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文檔簡(jiǎn)介

第四章：超臨界水處理技術(shù)4.1超臨界流體一、定義

二、性質(zhì)

物性氣體（常溫、常壓）SCF液體（常溫、常壓）Tc,Pc~Tc,4Pc密度，g/cm3粘度,mPa.s自擴(kuò)散系數(shù),cm2/s0.0006~0.0020.01~0.030.1~0.40.2~0.50.01~0.030.1×10-30.4~0.90.03~0.090.1×10-30.6~1.60.2~3.0（0.2~2）×10-5三、應(yīng)用原理

4.1.4常用流體臨界點(diǎn)應(yīng)用

4.2超臨界水氧化技術(shù)反應(yīng)機(jī)理

基本工藝流程

連續(xù)流動(dòng)超臨界水氧化反應(yīng)裝置超臨界水氧化分批微反應(yīng)器影響因素

壓力的影響

影響因素

溫度的影響

停留時(shí)間的影響溫度與TOC的關(guān)系氧化劑的濃度對(duì)速度的影響有機(jī)物的初始濃度對(duì)去除率的影響初始濃度與去除率的關(guān)系反應(yīng)動(dòng)力學(xué)催化劑對(duì)反應(yīng)的影響

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