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反滲透二氧化硅結(jié)垢表現(xiàn)及預(yù)防常規(guī)的水源中都會(huì)含有一定量的SiO2,SiO2在飽和的狀態(tài)下能聚合為難溶性的膠體硅,沉積在反滲透膜表面后會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)產(chǎn)水量急劇下降,運(yùn)行壓力大幅升高,脫鹽率出現(xiàn)明顯下降。SiO2結(jié)垢表現(xiàn)與碳酸鈣、硫酸鈣結(jié)垢的表現(xiàn)也有較大差異,從膜元件外觀上很難發(fā)現(xiàn)析出的結(jié)垢物質(zhì),并且較難通過(guò)化學(xué)清洗恢復(fù)性能。下面通過(guò)一個(gè)案例進(jìn)行說(shuō)明。01系統(tǒng)配置排列方式:一級(jí)三段式,膜殼排布3:2:1,采用6芯膜殼設(shè)計(jì)回收率:87.5%設(shè)計(jì)運(yùn)行通量:16.4LMH設(shè)計(jì)產(chǎn)水量:21.9m3/h膜元件型號(hào):一段/二段TML20D-400,三段TM820V-40002運(yùn)行概述系統(tǒng)投運(yùn)不到一個(gè)月,現(xiàn)場(chǎng)兩套設(shè)備運(yùn)行壓力升高一倍,各段壓差無(wú)明顯變化;兩套設(shè)備產(chǎn)水量均下降一倍左右。產(chǎn)水電導(dǎo)上升,脫鹽率下降,化學(xué)清洗后表現(xiàn)更明顯。03案例分析原水為垃圾填埋場(chǎng)循環(huán)排污水,硬度1000mg/L,堿度500mg/L,二氧化硅220mg/L。通過(guò)澄清池預(yù)處理后,反滲透系統(tǒng)進(jìn)水電導(dǎo)4000-5000μS/cm,硬度240mg/L,堿度110mg/L,二氧化硅120mg/L,PH回調(diào)至7。運(yùn)行初期控制回收率80%左右,后產(chǎn)水量下降,回收率逐漸下降至60%左右?,F(xiàn)場(chǎng)單個(gè)膜殼取產(chǎn)水檢測(cè),A設(shè)備一段產(chǎn)水電導(dǎo)200μS/cm以內(nèi),二段、三段明顯異常,均為9000μS/cm;B設(shè)備一段產(chǎn)水電導(dǎo)300μS/cm以內(nèi),二段、三段均為2000μS/cm。后對(duì)A設(shè)備一二三段逐一進(jìn)行探針實(shí)驗(yàn),一段第六只膜殼位置產(chǎn)水電導(dǎo)有升高現(xiàn)象,二三段無(wú)明顯跳點(diǎn),與膜殼取樣口所測(cè)數(shù)值接近。取三段最后一支膜送檢進(jìn)行膜元件分析。04膜元件分析存在輕微超重現(xiàn)象,進(jìn)水側(cè)及濃水側(cè)端面觀察無(wú)明顯污染物。標(biāo)準(zhǔn)性能評(píng)價(jià)結(jié)果脫鹽率(92.96%)和產(chǎn)水量(1.6m3/d),脫鹽率和產(chǎn)水量都明顯下降。探針測(cè)試顯示產(chǎn)水電導(dǎo)率整體偏高,但無(wú)明顯突變點(diǎn)。觀察無(wú)明顯污染物,但SEM觀察膜表面覆蓋一層結(jié)垢物。膜片EDX元素分析主要含有O(52.41%),Si(18.17%),主要為二氧化硅結(jié)垢。膜片染色顯示背面無(wú)明顯滲漏。膜片標(biāo)準(zhǔn)性能評(píng)價(jià)脫鹽率(97.06%)和產(chǎn)水量(0.14m/d),膜片脫鹽率和產(chǎn)水量也明顯下降,與膜元件性能評(píng)價(jià)結(jié)果變化趨勢(shì)一致。05總結(jié)及運(yùn)行建議(1)SiO2結(jié)垢控制對(duì)反滲透系統(tǒng)的穩(wěn)定運(yùn)行至關(guān)重要,與系統(tǒng)運(yùn)行壓力、產(chǎn)水量及脫鹽率等息息相關(guān)。項(xiàng)目前期應(yīng)進(jìn)行充分和詳細(xì)的水質(zhì)分析,選擇合適的預(yù)處理工藝,反滲透系統(tǒng)回收率的選擇應(yīng)充分考慮濃水側(cè)SiO2含量(具體可耐受濃度以阻垢劑廠家推薦值為準(zhǔn))。另外,降低反滲透系統(tǒng)回收率、適當(dāng)提高水溫、適當(dāng)提高pH、預(yù)處理投加硅的分散劑等措施也能有效降低SiO2結(jié)垢風(fēng)險(xiǎn)。(2)建議在以下情況發(fā)生時(shí)及時(shí)進(jìn)行反滲透系統(tǒng)化學(xué)清洗:系統(tǒng)某段的進(jìn)水和濃水的壓差上升到初始?jí)翰钪档?50%;標(biāo)準(zhǔn)化的產(chǎn)水量降低了10%;標(biāo)準(zhǔn)化的透鹽率增加了20%。SiO2結(jié)垢發(fā)生時(shí),一般表現(xiàn)為運(yùn)行壓力上升,產(chǎn)水量下降,因?yàn)槲廴局饕l(fā)生在膜表面,壓差變化往往不明顯,建議在反滲透系統(tǒng)出現(xiàn)以上表現(xiàn)時(shí),及時(shí)進(jìn)行化學(xué)清洗的同時(shí),加強(qiáng)對(duì)SiO2等污染物的水質(zhì)檢測(cè)頻率。(3)SiO2結(jié)垢往往是從系統(tǒng)最后一支膜開(kāi)始,系統(tǒng)最后幾支膜的結(jié)垢情況會(huì)相對(duì)嚴(yán)重,產(chǎn)水減少或者幾乎不產(chǎn)水。建議定期對(duì)各段單支膜殼電導(dǎo)率進(jìn)行測(cè)試,從而快速發(fā)現(xiàn)產(chǎn)水電導(dǎo)異常的位置,進(jìn)而及時(shí)對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行診斷并采取相應(yīng)處理措施。(4)
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