2020年中國光刻機(jī)行業(yè)前景分析報告產(chǎn)業(yè)競爭現(xiàn)狀與未來商機(jī)分析

提示：光刻機(jī)又稱掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備，是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最關(guān)鍵設(shè)備。光刻工藝決定了半導(dǎo)體線路的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗，一般可以分為無掩模光刻機(jī)和有掩模光刻機(jī)。

光刻機(jī)又稱掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備，是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最關(guān)鍵設(shè)備。光刻工藝決定了半導(dǎo)體線路的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗，一般可以分為無掩模光刻機(jī)和有掩模光刻機(jī)。

光刻機(jī)行業(yè)分類

數(shù)據(jù)來源：公開資料整理

從細(xì)分市場來看，市面上銷售的光刻機(jī)主要為EUV光刻機(jī)、ArF

lm光刻機(jī)、ArF

Dry光刻機(jī)、KrF光刻機(jī)和i-line光刻機(jī)。從2019年這五類光刻機(jī)的銷量情況來看，i-line光刻機(jī)的銷量最高，為116臺，其中Canon公司貢獻(xiàn)了50%以上。

2019年光刻機(jī)頭部企業(yè)銷售數(shù)量情況

數(shù)據(jù)來源：企業(yè)公報

目前，全球光刻機(jī)市場的主要企業(yè)即ASML，尼康(Nikon)和佳能(Canon)三家，從市場份額分布來看，2019年三家企業(yè)的合計市場份額就占到了全球光刻機(jī)市場的90%以上。其中，ASML憑借技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢，壟斷了EUV光刻機(jī)，獨(dú)占75%的市場份額，Nikon與Canon分別占據(jù)13%和6%的市場份額。

2019年全球光刻機(jī)市場競爭格局

數(shù)據(jù)來源：公開資料整理

而從國內(nèi)市場發(fā)展現(xiàn)狀來看，我國光刻機(jī)技術(shù)長期落后于發(fā)達(dá)國家，在工業(yè)現(xiàn)代化進(jìn)程中短板劣勢凸顯。不過，近幾年在國家政策扶持以及一批龍頭企業(yè)帶領(lǐng)下，我國光刻機(jī)技術(shù)飛速發(fā)展，例如長春光機(jī)所的“極紫外光刻(EUVL)關(guān)鍵技術(shù)研究”項(xiàng)目順利完成了驗(yàn)收前現(xiàn)場測試。但是在光刻機(jī)制造方面與世界頭部企業(yè)相比仍有一定的差距，行業(yè)研發(fā)進(jìn)度有待加快。

我國光刻機(jī)相關(guān)領(lǐng)先企業(yè)技術(shù)進(jìn)展情況光刻機(jī)設(shè)備領(lǐng)先企業(yè)已具備技術(shù)(nm)光刻機(jī)上海微電子90-130nm光刻機(jī)工作臺華卓精科65-130nm涂布顯影芯源微45-130nm去膠/清洗屹唐半導(dǎo)體5-130nm數(shù)據(jù)來源：公