相方面的論述,哪一條是錯(cuò)誤的（)?A.所謂“噪聲”即是底片的顆粒度 B.信噪比是指缺陷影象對(duì)比度ΔD與噪聲σD之比?C.只要信噪比大于１，缺陷就可以辨認(rèn) D.信噪比越大，缺陷辨認(rèn)就越容易３.34 按某種透照幾何條件計(jì)算出直徑0.32mm的象質(zhì)計(jì)金屬絲影象對(duì)比度修正系數(shù)σ=0.５，這意味著（）?Ａ.金屬絲影象黑度為0．5； Ｂ.金屬絲影象對(duì)比度為0.5； C.?D.以上都不對(duì)３.3５ 以下哪一種措施不能提高射線(xiàn)照相的信噪比（) Ａ.使用速度更慢的膠片 B.增長(zhǎng)曝光量?C.提高底片黑度?D.提高射線(xiàn)能量3．36?計(jì)算的不清楚度最常用的計(jì)算公式是（）?A.U＝Uｇ＋Ｕi B.?C.?D.4.１ 按照“高靈敏度法”的規(guī)定，Ｉr192射線(xiàn)適宜透照鋼的厚度范圍是(） A.20-80mｍ;?B．30－100mm；?Ｃ.6－1０0mm;?D.2０-１20mm。4.2?大約在哪一厚度上,Ir192射線(xiàn)配合微粒膠片照相的靈敏度與Ｘ射線(xiàn)配合中粒膠片照相的靈敏度大體相稱(chēng)（) A．10-20mm?B.20－３0mｍ?C.40-50mm D.80-９０ｍm4.３ 以下關(guān)于考慮總的不清楚度的焦距最小值Fmin的敘述，哪一條是錯(cuò)誤的（） A.Fmin值隨射源尺寸df的增大而增大； B.Fmin值隨固有不清楚度Uｉ的增大而增大；?Ｃ.Fmin值隨工件厚度Ｔ的增大而增大;?D.應(yīng)用Fｍin的同時(shí)應(yīng)考慮限制射線(xiàn)能量不能過(guò)高。４.4?GB3323標(biāo)準(zhǔn)中，AＢ級(jí)照相的Ｕg值的計(jì)算式是（)?A.?Ｂ.?Ｃ. D．4．5?雙壁雙影直透法一般用于多大直徑管子的環(huán)焊縫透照() Ａ.Φ89mm以下;?B．Φ７6?C．Φ20mm以下;?D．Φ1０4.6 以相同的條件透照一工件，若焦距縮短20%，曝光時(shí)間可減小多少?(） A．64%; B.3６%;?C.20％； Ｄ.８0%4．７?用半衰期為７5天的Ｉr192源在某時(shí)間對(duì)某工件透照時(shí)的曝光時(shí)間為４0分鐘;５個(gè)月后,用該源對(duì)同一工件透照，為得到同樣黑度的射線(xiàn)底片,曝光時(shí)間應(yīng)為:()?A.４0分鐘； B.2小時(shí)；?C.2小時(shí)40分；? D.４小時(shí)。4．８?若散射線(xiàn)忽略不計(jì)，當(dāng)透照厚度的增長(zhǎng)量相稱(chēng)于1/２半價(jià)層時(shí)，則膠片接受的照射量將減少多少？(） Ａ.２5%;?B.７0％；?C.41%； D.30％。4.9 射線(xiàn)能量200KV時(shí)，銅相對(duì)鋼的等效系數(shù)為1.4，對(duì)14mm Ａ.10mｍ；?B.２0mm；?Ｃ.14ｍm; Ｄ.4.10?對(duì)于厚度差較大的工件進(jìn)行透照時(shí)，為了得到黑度和層次比較均勻的底片,一般做法是(）?A．提高管電流；?B.提高管電壓;?C.增長(zhǎng)曝光時(shí)間； D.縮短焦距。4.11 在同一個(gè)暗盒中裝兩張不同感光速度的膠片進(jìn)行曝光的重要目的是（） A.為了防止暗室解決不妥而重新拍片；?B.為了防止探傷工藝選擇不妥而重新拍片;?C.為了防止膠片上的偽缺陷而重新拍片；?Ｄ.4.12 用雙膠片進(jìn)行射線(xiàn)照相，要裝兩張不同感光速度的膠片，其選片原則是：兩種膠片的特性曲線(xiàn)：(） A.應(yīng)在黑度軸上有些重合；?B．在黑度軸上無(wú)需重合； Ｃ.應(yīng)在lgE軸上有些重合;?D.在lgE軸上無(wú)需重合。4．13?鉛箔增感屏上的深度劃傷會(huì)在射線(xiàn)底片上產(chǎn)生黑線(xiàn),這是由于：（）?Ａ.鉛箔劃傷部位厚度減薄，對(duì)射線(xiàn)吸取減小,從而使該處透射線(xiàn)時(shí)增多; B．劃傷使鉛箔表面增大,因而發(fā)射電子的面積增大,增感作用加強(qiáng);?Ｃ.深度劃傷與膠片之間的間隙增大，散射線(xiàn)增長(zhǎng); D.以上都對(duì)。4.14 透照有余高的焊縫,下面哪一條件的變化不會(huì)導(dǎo)致散射比顯著增大？() Ａ.射線(xiàn)能量從200ＫeV減少到１00KeＶ； Ｂ.照射場(chǎng)范圍從Φ3０0mm增大到Φ５０0?C.試件厚度從2０mm增長(zhǎng)到４０mm?D.焊縫余高從２ｍm增長(zhǎng)到44.15?比較大的散射源通常是（)?A.鉛箔增感屏； B.暗盒背面鉛板;?C．地板和墻壁； D．被檢工件。4.１6?由被檢工件引起的散射線(xiàn)是()?A.背散射; Ｂ.側(cè)向散射; C.正向散射; D.全都是。4．17?射線(xiàn)探傷中屏蔽散射線(xiàn)的方法是（）?A.鉛箔增感屏和鉛罩; B.濾板和光闌；?Ｃ.暗盒底部鉛板；?D.以上全是。4.18 射線(xiàn)探傷時(shí),在膠片暗盒和底部鉛板之間放一個(gè)一定規(guī)格的Ｂ字鉛符號(hào),假如通過(guò)解決的底片上出現(xiàn)Ｂ的亮圖象，則認(rèn)為(）?A.這一張底片對(duì)比度高,象質(zhì)好； Ｂ．這一張底片清楚度高，靈敏度高； C.這一張底片受正向散射影響嚴(yán)重,象質(zhì)不符合規(guī)定; Ｄ.這一張底片受背向散射影響嚴(yán)重,象質(zhì)不符合規(guī)定。4.１9?在射線(xiàn)機(jī)窗口加濾板,在工件上加補(bǔ)償塊減小厚度差,以及采用多膠片法,都是為了()?A.校正不清楚度；?B.校正低密度; C.校正低對(duì)比度; D.校正低寬容度。4．２０ 置于工件和射源之間的濾板可以減少?gòu)墓ぜ呇剡M(jìn)入的散射線(xiàn),其因素是濾板（）?Ａ.吸取一次射線(xiàn)束中波長(zhǎng)較長(zhǎng)的成份;?B．吸取一次射線(xiàn)束中波長(zhǎng)較短的成份； C.吸取背散射線(xiàn); D.減少一次射線(xiàn)束的強(qiáng)度。4.２1 濾板的作用相稱(chēng)于（)?A.增長(zhǎng)毫安；?B.減少毫安;?C.增長(zhǎng)千伏；?Ｄ．減少千伏。4.22 已知Ｃo6０源的半衰期為5.3年,用一個(gè)新源進(jìn)行射線(xiàn)照相得到滿(mǎn)意的射線(xiàn)底片,兩年后用該源對(duì)同一工件按同樣條件進(jìn)行射線(xiàn)照相,為得到同樣的底片，曝光時(shí)間（)?Ａ.不變； B.約延長(zhǎng)10%?Ｃ.約延長(zhǎng)３0%?D.約延長(zhǎng)６0%4.23?用鉛箔增感,焦距1２00mm曝光時(shí)間８分鐘,得底片黑度１.５,現(xiàn)焦距為600?A．１.6分鐘?B.2分鐘?C.1.25分鐘 D.４分鐘4.２4?曝光因子中的管電流、曝光時(shí)間和焦距三者的關(guān)系是（)?A.管電流不變，時(shí)間與焦距的平方成反比； Ｂ.管電流不變,時(shí)間與焦距的平方成正比; Ｃ.焦距不變，管電流與曝光時(shí)間成正比； D.曝光時(shí)間不變,管電流與焦距成正比。4.２5 控制透照厚度比K值的重要目的是（)?A.提高橫向裂紋檢出率； B.減小幾何不清楚度; C.增大厚度寬容度; D.提高底片對(duì)比度。4.２6?對(duì)能量為1０0KV的射線(xiàn)，鋁的透照等效系數(shù)為０．０8,則對(duì)于厚度2５ｍm的鋁試件,應(yīng)選擇多少厚度鋼的曝光量（)?A.2５mm;?B.２ｍｍ; Ｃ.20mm； Ｄ.3ｍm。4.27?采用雙片曝光和雙片觀測(cè)的技術(shù),可以(）?A.增大對(duì)比度；?B.減小不清楚度; Ｃ.增大寬容度； D.減小顆粒度。4.２8?小徑管環(huán)焊縫雙壁雙影透照時(shí)，適合的曝光參數(shù)是（） A.較高電壓、較短時(shí)間； B．較高電壓、較長(zhǎng)時(shí)間; C.較低電壓、較短時(shí)間；?Ｄ.較低電壓、較長(zhǎng)時(shí)間。4.２9 小徑管橢圓透照的有效透照范圍長(zhǎng)度（)?Ａ.與焦距的平方成反比；?Ｂ.與焦距的平方成正比； Ｃ.與焦距成正比； D.與焦距無(wú)關(guān)。4．30?對(duì)鋼工件,大體在哪一透照厚度值上，使用CO60的照相效果比Ir１92更好一些:（) ?A.40ｍm Ｂ?Ｃ.80mｍ４．3１?曝光因子表達(dá)了哪幾個(gè)參數(shù)的互相關(guān)系(）?A.管電壓、管電流、曝光時(shí)間 B.管電壓、曝光量、焦距 C.管電流、曝光時(shí)間、焦距 D.底片黑度、曝光量、焦距4.３２?穿過(guò)試件較薄截面的射線(xiàn)會(huì)在相鄰厚截面下產(chǎn)生散射，從而對(duì)厚截面的影象產(chǎn)生影響，這種影響稱(chēng)為() A.康普頓散射?B.瑞利散射 C.邊蝕散射?D．固有不清楚度4.33?以下關(guān)于雙壁雙影直透法的敘述，哪一條是錯(cuò)誤的（)?Ａ.直透法一般只合用于直徑小于20mｍ的管子環(huán)焊縫照相； B.直透法比斜透法更易于探傷操作； C.直透法比斜透法更有助于檢出根部未熔合和未焊透;?D.直透法比斜透法更有助于判斷缺陷在焊縫中的位置。4.34 透照厚度為1５0mｍ Ａ.300ＫV攜帶式X射線(xiàn)機(jī) B．4２０KV移動(dòng)式X射線(xiàn)機(jī)?C.Ir19２γ射線(xiàn)源 D.Ｃo60γ射線(xiàn)源4.35 對(duì)厚度為15mm,直徑１０00 A．Iｒ1９2γ源,中心透照法 Ｂ.錐靶周向X射線(xiàn)機(jī),中心透照法 C.單向X射線(xiàn)機(jī)，外照法 D.平靶周向Ｘ射線(xiàn)機(jī)，中心透照法４.36 在哪一種情況下，底片的有效評(píng)估范圍會(huì)超過(guò)搭接標(biāo)記以外（） A.環(huán)縫雙壁單影透照，搭接標(biāo)記放在膠片側(cè); Ｂ．環(huán)縫單壁外透法，搭接標(biāo)記放在膠片側(cè)； Ｃ．縱縫單壁外透法，搭接標(biāo)記放在射源側(cè)；?D.環(huán)縫中心透照法搭接標(biāo)記放在膠片側(cè)。4．37?小徑管環(huán)焊縫照相的參數(shù)經(jīng)驗(yàn)有效厚度比Kｅ的用途是（)?A.為焦距選擇提供參考依據(jù); B．為偏移距離選擇提供參考依據(jù)；?C.為管電壓選擇提供參考依據(jù)； D.為曝光量選擇提供參考依據(jù)。４．３8 鍛件法蘭對(duì)接焊縫射線(xiàn)照相，提高照相質(zhì)量最重要的措施是()?A.提高管電壓增大寬容度 B.使用梯噪比高的膠片?C．使用屏蔽板減少“邊蝕” D．增大焦距提高小裂紋檢出率5.1?顯影的目的是(）?A.使曝光的金屬銀轉(zhuǎn)變?yōu)殇寤y; B.使曝光的溴化銀轉(zhuǎn)變?yōu)榻饘巽y；?C.去除未曝光的溴化銀; D.去除已曝光的溴化銀。５.２ 顯影液的重要成份是() A．還原劑和促進(jìn)劑； B.保護(hù)劑；?C.克制劑；?D.以上全是。５.３ 還原劑通常采用（）?A.亞硫酸鈉；?Ｂ.溴化鉀；?C．米吐?tīng)柡蛯?duì)苯二酚; Ｄ.碳酸鈉。5．４ 顯影液中的促進(jìn)劑通常采用（)?A.亞硫酸鈉; B.溴化鉀； C.菲尼銅; D.碳酸鈉。５.５ 顯影液中的保護(hù)劑通常采用(） A.亞硫酸鈉;?B.溴化鉀；1 C.菲尼銅；?D.碳酸鈉。5.6?顯影液中的克制劑通常采用() A.亞硫酸鈉; B.溴化鉀;?C.菲尼銅； D．氫氧化鈉。5.７ 顯影操作時(shí)，不斷攪動(dòng)底片的目的是（)?A．使未曝光的溴化銀粒子脫落；?B.驅(qū)除附在底片表面的氣孔,使顯影均勻，加快顯影; C.使曝過(guò)光的溴化銀加速溶解; D.以上全是。５．8?在顯影過(guò)程中應(yīng)翻動(dòng)膠片或攪動(dòng)顯影液,其目的是(） A.保護(hù)膠片，使其免受過(guò)大壓力； B．使膠片表面的顯影液更新; Ｃ.使膠片表面上未曝光的銀粒子散開(kāi)；?Ｄ.防止產(chǎn)生網(wǎng)狀皺紋。5．９ 顯影時(shí),哪一條件的變化會(huì)導(dǎo)致影象顆粒粗大？（）?Ａ.顯影液活力減少；?Ｂ.顯影液攪動(dòng)過(guò)度；?C