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材料分析方法
課后練習(xí)題參考答案
2015-1-4
BY:二專(zhuān)業(yè)(7)學(xué)渣
材料科學(xué)與工程學(xué)院
第一章X射線(xiàn)物理學(xué)基礎(chǔ)
3.討論下列各組概念的關(guān)系
答案之一
(1)同一物質(zhì)的吸收譜和發(fā)射譜;
答:吸收〈AkB發(fā)射〈Aka發(fā)射
(2)X射線(xiàn)管靶材的發(fā)射譜與其配用的濾波片的吸收譜。
答:AkB發(fā)射(靶)〈入k吸收(濾波片)〈入ka發(fā)射(靶)。任何材料對(duì)X射線(xiàn)的吸收都有一
個(gè)Ka線(xiàn)和KB線(xiàn)。如Ni的吸收限為0.14869nm。也就是說(shuō)它對(duì)0.14869nm波長(zhǎng)及稍短波
長(zhǎng)的X射線(xiàn)有強(qiáng)烈的吸收。而對(duì)比0.14869稍長(zhǎng)的X射線(xiàn)吸收很小。Cu靶X射線(xiàn):Ka
=0.15418nmKB=0.13922nm。
(3)X射線(xiàn)管靶材的發(fā)射譜與被照射試樣的吸收譜。
答:Z靶WZ樣品+1或Z靶>>z樣品
X射線(xiàn)管靶材的發(fā)射譜稍大于被照射試樣的吸收譜,或X射線(xiàn)管靶材的發(fā)射譜大大小于被照
射試樣的吸收譜。在進(jìn)行衍射分析時(shí),總希望試樣對(duì)X射線(xiàn)應(yīng)盡可能少被吸收,獲得高的衍
射強(qiáng)度和低的背底。
答案之二
1)同一物質(zhì)的吸收譜和發(fā)射譜;
答:當(dāng)構(gòu)成物質(zhì)的分子或原子受到激發(fā)而發(fā)光,產(chǎn)生的光譜稱(chēng)為發(fā)射光譜,發(fā)射光譜的譜線(xiàn)
與組成物質(zhì)的元素及其外圍電子的結(jié)構(gòu)有關(guān)。吸收光譜是指光通過(guò)物質(zhì)被吸收后的光譜,吸
收光譜則決定于物質(zhì)的化學(xué)結(jié)構(gòu),與分子中的雙鍵有關(guān)。
2)X射線(xiàn)管靶材的發(fā)射譜與其配用的濾波片的吸收譜。
答:可以選擇'K剛好位于輻射源的Ka和KB之間的金屬薄片作為濾光片,放在X射線(xiàn)源
和試樣之間。這時(shí)濾光片對(duì)KB射線(xiàn)強(qiáng)烈吸收,而對(duì)Ka吸收卻少。
6、欲用Mo靶X射線(xiàn)管激發(fā)Cu的熒光X射線(xiàn)輻射,所需施加的最低管電壓是
多少?激發(fā)出的熒光輻射的波長(zhǎng)是多少?
答:eVk=hc/X
Vk=6.626xl0-34x2.998xl08/(1.602xl0-19x0.71xl0-10)=17.46(kv)
X0=1.24/v(nm)=1.24/17.46(nm)=0.071(nm)
其中h為普郎克常數(shù),其值等于6.626X10-34
e為電子電荷,等于1.602X10-19C
故需加的最低管電壓應(yīng)》17.46(kv),所發(fā)射的熒光輻射波長(zhǎng)是0.071納米。
7、名詞解釋?zhuān)合喔缮⑸洹⒎窍喔缮⑸?、熒光輻射、吸收限、俄歇效?yīng)
答:⑴當(dāng)x射線(xiàn)通過(guò)物質(zhì)時(shí),物質(zhì)原子的電子在電磁場(chǎng)的作用下將產(chǎn)生受迫振動(dòng),受迫振
動(dòng)產(chǎn)生交變電磁場(chǎng),其頻率與入射線(xiàn)的頻率相同,這種由于散射線(xiàn)與入射線(xiàn)的波長(zhǎng)和頻率一
致,位相固定,在相同方向上各散射波符合相干條件,故稱(chēng)為相干散射。
⑵當(dāng)x射線(xiàn)經(jīng)束縛力不大的電子或自由電子散射后,可以得到波長(zhǎng)比入射x射線(xiàn)長(zhǎng)的x
射線(xiàn),且波長(zhǎng)隨散射方向不同而改變,這種散射現(xiàn)象稱(chēng)為非相干散射。
⑶一個(gè)具有足夠能量的x射線(xiàn)光子從原子內(nèi)部打出一個(gè)K電子,當(dāng)外層電子來(lái)填充K空
位時(shí),將向外輻射K系x射線(xiàn),這種由x射線(xiàn)光子激發(fā)原子所發(fā)生的輻射過(guò)程,稱(chēng)熒光
輻射?;蚨螣晒?。
(4)指x射線(xiàn)通過(guò)物質(zhì)時(shí)光子的能量大于或等于使物質(zhì)原子激發(fā)的能量,如入射光子的能量
必須等于或大于將K電子從無(wú)窮遠(yuǎn)移至K層時(shí)所作的功W,稱(chēng)此時(shí)的光子波長(zhǎng)人稱(chēng)為K
系的吸收限。
⑸原子鐘一個(gè)K層電子被光量子擊出后,L層中一個(gè)電子躍入K層填補(bǔ)空位,此時(shí)多余的能
量使L層中另一個(gè)電子獲得能量越出吸收體,這樣一個(gè)K層空位被兩個(gè)L層空位代替的過(guò)程
稱(chēng)為俄歇效應(yīng)。
第二章X射線(xiàn)衍射方向
2、下面號(hào)立方晶第物質(zhì)的幾個(gè)晶面,試將它們的面間唉從大到小按次序重新
排列:(12―w,(100),(200),(一311),(121),(111),(一210),(220),(130),
(030),(2-21),(110)。
答:立方晶系中三個(gè)邊長(zhǎng)度相等設(shè)為a,則晶面間距為d=a/則它們的面間距從大小到按次
序是:(100)、(110)>(111),(200)、(210)、(121),(220)、(221)、(030)、(130)、(311)、
(123)。
3.
3.當(dāng)波長(zhǎng)為人的x射線(xiàn)照射到晶體并出現(xiàn)衍射線(xiàn)時(shí),相鄰兩個(gè)(hkl)反射線(xiàn)的波程差是多少
兩個(gè)(hkl)
反射線(xiàn)的波程差又上多少?
相鄰兩個(gè)(hkl)晶面的波程差為人,相鄰兩個(gè)(HKL)晶面的波程差為0。
4、a-Fe屬立方晶體,點(diǎn)陣參數(shù)a=0.2866。如用CrKaX射線(xiàn)(入=0.2291mm)
照射,試求(110)、(200)及(211)可發(fā)生衍射的掠射角。
答:立方晶系的晶面間距:=a/,布拉格方程:2dsin。=入,故掠射角。=aresin(X/2),
由以上公式得:2d(llO)sin。1=X,得01=34.4°,同理92=53.1°,93=78.2°。
第三章X射線(xiàn)衍射強(qiáng)度
3、洛倫茲因數(shù)是表示什么對(duì)衍射強(qiáng)度的影響?其表達(dá)式是綜合了哪幾個(gè)方面考
慮而得出的?
答:洛倫茲因數(shù)是表示幾何條件對(duì)衍射強(qiáng)度的影響。洛倫茲因數(shù)綜合了衍射積分強(qiáng)度,參加
衍射的晶粒分?jǐn)?shù)與單位弧長(zhǎng)上的積分強(qiáng)度。
4、多重性因數(shù)的物理意義是什么?某立方第晶體,其{100}的多重性因數(shù)是多
少?如該晶體轉(zhuǎn)變?yōu)樗姆较?,這個(gè)晶體的多重性因數(shù)會(huì)發(fā)生什么變化?為什么?
答:(1)表示某晶面的等同晶面的數(shù)目。多重性因數(shù)越大,該晶面參加衍射的幾率越大,相
應(yīng)衍射強(qiáng)度將增加。(2)其{100}的多重性因子是6;(3)如該晶體轉(zhuǎn)變?yōu)樗姆骄刀嘀匦砸?/p>
子是4;(4)這個(gè)晶面族的多重性因子會(huì)隨對(duì)稱(chēng)性不同而改變。
5.總結(jié)簡(jiǎn)單點(diǎn)陣、體心點(diǎn)陣和面心點(diǎn)陣衍射線(xiàn)的系統(tǒng)消光規(guī)律。?
答:簡(jiǎn)單點(diǎn)陣不存在系統(tǒng)消光,
體心點(diǎn)陣衍射線(xiàn)的系統(tǒng)消光規(guī)律是(h+k+l)偶數(shù)時(shí)出現(xiàn)反射,(h+k+l)奇數(shù)時(shí)消光。?
面心點(diǎn)陣衍射線(xiàn)的系統(tǒng)消光規(guī)律是h,k,l全奇或全偶出現(xiàn)反射,h,k,l有奇有偶時(shí)消光。
6、多晶體衍射的積分強(qiáng)度表示什么?今有一張用CuKa攝得的筲(體心立方)
的德拜相,試計(jì)算出頭4根線(xiàn)的相對(duì)積分強(qiáng)度(不計(jì)算A(9)和e-2M,以最強(qiáng)
線(xiàn)的強(qiáng)度為100)。頭4根線(xiàn)的(值如下:
線(xiàn)條
20.2°
202°
36.7。
43.6°
答:多晶體行射的積分強(qiáng)度表示晶體結(jié)構(gòu)與實(shí)驗(yàn)條件對(duì)行射強(qiáng)度影響的總和e
z=z—P時(shí)春)以6產(chǎn)
.032成
查附錄F(P314),可知
1+cos26
l+co$26)
in
l+cos261
sin6co$6
l+cos20
不考慮A(6)、e4P和M
11=100
M.135/14.12M3.45
Is=3.777/14.12=26.75
>2,911/14.12-20.62
頭4根線(xiàn)的相對(duì)積分強(qiáng)度分別為100、43.45、26.75、20.62。
第四章
第五章
L物相定性分析的原理是什么?對(duì)食鹽進(jìn)行化學(xué)分析與物相定性分析,所得信息有何
不同?
答:物相定性分析的原理:x射線(xiàn)在某種晶體上的衍射必然反映出帶有晶體特征的特定的
衍射花樣(衍射位置衍射強(qiáng)度I),而沒(méi)有兩種結(jié)晶物質(zhì)會(huì)給出完全相同的衍射花樣,所
以我們才能根據(jù)衍射花樣與晶體結(jié)構(gòu)一一對(duì)應(yīng)的關(guān)系,來(lái)確定某一物相。
對(duì)食鹽進(jìn)行化學(xué)分析,只可得出組成物質(zhì)的元素種類(lèi)(Na,CI等)及其含量,卻不能說(shuō)明其
存在狀態(tài),亦即不能說(shuō)明其是何種晶體結(jié)構(gòu),同種元素雖然成分不發(fā)生變化,但可以不同晶
體狀態(tài)存在,對(duì)化合物更是如此。定性分析的任務(wù)就是鑒別待測(cè)樣由哪些物相所組成。
2.物相定量分析的原理是什么?試述用K值法進(jìn)行物相定量分析的過(guò)程。
答:根據(jù)X射線(xiàn)衍射強(qiáng)度公式,某一物相的相對(duì)含量的增加,其衍射線(xiàn)的強(qiáng)度亦隨之增加,
所以通過(guò)衍射線(xiàn)強(qiáng)度的數(shù)值可以確定對(duì)應(yīng)物相的相對(duì)含量。由于各個(gè)物相對(duì)X射線(xiàn)的吸收
影響不同,X射線(xiàn)衍射強(qiáng)度與該物相的相對(duì)含量之間不成線(xiàn)性比例關(guān)系,必須加以修正。
這是內(nèi)標(biāo)法的一種,是事先在待測(cè)樣品中加入純?cè)兀缓鬁y(cè)出定標(biāo)曲線(xiàn)的斜率即K值。當(dāng)
要進(jìn)行這類(lèi)待測(cè)材料衍射分析時(shí),已知K值和標(biāo)準(zhǔn)物相質(zhì)量分?jǐn)?shù)as,只要測(cè)出a相強(qiáng)度la
與標(biāo)準(zhǔn)物相的強(qiáng)度Is的比值la/ls就可以求出a相的質(zhì)量分?jǐn)?shù)3a。
第六章*
第七章*
第八章電子光學(xué)基礎(chǔ)
5、電磁透鏡景深和焦長(zhǎng)主要受哪些因素影響?說(shuō)明電磁透鏡的景深大、焦長(zhǎng)長(zhǎng),
是什么因素影響的結(jié)果?假設(shè)電磁透鏡沒(méi)有像差,也沒(méi)有衍射Airy斑,即分
辨率極高,此時(shí)它的景深和焦長(zhǎng)如何?
答:景深受分辨本領(lǐng)和孔徑半角a的影響焦長(zhǎng)受分辨本領(lǐng)、放大倍數(shù)和孔徑半角的影響
電磁透鏡景深大、焦長(zhǎng)長(zhǎng),是孔徑半角a影響的結(jié)果分辨率極高,景深和焦長(zhǎng)將減?。ㄚ?/p>
于0)
第九章透射電子顯微鏡
(解答之一)4、分別說(shuō)明成像操作與衍射操作時(shí)各級(jí)透鏡(像平面與物平面)
之間的相對(duì)位置關(guān)系,并畫(huà)出光路圖。
答:如果把中間鏡的物平面和物鏡的像平面重合,則在熒光屏上得到一幅放大像,這就是電
子顯微鏡中的成像操作,如圖(a)所示。如果把中間鏡的物平面和物鏡的后焦面重合,則
在熒光屏上得到一幅電子衍射花樣,這就是電子顯微鏡中的電子衍射操作,如圖(b)所示。
(解答之二)4.分別說(shuō)明成像操作與衍射操作時(shí)各級(jí)透鏡(像平面與物平面)
之間的相對(duì)位置關(guān)系,并畫(huà)出光路圖。
答:成像操作時(shí)中間鏡是以物鏡的像作為物成像,然后由投影鏡進(jìn)一步放大投到熒光屏上,
即中間鏡的物平面與物鏡的像平面重合;衍射操作是以物鏡的背焦點(diǎn)作為物成像,然后由投
影鏡進(jìn)一步放大投到熒光屏上,即中間鏡的物平面與物鏡的背焦面重合。
第十章電子衍射
1.電子衍射與X射線(xiàn)衍射
電子衍射與X射線(xiàn)衍射相似,都是以滿(mǎn)足(或基本滿(mǎn)足)布拉格
方程作為產(chǎn)生衍射的必要條件。但由于電子波與X射線(xiàn)本身的一
些特性,使得二者的衍射有許多不同之處:1)電子波的波長(zhǎng)極短,
衍射角很小;2)電子衍射中,晶體倒易陣點(diǎn)會(huì)發(fā)生擴(kuò)展,增加了
與愛(ài)瓦爾德球相交的機(jī)會(huì),因而略為偏離布拉格條件的電子束也
能發(fā)生衍射;3)由于電子波長(zhǎng)短,反射球半徑很大,。角很小的
范圍內(nèi)反射球的球面可近似看成平面,從而可以認(rèn)為電子衍射產(chǎn)
生的衍射斑點(diǎn)大致分布在一個(gè)二維倒易截面內(nèi)。這為晶體分析帶
來(lái)很大方便;4)原子對(duì)電子的散射能力遠(yuǎn)高于它對(duì)X射線(xiàn)的散射
能力,因而電子衍射束的強(qiáng)度較大,拍攝衍射花樣的曝光時(shí)間僅需
幾秒鐘。
2.倒易點(diǎn)陣與正點(diǎn)陣之間關(guān)系如何?倒易點(diǎn)陣與晶體的電子衍射斑點(diǎn)之間
有何對(duì)應(yīng)關(guān)系?
第一問(wèn):1、倒易矢量垂直于正點(diǎn)陣中相應(yīng)的晶面,或平行于它的
法向。2、倒易點(diǎn)陣中的一點(diǎn)代表的正點(diǎn)陣中的一組晶面。3、倒易
矢量的長(zhǎng)度等于正點(diǎn)陣中相應(yīng)品面間距的倒數(shù)。第二問(wèn):1、衍射
斑點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的倒易矢量均基本滿(mǎn)足布拉格條件2、衍射斑點(diǎn)是倒易
點(diǎn)陣的與入射矢量垂直的零層倒易面的一部風(fēng)。3、標(biāo)準(zhǔn)電子衍射
花樣是標(biāo)準(zhǔn)零層倒易截面的比例圖像,關(guān)系為:R=Kg4、衍射斑點(diǎn)
所對(duì)應(yīng)的各倒易點(diǎn)的結(jié)構(gòu)因子均不為零5、偏離矢量小于Smax倒
易點(diǎn)才能出現(xiàn)在衍射花樣中。
4.畫(huà)出fee和bcc晶體的倒易點(diǎn)陣,并標(biāo)出基本矢量a*,b*,c*。
答:倒易點(diǎn)陣與正點(diǎn)陣互為倒易。
(課本124頁(yè)圖10-2)
5.何為晶帶定理
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