6搪瓷制品和瓷釉術(shù)語第1部分：術(shù)語和定義1.范圍本文件界定了搪瓷制品和瓷釉相關(guān)領(lǐng)域的術(shù)語和定義。本文件適用于搪瓷制品和瓷釉及其相關(guān)領(lǐng)域的生產(chǎn)，設(shè)計，科技，貿(mào)易，檢測和管理等。2.規(guī)范性引用文件本文件沒有規(guī)范性引用文件。3.術(shù)語和定義3.1通用術(shù)語3.1.1基礎(chǔ)通用術(shù)語3.1.1.1搪瓷vitreousenamel；porcelainenamel琺瑯enamel通常是玻璃狀無機二氧化硅為主體的材料熔凝于基體金屬（3.1.1.5）上，并與金屬形成牢固結(jié)合的復(fù)合材料。3.1.1.2搪玻璃glass-linedsteel；glasscoatedsteel；glassedsteel具有較強的防腐蝕和耐溫抗壓性能的一類搪瓷，一般應(yīng)用于化工領(lǐng)域。3.1.1.3熔塊frit一定組成的無機原料經(jīng)混合、熔融并急劇冷卻后形成的無機玻璃質(zhì)材料。注：通常為粒狀或薄片狀，其中粒狀熔塊是由熔體排出到水中急冷而成，而薄片熔塊是由熔體在水冷輥滾壓下急3.1.1.4瓷釉enamel熔塊經(jīng)磨加黏土、電解質(zhì)及氧化色料后得到的物料。3.1.1.5基體金屬substrate用于表面涂覆瓷釉的金屬材料。3.1.1.6坯體basesubstrate用于涂覆瓷釉的半成品的總稱。3.1.2制備通用術(shù)語3.1.2.1金屬坯料metalblank待制作成型件的金屬材料。3.1.2.2金屬毛坯blank已切割的用于加工成品的未處理金屬板。3.1.2.3金屬坯體metalbody由金屬坯料支撐或鑄成的成型件。3.1.2.4粉坯bisquebody金屬坯體上涂覆瓷釉尚未進行高溫燒制的半成品。3.1.2.5素坯whiteware粉坯經(jīng)高溫燒制后得到的半成品。3.1.2.6花坯decoratedware素坯上用瓷釉裝飾得到的半成品。3.1.2.7配合料batch按瓷釉組成配制的原料的混合物。3.1.2.8熔體smelt處于熔融狀態(tài)的配合料。3.1.2.9釉漿slip由熔塊（3.1.1.3）、水和其它調(diào)整性能的物質(zhì)混合磨制而成的懸浮狀物料。3.1.2.10釉粉powderedfrit由熔塊磨制成的干粉料。3.1.2.11粉層bisque經(jīng)干燥后的粉坯涂層。3.1.2.12靜電干粉electrostaticpowder涂有包裹劑的搪瓷粉末，該包裹劑可攜帶靜電荷以傳輸一定粒徑的粒子。3.1.2.13干法鑄鐵搪瓷粉powderedenamel可通過篩分或蘸涂施加到熾熱的鑄鐵坯體上的瓷釉粉。3.1.2.14搪瓷制品enamelproduct以搪瓷工藝制作的產(chǎn)品。3.1.2.15搪玻璃設(shè)備glassedsteelequipment以搪玻璃工藝制作的設(shè)備。3.1.2.16熔制melting配合料在高溫下熔化成均勻熔體的過程。3.1.2.17表面處理surfacetreatment對金屬坯體表面進行的除污、除銹及沉積膜層等的過程。3.1.2.18涂搪enameling；application在經(jīng)過表面處理的金屬坯體上均勻涂覆一層或多層瓷釉的操作。3.1.2.19飾花decoration在素坯表面用瓷釉裝飾的過程。3.1.2.20燒成firing；burning粉層在規(guī)定溫度下熔燒成搪瓷的過程。3.1.2.21返修secondarytreatment搪瓷生產(chǎn)過程中修復(fù)變形的坯體或受損的瓷釉涂層的工序。3.1.3結(jié)構(gòu)通用術(shù)語3.1.3.1瓷層enamelcoating熔附于基體金屬上的瓷釉。3.1.3.2搪玻璃層glass-linedcoating熔附于基體金屬上的搪玻璃釉。3.1.3.3底釉層groundcoat對于多層搪瓷，直接與基體金屬接觸的瓷層。3.1.3.4面釉層covercoat對于多層搪瓷，涂覆于底釉層上的瓷層。3.1.3.5密著層adhesivelayer燒成后基體金屬和底釉層之間形成的過渡層。3.1.3.6氣泡結(jié)構(gòu)bubblestructure燒成后瓷層中的氣泡尺寸和空間分布。3.1.4設(shè)備通用術(shù)語3.1.4.1熔爐melter熔制瓷釉配合料的高溫爐。3.1.4.2燒成爐furnace燒成搪瓷的高溫爐。3.1.4.3燒成工具firingtools燒成過程中用作懸掛或支撐已涂搪坯體的工具。3.1.5金屬基材術(shù)語3.1.5.1搪瓷鋁enamelingaluminum適合用作涂搪的鋁基材。3.1.5.2搪瓷鑄鐵enamelingcastiron適合用作涂搪的鑄鐵基材。3.1.5.3搪瓷鋼板enamelingiron適合用作涂搪的鋼板基材。3.1.5.4冷軋鋼cold-rolledsteel經(jīng)退火的冷軋低碳鋼板。3.1.5.5熱軋鋼hot-rolledsteel經(jīng)高溫軋制和酸洗（3.2.9.2）的低碳鋼板。3.2搪瓷制備術(shù)語3.2.1熔塊組分術(shù)語3.2.1.1基體劑basestock形成熔塊基本網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)的主體物質(zhì)。3.2.1.2助熔劑flux降低配合料熔融溫度的物質(zhì)。3.2.1.3乳濁劑opacifier賦予或增強瓷層對光的漫反射能力的物質(zhì)。3.2.1.4密著劑adhesiveagent促進瓷釉與基體金屬在燒成過程中牢固結(jié)合的物質(zhì)。3.2.1.5氧化劑oxidizer增強燒成過程氧化氣氛的物質(zhì)。3.2.1.6著色劑colorant賦予瓷層以不同色彩的物質(zhì)。3.2.1.7抗氧化劑anti-scalecompound應(yīng)用于燒成工具和其他物品上的一種化合物，以減少在燒成(3.1.3.20)過程中氧化。3.2.1.8解凝劑,脫凝劑de-settingagent用于降低釉漿黏度（3.5.2.8）的電解質(zhì)。3.2.1.9抗菌劑biocide用于抑制發(fā)酵的有機添加劑(如膠類)。3.2.1.10中和劑neutralizer用于去除預(yù)處理后殘留在工件表面的多余酸或堿的試劑。3.2.1.11填充料pluggingcompound填料filler膩子狀釉料，用于填充鑄鐵件上的孔，以確保涂搪時表面光滑。3.2.1.12防銹劑rustinhibitor用于防止金屬氧化的化合物。3.2.1.13絲網(wǎng)油墨screeningink網(wǎng)印油墨screeningpaste陶瓷油墨ceramicink用作絲網(wǎng)印刷中的油墨，通常是懸浮在介質(zhì)中的助熔劑和顏料的混合物。3.2.1.14介質(zhì)medium調(diào)墨油squeegeeoil用于絲網(wǎng)油墨（3.2.1.13）中懸浮顏料和助熔劑（3.2.1.2）的油或油的混合物3.2.2瓷釉類型術(shù)語3.2.2.1透明釉transparentfrit燒成后基本保持透明或不乳濁的瓷釉。3.2.2.2色釉coloredfrit燒成后具有色彩的瓷釉。3.2.2.3乳濁釉opaquefrit燒成后表現(xiàn)出明顯漫反射、不透明特性的瓷釉。3.2.2.4回收釉wastefrit；reclaim回收經(jīng)處理后得到的瓷釉。3.2.2.5底釉ground-coatenamel涂覆在基體金屬（3.1.1.5）上形成底釉層的瓷釉。3.2.2.6面釉cover-coatenamel涂覆在底釉層上形成面釉層的瓷釉。3.2.2.7邊釉beadingenamel涂覆在坯體邊緣部的瓷釉。3.2.3底釉類型術(shù)語3.2.3.1鎳底釉nickelenamel以鎳的化合物作為密著劑的瓷釉。3.2.3.2鈷底釉cobaltenamel以鈷的化合物作為密著劑的瓷釉。3.2.3.3銻鉬底釉antimony—molybdenumenamel以銻和鉬的化合物作為密著劑的瓷釉。3.2.4面釉類型術(shù)語3.2.4.1鈦白釉titaniumenamel以鈦的化合物作為乳濁劑的瓷釉。3.2.4.2銻白釉antimonyenamel以銻的化合物作為乳濁劑的瓷釉。3.2.4.3鋯白釉zirconiaenamel以鋯的化合物作為乳濁劑的瓷釉。3.2.5特性瓷釉術(shù)語3.2.5.1搪玻璃釉enamelforglassedsteel制作搪玻璃的瓷釉。3.2.5.2耐酸釉acidresistantenamel對除氫氟酸外的酸溶液具有一定穩(wěn)定性的瓷釉。3.2.5.3耐堿釉alkaliresistantenamel對堿溶液具有一定穩(wěn)定性的瓷釉。3.2.5.4低溫釉lowtemperatureenamel燒成溫度相對較低的瓷釉。3.2.5.5發(fā)光釉luminousenamel含有一定組分的發(fā)光物質(zhì)，在外加能源激發(fā)下能發(fā)出可見光的瓷釉。3.2.5.6鑄鐵瓷釉castironenamel制作以鑄鐵為基體金屬的搪瓷的瓷釉。3.2.5.7鋁瓷釉aluminumenamel制作以鋁材為基體金屬的搪瓷的瓷釉。3.2.5.8銅瓷釉copperenamel制作以銅材為基體金屬的搪瓷的瓷釉。3.2.6釉漿、釉粉組成術(shù)語3.2.6.1磨加劑milladdition研磨熔塊時添加的能調(diào)整瓷釉性能的物質(zhì)。3.2.6.2停留劑setting-upaddition研磨熔塊時添加的用于調(diào)整釉漿流變性能的物質(zhì)。3.2.6.3電解質(zhì)electrolyte在釉漿中發(fā)生電離并吸附或排斥釉漿顆粒的物質(zhì)。3.2.6.4懸浮劑suspensionagent能使釉漿中顆粒呈懸浮狀態(tài)的物質(zhì)。3.2.6.5預(yù)處理劑cleaner用于去除金屬基材表面的油、脂、潤滑劑和松散氧化層的溶液。3.2.7釉漿、釉粉制備術(shù)語3.2.7.1干磨drygrinding熔塊在無液體介質(zhì)的條件下研磨成釉粉的過程。3.2.7.2濕磨wetgrinding熔塊在液體介質(zhì)中研磨成釉漿的過程。3.2.7.3陳化aging經(jīng)過磨制的釉漿或釉粉存放一定時間以穩(wěn)定其性能的過程。3.2.8金屬坯體制備術(shù)語3.2.8.1切片blankingdisking將金屬板材裁剪成一定形狀和尺寸的工序。3.2.8.2沖壓deepdraving使用沖壓機床和模具將金屬坯料壓制成型的工序。3.2.8.3剪卷trimmingandbeading；curing將金屬坯體邊緣剪齊并滾卷成型的工序。3.2.8.4拉胖，脹徑bulging將金屬坯體身體沿徑向均勻擴張和延展成型的工序。3.2.8.5收口necking將金屬坯體口徑尺寸均勻縮小的工序。3.2.8.6平皺，砑光roller-smoothing對金屬坯體表面在延壓過程中產(chǎn)生的波浪形深痕進行平整的工序。3.2.8.7割口edgetrimming將金屬坯體口部邊緣割齊的工序。3.2.8.8磨光finishing將金屬坯體表面（包括邊口、焊縫）的不平整處及夾鐵、毛刺等磨平的工序。3.2.9金屬坯體表面處理術(shù)語3.2.9.1脫脂degreasing用化學或熱處理除去金屬坯體表面油脂的過程。3.2.9.2酸洗pickling用一定濃度的酸溶液除去金屬坯體表面氧化物和其他化合物的過程。3.2.9.3披鎳nickeldipping金屬坯體在鎳鹽溶液中產(chǎn)生電化學反應(yīng)使坯體表面沉積鎳膜的過程。3.2.9.4預(yù)燒pre-burning；annealing金屬坯體在一定溫度和時間下消除應(yīng)力、清除表面氧化物和油污雜質(zhì)的過程。3.2.9.5光亮退火bright-annealing金屬坯體在中性氣體中進行的預(yù)燒過程。3.2.9.6噴砂sandblasting用金剛砂、鋼丸等固體金屬、硅砂等礦物，或合成樹脂、植物顆粒等高速噴射到金屬坯體表面清除表面氧化物或其它雜質(zhì)的過程。3.2.9.7噴磨abrasiveblasting使用磨料對金屬坯體進行高速清潔或磨光的過程。3.2.9.8中和neutralization金屬坯體經(jīng)酸洗處理后用稀堿溶液除去殘留酸液的過程。3.2.9.9電解酸洗electrolysispickling以金屬坯體和酸洗槽作為電極，酸溶液作為電解質(zhì)進行酸洗的過程。3.2.9.10配色colourmatching配制與目標樣品顏色相近的過程。3.2.9.11拋丸gritblasting用不規(guī)則的小塊鋼件或可鍛鑄鐵高速撞擊金屬坯體進行表面清潔和研磨的過程3.2.9.12蒸氣脫脂vapourdegreasing通過溶劑蒸氣冷凝于被清洗的金屬坯體以去除油和油脂的過程。3.2.10涂搪工藝術(shù)語3.2.10.1干法涂搪dryprocessenameling,dredgingenameling將釉粉均勻涂覆于熾熱狀態(tài)的坯體表面的涂搪方法。3.2.10.2濕法涂搪wetprocessenameling將釉漿均勻涂覆于坯體表面的涂搪方法。3.2.10.3浸漬涂搪dippingenameling將坯體浸入釉漿后用手工或機械操作使釉漿均勻涂布于坯體表面的涂搪方法。3.2.10.4電泳涂搪electrophoresisenameling在直流電磁場作用下使釉漿顆粒泳動均勻沉積于坯體表面的涂搪方法。3.2.10.5澆注涂搪flushing；flowcoatingenamel將釉漿淋澆于坯體表面后用手工和機械操作使釉漿均勻涂布的涂搪方法。3.2.10.6流動涂搪drainingenameling具有良好流動性能的釉漿涂布于坯體表面后使坯體按一定軌跡運動以排去多余釉漿的涂搪方法。3.2.10.7真空涂搪vacuumenameling釉漿在外界壓力作用下進入真空狀態(tài)的坯體內(nèi)腔并均勻吸附于內(nèi)表面的涂搪方法。3.2.10.8靜電涂搪electrostaticenameling用靜電感應(yīng)方法使帶電荷的釉漿（或釉粉）均勻吸附于坯體表面的涂搪方法。3.2.10.9直接涂搪direct-on-enameling直接涂在金屬基體上的搪瓷涂層，用作底釉層或面釉層。3.2.10.10排漿drainprocess排除坯體表面多余釉漿使之涂布均勻的過程。3.2.10.11滾邊beadenameling將釉漿均勻涂覆于坯體邊緣部卷邊處的工序。3.2.10.12傳統(tǒng)涂搪conventionalenameling應(yīng)用于底釉和面釉，每次涂搪后都要進行燒制。3.2.10.13澆釉cupping在排漿（3.2.10.10）期間將搪瓷釉漿澆注在坯體區(qū)域上，以提高某些區(qū)域的覆蓋率3.2.10.14浸漬dipping通過將坯體浸入搪瓷釉漿中，然后通過排漿（3.2.10.10）去除多余的搪瓷。3.2.10.15干粉蘸涂dipping在干法涂搪（3.2.10.1）時，將熾熱的坯體短暫蘸取瓷釉粉的涂搪方法。3.2.10.16干噴dryspray通過干噴使制品呈現(xiàn)沙質(zhì)紋理。3.2.10.17熱灑涂hotdusting將瓷釉粉篩分涂敷在熾熱狀態(tài)的坯體表面。3.2.10.18通過傾倒、浸漬或?qū)⒂詽{淋澆于坯體表面，并通過搖晃去除多余的釉漿以獲得均勻的涂層。3.2.10.19粉末-粉末涂搪powder-powderenameling在未燒制的粉末底釉層上施加粉末面釉涂層，然后進行燒成。3.2.10.20去邊釉de-beading去除浸漬制品邊緣多余的搪瓷釉漿。3.2.10.21造粒fritting將熔融瓷釉淬冷并粉碎成易碎的小熔塊顆粒的過程。3.2.10.22邊部涂搪rimenameling；beading搪瓷制品邊部的涂搪工藝。3.2.11飾花工藝3.2.11.1印花printing色釉釉漿透過印刷模板轉(zhuǎn)移到素坯表面的飾花方法。3.2.11.2噴花sprayingdecoration色釉釉漿噴射到罩有花模板的素坯表面的飾花方法。3.2.11.3移花transferdecoration將貼花紙上的圖案色釉轉(zhuǎn)移到素坯表面的飾花方法。3.2.11.4刷花brush-decoration花模板覆蓋于粉坯表面，用刷子除去模板鏤空處的干燥涂層形成圖案的飾花方法。3.2.11.5堆花fillingdecoration；polingdecoration色釉逐點堆積于素坯表面形成立體圖案的飾花方法。3.2.11.6灑冰花speckingdecoration色釉釉漿灑在素坯表面形成不規(guī)則圖案的飾花方法。3.2.11.7噴影光shading色釉釉漿由淺到深局部噴射到素坯表面的飾花方法。3.2.11.8描金golddepicting用金水在制品上勾圖和繪邊的飾花方法。3.2.11.9照相飾花photographicdecoration在含有感光材料的瓷層表面用照相法飾花的方法。3.2.11.10貼花紙decal轉(zhuǎn)移花紙transfer用油墨將圖案或文字印刷在紙上并轉(zhuǎn)移到已燒成的搪瓷表面，重新燒制后可形成裝飾層的一種花3.2.12燒成工藝術(shù)語3.2.12.1涂覆釉漿的坯體在一定溫度下干燥的過程。3.2.12.2粉涂dustcoat相對較薄的搪瓷釉粉涂層。3.2.12.3直接火燒成directfiring粉坯或花坯與火焰直接接觸的燒成方法。3.2.12.4間接火燒成indirectfiring粉坯或花坯與火焰互相隔離的燒成方法。3.2.12.5感應(yīng)燒成inductionfiring粉坯或花坯在以電磁感應(yīng)熱源作用下進行燒成的方法。3.2.12.6輻射管燒成radiant-tubefiring粉坯或花坯在金屬輻射管產(chǎn)生的輻射熱作用下進行燒成的方法。3.2.12.7燒花decoratefire；decoratingfire花坯的燒成過程。3.2.12.8氣封airseal氣幕aircurtain加壓空氣流過連續(xù)燒成爐（3.3.3.2）的入口和出口，防止熱量從爐中逸出。3.2.13返修工藝術(shù)語3.2.13.1補粉touchup用少量釉漿涂覆瓷面不完整處的過程。3.2.13.2回燒reburning在前一工序條件下再次燒成的過程。3.2.13.3修補repairing對瓷層表面不完整處進行修復(fù)的過程。3.2.13.4除瓷de-enameling除去素坯或制品表面瓷層的過程。3.2.13.5補燒架印patchingoffiringtoolmarks對燒成時瓷層表面留下的燒成工具印痕進行補瓷的過程。3.2.13.6磨修stoning用小砂輪等磨具磨去瓷層表面不平整處的過程。3.2.13.7修邊edging去除搪瓷制品邊緣粉層以露出底層搪瓷的過程。3.2.14工藝參量術(shù)語3.2.14.1熔化溫度meltingtemperature配合料在高溫條件下以一定的熔化速率形成熔體的溫度范圍。3.2.14.2軟化溫度softeningtemperature瓷釉在加熱條件下開始流動的溫度。3.2.14.3浸漬量plateweight經(jīng)浸漬涂搪（3.2.10.3）的坯體表面單位面積所留存的釉漿量。3.2.14.4流漿時間draintime經(jīng)浸漬、流動和澆注等方法涂搪的坯體表面的釉漿流淌結(jié)束所需的時間3.2.14.5干重dryweight經(jīng)烘干的粉坯表面單位面積粉層量。3.2.14.6粉層強度biscuitstrength粉坯上干燥涂層經(jīng)受外力作用而無損傷的能力。3.2.14.7燒成溫度firingtemperature粉坯燒制成搪瓷所需的特定溫度。3.2.14.8燒成時間firingtime粉坯燒制成搪瓷所需的時間。3.2.14.9燒成幅度firingrange燒成過程所允許的時間和溫度范圍。3.2.14.10重新升溫時間comeback；reheatingtime處于低溫狀態(tài)的燒成爐再次升溫到燒成溫度所需的時間。3.2.14.11輸送鏈速度chainspeed連續(xù)燒成爐（3.3.3.2）中輸送鏈的運轉(zhuǎn)速度。3.2.14.12瓷層厚度coatingthickness瓷層表面到基體金屬表面的垂直距離。3.2.14.13粉末粘附力adhesionofpowder搪瓷粉末在燒制前通過靜電引力保持附著在接地基材上的能力。3.2.14.14膨脹系數(shù)coefficientofexpansion在一定的溫度間隔內(nèi)，試樣的膨脹量與溫度間隔及試樣初始尺寸之比。表征在溫度升高時瓷層的膨脹性能。3.2.14.15恢復(fù)時間recoverytime恢復(fù)comeback加入一批半成品后，爐子溫度恢復(fù)到原溫度所需的時間。3.2.14.16噴霧速率spray-rate單位時間內(nèi)噴槍噴出的釉漿量或粉末量。3.3設(shè)備、工具術(shù)語3.3.1熔制設(shè)備3.3.1.1坩堝爐potfurnace用坩堝熔制配合料的熔爐。3.3.1.2間歇式熔爐batchsmelter；discontinuoussmelter以一定周期間隔供料、熔融和出料的熔爐。3.3.1.3連續(xù)式熔爐continuoussmelter連續(xù)排出熔料的熔爐。3.3.1.4回轉(zhuǎn)式熔爐rotarysmelter繞水平軸緩慢轉(zhuǎn)動以連續(xù)攪拌熔料的熔爐。3.3.1.5電熔爐electricsmelter以電加熱方式熔制配合料的熔爐。3.3.1.6直接燒成爐directfiredfurnace明火爐。3.3.2涂搪設(shè)備、工具3.3.2.1涂搪機machineforenameling利用機械在坯體上涂覆釉漿的裝置。3.3.2.2打印滾邊機machineforstampingandedging能連續(xù)完成打印和滾邊軸工序的機械裝置。3.3.2.3壓力罐pressuretank能以壓縮空氣壓出釉漿的容器。3.3.2.4浸漬缸diptank以金屬作為襯里材料貯存釉漿的容器。3.3.2.5噴涂室spraybooth開有噴釉窗口的倉室、內(nèi)設(shè)排風和瓷釉回收系統(tǒng)。3.3.2.6灑粉篩子dredge用于干法涂搪的具有一定孔徑的篩子。3.3.2.7帶罐噴槍cupspraygun3.3.2.8球磨機ballmill以石球或瓷球等為磨料的圓筒形旋轉(zhuǎn)磨機。3.3.2.9孔刷bolt-holebrush用于清除制品小開口及周圍的搪瓷粉層的刷子。3.3.2.10脫碳鋼decarburizedsteel零碳鋼zerocarbonsteel碳含量極低的特種鋼板。3.3.2.11福特杯fordcup用于測量粉末通過指定體積流出時間的裝置。3.3.2.12再循環(huán)浸漬缸re-circulatingdiptank配有使內(nèi)容物持續(xù)循環(huán)流動裝置的容器。3.3.2.13釉漿稠度計slipgauge測量釉漿稠度的工具。3.3.2.14噴槍spraygun一種通過調(diào)節(jié)施用量、霧化程度和噴霧模式將霧化的搪瓷釉漿或粉末涂層涂到部件上的裝置。3.3.3燒成設(shè)備術(shù)語3.3.3.1箱式燒成爐boxfurnace按一定周期間歇完成燒成過程的燒成爐。3.3.3.2連續(xù)燒成爐continuousfurnace能連續(xù)完成粉坯或花坯的進爐、預(yù)熱、燒成、冷卻、出爐等流程的燒成爐。3.3.3.3輻射管燒成爐tubefurnace以燃燒氣體通過合金管道所產(chǎn)生的輻射熱進行燒成的隔焰爐。3.3.3.4U形燒成爐U-typefurnace具有U字形輸送軌道的連續(xù)燒成爐。3.3.3.5預(yù)熱區(qū)preheatzone烘干的粉坯在燒成前進行預(yù)先加熱的區(qū)域，系連續(xù)燒成爐的組成部分。3.3.3.6冷卻區(qū)coolingzone能使處于熾熱狀態(tài)的燒成品按一定速率冷卻的區(qū)域，系連續(xù)燒成爐的組成部分。3.3.3.7燒成區(qū)firingzone燒成爐中溫度維持在燒成溫度的區(qū)域。3.3.3.8馬弗爐mufflefurnace具有燒成室的隔焰爐，其熱量通過室壁傳遞。3.3.3.9燒成區(qū)域firingzone通常是一個連續(xù)燒成爐的一部分，制品在燒成時間內(nèi)通過該區(qū)域。3.3.4燒成工具術(shù)語3.3.4.1燒車forktruck將大型搪瓷制品或搪瓷玻璃制品送入或移出燒成爐的工具車。3.3.4.2燒叉fork將待燒的粉坯、花坯等移入或取出箱式燒成爐的金屬工具。3.3.4.3燒架buck，burningtool燒架支撐桿burningbar燒架支撐點burningpoint燒成時支撐制品的支架。3.3.4.4多層燒架decking分層放置粉坯、花坯的燒架。3.3.4.5梳齒支架comb—rack用以一定間隔排列的支撐桿組成的支架。3.3.4.6吊架hangingracks由耐熱震性和抗氧化性強的合金制成的懸吊式燒成工具。3.3.4.7修邊刷edgingbrush用于在燒制操作前從制品邊緣去除搪瓷粉層的金屬絲硬刷。3.3.4.8酸浸筐picklebasket由耐腐蝕材料制成的容器，用于在酸洗（3.2.9.2）過程中盛放金屬坯體。3.3.4.9三角燒架trianglebars三面支撐的燒架。3.4搪瓷制品術(shù)語3.4.1按工藝分類3.4.1.1一次燒成制品one-firefinish金屬坯體上涂覆一層或多層瓷釉經(jīng)一次燒成的制品。3.4.1.2一次搪瓷制品one-coatware金屬坯體上僅涂覆一層瓷釉的制品。3.4.1.3面釉單搪制品one-cover-coatware底釉層上涂覆一層面釉的制品。3.4.1.4面釉雙搪制品two-cover-coatware底釉層上涂覆兩層面釉的制品。3.4.1.5兩面搪瓷制品doubleware金屬坯體的兩面或里外均涂覆瓷釉的制品。3.4.1.6兩搪一燒制品twocoat-onefireenameling已涂上底釉和面釉經(jīng)一次燒成的搪瓷制品。3.4.2按材質(zhì)分類3.4.2.1鋼板搪瓷sheetsteelenamel以鋼板作為基體金屬的搪瓷。3.4.2.2鑄鐵搪瓷castironenamel以鑄鐵作為基體金屬的搪瓷。3.4.2.3銅搪瓷copperenamel以銅或銅合金作為基體金屬的搪瓷。3.4.2.4鋁搪瓷aluminumenamel以鋁或鋁合金作為基體金屬的搪瓷。3.4.2.5不銹鋼搪瓷stainlesssteelenamel以不銹鋼作為基體金屬的搪瓷。3.4.3按特性分類3.4.3.1啞光搪瓷mattenamel低光澤度的搪瓷。3.4.3.2微晶搪瓷ceramic—glassenamel瓷層中含有微晶體的搪瓷。3.4.3.3吸熱搪瓷eat-absorbingenamel瓷層中含有能吸收紅外線物質(zhì)的搪瓷。3.4.3.4發(fā)光搪瓷luminescentenamel瓷層中含有能在外界能源激發(fā)下產(chǎn)生可見光物質(zhì)的搪瓷。3.4.3.5無光搪瓷mattenamel瓷層表面基本無可見光反射的搪瓷。3.4.3.6醫(yī)療生化搪瓷medicalandbiochemicalenamel瓷層中包含具有醫(yī)療生化功能的特種元素的搪瓷。3.4.3.7纖維增強搪瓷fiber—reinforcedenamel瓷層中含有無機纖維（或晶須）的搪瓷。3.4.3.8自潔搪瓷self—cleaningenamel.在烘烤過程中表面油脂斑跡能自行消失的搪瓷。3.4.3.9催化自潔搪瓷catalyticenamel；self-cleanenamel在一定溫度下能使油污自行分解、揮發(fā)的搪瓷。3.4.4按用途分類術(shù)語3.4.4.1日用搪瓷domesticenamel制作面盆，口杯，燒器，食具等制品的搪瓷總稱。3.4.4.2衛(wèi)浴搪瓷sanitaryenamel制作浴盆，盥水器，便器等制品的搪瓷總稱。3.4.4.3建筑搪瓷architecturalenamel制作墻板，壁面，屋頂，門窗和管道制品的搪瓷總稱。3.4.4.4珍寶搪瓷jewelersenamel在銅或其他貴金屬坯體上涂覆色釉制成的搪瓷工藝品。3.4.4.5標牌搪瓷signenamel制作招牌，字牌，廣告牌，指示牌制品的搪瓷總稱。3.4.4.6搪玻璃容器glassedsteelvessels在金屬容器的表面搪燒搪玻璃釉的設(shè)備。3.4.4.7搪玻璃壓力容器glassedsteelpressure—vessels在金屬容器表面搪燒搪玻璃釉的壓力容器。3.4.4.8搪玻璃反應(yīng)罐glassedsteelchemicalreactor在一定溫度及壓力下能承受腐蝕性物質(zhì)進行化學反應(yīng)的搪玻璃容器。3.4.4.9日用制品（中空制品）hollowware炊具cookware烤箱用制品ovenware廚房用具如鍋、平底鍋和水壺、耐熱器皿等。3.4.5其他分類3.4.5.1自著色搪瓷self-mottledware在均勻顏色背景中添加一種或多種顏色的裝飾性搪瓷，通常由含有兩種或兩種以上對比色熔塊的漿料制成。3.4.5.2花崗搪瓷graniteware；mottledenamel一種顏色的顆粒出現(xiàn)在另一種顏色或陰影的均勻背景中的裝飾性飾面。3.4.5.3半透明搪瓷semi-opaqueenamel燒成后顯示半透明性的搪瓷層，透過該搪瓷層可以觀察到下面的部分涂層或基底。3.4.5.4書寫板搪瓷chalkboardenamel黑板搪瓷blackboardenamel用于粉筆或其他書寫筆書寫的搪瓷。3.4.5.5易清潔搪瓷easy-to-cleanenamelETC搪瓷ETCenamel搪瓷經(jīng)過專門配制，可輕松去除其表面的食物，污垢，沉積物等。3.4.5.6靜電搪瓷electrostaticenamel通過靜電形式將搪瓷粉吸附到金屬基板上，并燒制成的搪瓷。3.4.5.7預(yù)磨粉ready-to-useenamelRTU搪瓷RTUenamel用于濕法加工的預(yù)研磨搪瓷混合物，應(yīng)在使用前與水混合，篩分即用。3.5理化和技術(shù)性能術(shù)語3.5.1熔塊性能3.5.1.1熔度fusibility固態(tài)熔塊在加熱條件下熔化成液態(tài)的難易程度。3.5.1.2熔流性fusionflow熔融的液態(tài)瓷釉的相對流動性能。3.5.2釉粉、釉漿性能3.5.2.1細度fineness經(jīng)過干磨或濕磨的瓷釉顆粒度，一般用通過規(guī)定孔徑標準篩后的剩余量衡量。3.5.2.2稠度consistency表征釉漿的流變特性。3.5.2.3懸浮性suspension釉漿顆粒呈懸浮狀態(tài)的特性。3.5.2.4停留性setup，set釉漿在坯體表面排流及滯留的特性。3.5.2.5流動性fluidity靜電粉在充氣時形成懸浮狀流動的現(xiàn)象。3.5.2.6流變性rheology釉漿的流動特性。3.5.2.7觸變性thixotropy懸浮液在搖動或攪拌時黏度降低的特性。3.5.2.8黏度viscosity流體的粘滯阻力系數(shù)。3.5.3搪瓷制品性能3.5.3.1瓷層連續(xù)性continuityofcoating瓷層上出現(xiàn)發(fā)沸（3.6.2.12）、針孔（3.6.2.1）、氣泡（3.6.2.15）、銅頭（3.6.2.21）等影響耐腐蝕性能的缺陷的程度。3.5.3.2密著性adherence表征底釉層與基體金屬之間結(jié)合強度的性能。3.5.3.3殘余應(yīng)力residualstress殘存于瓷層內(nèi)部的應(yīng)力。注：因底釉層與基體金屬之間、底釉層與面釉層之間膨脹系數(shù)不匹配，或者金屬坯3.5.3.4遮蓋力coveringpower瓷層遮蓋基體金屬或底釉層不被暴露的能力。3.5.3.5乳濁度opacity瓷層對可見光漫反射的能力。3.5.3.6瓷層表面的光亮程度。3.5.3.7白度whiteness；whitedegree白色瓷層的乳濁度。3.5.3.8可清潔性cleanability瓷層表面污跡可被清除的難易程度。3.5.3.9耐沖擊強度impactresistance瓷層承受外力沖擊的能力。3.5.3.10耐磨性abrasionresistance瓷層表面抵抗固體材料磨損的能力。3.5.3.11耐熱性heatresistance瓷層承受高溫的能力。3.5.3.12耐溫急變性thermalshockresistance瓷層承受溫度急劇變化的能力。3.5.3.13耐酸性acidresistance瓷層表面承受酸性物質(zhì)侵蝕的能力。3.5.3.14耐堿性alkaliresistance瓷層表面承受堿性物質(zhì)侵蝕的能力。3.5.3.15耐水性boilingwaterorwatervaporresistance瓷層表面承受沸水或水蒸氣侵蝕的能力。3.5.3.16耐壓性pressureresistance承受壓力的能力。3.5.3.17耐冷沖擊性suddencoolingresistance在熱狀態(tài)下驟冷所能承受的最大溫差。3.5.3.18耐熱沖擊性resistancetosuddenheating在冷狀態(tài)下驟熱所能承受的最大溫差。3.5.3.19氣密性airtightness對氣體的密封性能。3.5.3.20易污性soilability外來物質(zhì)附著在瓷層表面的容易程度。3.5.3.21可染性stainability瓷層被異物滲透和著色的難易程度。3.5.3.22耐化學性chemicalresistance瓷層承受化學物質(zhì)腐蝕的能力。3.5.3.23耐熔性hardness；refractoriness搪瓷或熔塊的相對耐火度。3.5.3.24氣孔率porosity瓷層中存在空隙的程度。3.5.3.25孔隙率porosity催化自潔搪瓷（3.4.3.9）吸收油或脂肪物質(zhì)的能力。3.5.3.26光潔度satinfinish無定向紋理的，有光澤（但不是鏡面）的表面光潔度。3.5.3.27溶解性solubility瓷釉隨時間和溫度溶解的程度，會影響搪瓷釉漿的流變性。3.5.4搪瓷設(shè)備形位公差術(shù)語3.5.4.1攪拌器上端徑向跳動radialshakeofupperendofagitator攪拌器主軸上端徑向同一截面的最外各點到軸中心線的距離之差。3.5.4.2攪拌器下端徑向跳動dialshakeoflowerendofagitator攪拌器主軸下端徑向同一截面的最外各點到軸中心線的距離之差。3.5.4.3溫度計套管直線度perpendicularityofthermowell溫度計套管的軸中心線與通過頂端中心水平面的垂線的最大偏差。3.5.4.4法蘭壓緊面寬度widthofpressed—faceofflange通過法蘭平面直徑的水平直尺與法蘭邊平面連續(xù)貼合的最小間隙。3.5.4.5法蘭平面度planenessofflange法蘭平面與水平面貼合的平整程度。3.5.4.6攪拌孔法蘭平行度parallelismofagitator—holeflanges通過攪拌孔法蘭平面的直徑的水平直尺的兩端與罐蓋法蘭平面之間距離的最大差值。3.5.4.7支座對中性centeringofgearboxsupports減速器支座安裝時所對應(yīng)的蓋支架螺孔中心到蓋中心線之間的距離的最大誤差。3.6缺陷術(shù)語3.6.1金屬坯體和粉坯缺陷3.6.1.1癟concavity金屬坯體加工或流轉(zhuǎn)過程中受到碰撞、擠壓等產(chǎn)生的凹坑。3.6.1.2坯體皺裥wavinessofmetalbody金屬坯體在機械成型過程中表面產(chǎn)生的波浪形條痕和褶皺深痕。3.6.1.3缺粉lackofbisque粉坯或花坯上的粉層的缺損現(xiàn)象。3.6.1.4干裂dryingcrack粉坯或花坯表面粉層的裂開。3.6.1.5銹點rustspot涂覆底釉的粉坯在烘干過程中出現(xiàn)的棕褐色斑點。3.6.1.6粉化bloom瓷層表面出現(xiàn)的可見滲出物或飛粉的現(xiàn)象。3.6.1.7法拉第籠效應(yīng)Faradaycageeffect由于帶電搪瓷顆粒不能穿透凹陷區(qū)域而產(chǎn)生的缺陷，會導致涂層較薄并產(chǎn)生焦斑。3.6.1.8軋制鐵鱗millscale在某些金屬的熱軋或熱處理過程中形成的厚氧化層。3.6.1.9氧化皮scaling金屬表面形成的氧化層。3.6.2制品缺陷3.6.2.1針孔pinhole（針眼，空隙）瓷層內(nèi)氣體逸出后未熔合的針狀小孔。3.6.2.2爆瓷chipping燒成冷卻后瓷層表面出現(xiàn)的破裂和脫落。3.6.2.3爆點jumpers；jumping燒成時底釉彈脫使基體金屬裸露的凹坑。3.6.2.4魚鱗爆fishscale；delayedfishscaling燒成冷卻后瓷層表面出現(xiàn)的露底的魚鱗狀爆瓷。3.6.2.5過程鱗爆processfishscaling烘干或燒成過程中瓷層表面出現(xiàn)的魚鱗爆。3.6.2.6星點鱗爆shiner-scale底釉層由于過燒而呈現(xiàn)的密集、閃光而細小的魚鱗爆。3.6.2.7缺釉lackofenamel制品上的瓷層缺損現(xiàn)象。3.6.2.8剝瓷peelinglifting大片的瓷層從基體金屬表面上脫落的現(xiàn)象。3.6.2.9裂紋crazing；heatcraze燒成后瓷層表面受張應(yīng)力作用而出現(xiàn)的裂隙。3.6.2.10線紋hairline；strainline瓷層表面的發(fā)絲狀紋路。3.6.2.11焦斑burning-off底釉層（3.1.3.3）或邊釉層局部過燒形成的熔渣狀斑痕。3.6.2.12發(fā)沸boiling燒成中因底釉層的沸騰而在面釉層表面出現(xiàn)聚集的氣泡（3.6.2.12）、針孔（3.6.2.1）、黑點（3.6.2.35）、坑（3.6.2.40）或海綿狀的斑痕。3.6.2.13初沸primaryboiling底釉層首次燒成時由于氣體逸出而呈現(xiàn)的發(fā)沸現(xiàn)象。3.6.2.14再沸reboiling底釉層重復(fù)燒成時由于氣泡逸出而呈現(xiàn)的發(fā)沸現(xiàn)象。3.6.2.15氣泡blister；glasseye瓷層內(nèi)因含有未逸出的氣體而出現(xiàn)的突起泡粒。3.6.2.16縮燒crawling；curling燒成時瓷釉收縮卷起而出現(xiàn)的不規(guī)則間隔的島狀現(xiàn)象。3.6.2.17撕裂tearing瓷釉層表面有短裂紋或裂隙的缺陷，燒成時裂紋通常會愈合，但瓷釉層表面留下明顯的裂紋痕跡。3.6.2.18砂眼blowhole因坯體焊接不當或瓷層中含有粒狀雜質(zhì)在燒成過程中形成的孔眼，有的穿至基體金屬。3.6.2.19發(fā)沸點boilingspot瓷釉內(nèi)混雜的有機物燒成后在瓷層表面呈現(xiàn)的無光或異色的發(fā)沸狀斑點。3.6.2.20過燒點firemark；overfiring因燒成過度瓷層表面呈現(xiàn)的密集小點。3.6.2.21銅頭copperhead燒成時基體鋼板中熔出的氧化鐵在底層中處于過飽和狀態(tài)而析出的紅褐色斑點。3.6.2.22彈點pop-off燒成時面釉層彈脫使底釉層裸露的點狀凹痕。3.6.2.23鐵屑scalespecking燒成過程中瓷層表面沾附的鐵或鐵基氧化夾雜物。3.6.2.24桔皮皺orangepeel瓷層表面呈現(xiàn)的桔皮狀的不規(guī)則皺紋。3.6.2.25麻點dimple；dent瓷層表面呈現(xiàn)的膚淺小凹坑。3.6.2.26失光chalkysurface瓷層表面呈粉狀且光澤極差的現(xiàn)象。3.6.2.27雜粒surfacecontaminate瓷層表面沾附的顆粒狀雜質(zhì)。3.6.2.28露黑blueenamel面釉層過薄或被擦損而出現(xiàn)的隱顯底釉層的黑影。3.6.2.29水印waterline；waterstreak粉坯或花坯上殘留的水跡經(jīng)燒成后出現(xiàn)的印痕。3.6.2.30異色contaminationofwasteenamel瓷層表面沾附的不同于原有色澤的現(xiàn)象。3.6.2.31變形metalstrain成型或燒成過程中制品原有形狀的局部改變。3.6.2.32工具痕toolmark成型或燒成工具在制品表面造成的明顯印痕。3.6.2.33邊釉不齊irregularbeading制品邊部的面釉層脫節(jié)呈鋸齒形等現(xiàn)象。3.6.2.34瓷面不勻inhomogeneouscoating瓷層表面出現(xiàn)梗狀、塊狀、點狀或波紋狀等的瓷釉堆積。3.6.2.35黑點blackspecks瓷層表面的黑色斑點。3.6.2.36蝕刻etched由化學侵蝕而導致的表面失光和/或表面粗糙。3.6.2.37珍珠線pearllines氣泡線bubblelines在單線或一系列平行線上有許多氣泡的缺陷3.6.2.38焊接處泡孔metalblister在燒制過程中，因金屬基體層間的氣體使金屬焊接處局部凸起，導致搪瓷表面出現(xiàn)凸起狀瑕疵。3.6.2.39豬皮皺pigskin；leather外觀與豬皮紋理相似的表面缺陷。3.6.2.40坑pit表面小凹陷的缺陷。3.6.2.41孔隙pore燒制后，搪瓷表面上穿透到金屬基底的孔。3.6.2.42波紋ripple瓷層表面出現(xiàn)的均勻、大范圍的波浪狀外觀缺陷。3.6.2.43滑動sliding因釉漿排漿不良，導致釉漿層在自身重力作用下局部滑移，使釉漿層不均勻。3.6.2.44剝落spall脫落spalling搪瓷自發(fā)斷裂和脫落導致的缺陷，主要表現(xiàn)為貝殼狀斷裂（有時可以看到基底）。注1：剝落通常發(fā)生在拐角、小半徑或面板邊緣區(qū)域，可能是由于搪瓷膨脹系數(shù)、外半徑和相關(guān)搪瓷厚度過低造3.6.2.45珠子bead由瓷釉積聚引起的缺陷，通常發(fā)生在浸搪排釉時。3.6.2.46破氣泡breakout具有明確邊界的開口氣泡。3.6.2.47流掛curtains流淌過程中出現(xiàn)的褶皺狀缺陷。3.6.2.48搪瓷表面上的凸起。3.6.2.49大理石效應(yīng)marbleeffect在白色搪瓷表面產(chǎn)生的類似于雜色大理石的缺陷。3.6.2.50泛霜scumming在燒制的搪瓷表面上表現(xiàn)出失去光澤的缺陷。3.6.2.51印痕starmark；spider在燒制過程中因粉層損壞留下的蜘蛛形或星形印痕。3.6.2.52不連續(xù)性discontinuity通過電火花試驗檢測搪瓷涂層中的缺陷。3.6.2.53流漿線drainline排漿中形成的流線狀缺陷。3.6.2.54下垂sagging扭曲distortion翹曲warping金屬基材由于在自身重量下屈服和/或發(fā)生相變，導致坯體形狀在燒成過程中永久變形的缺陷。3.6.2.55開裂drycrack由垂直于表面的熔融涂層中的層流中斷引起的缺陷。3.6.2.56延遲魚鱗爆delayedfish-scale冷卻一段時間后出現(xiàn)的魚鱗爆。3.6.2.57線紋shorelines在燒制的搪瓷表面上出現(xiàn)一系列大致同心的波浪線紋缺陷。3.6.2.58過噴over-spray從噴槍（3.3.2.14）中噴出的釉料未能沉積到制品的目標區(qū)域。3.6.2.59反向發(fā)射backemission反電離backionization因粉末層中的積累過多電荷導致空氣發(fā)生電擊穿（即反向發(fā)射）的現(xiàn)象，通常會出現(xiàn)局部嚴重的桔皮皺缺陷。3.6.3飾花缺陷術(shù)語3.6.3.1飾花模糊uncleardecorationpattern飾花圖案輪廓或線條不清晰。3.6.3.2爆花chippingdecoration飾花圖案的色釉開裂形成局部堆積的現(xiàn)象。3.6.3.3花模痕membrane—mark移花時在瓷層表面留下的明顯的花模紙痕跡。3.7檢測方法術(shù)語3.7.1熔塊檢測3.7.1.1熔流試驗fusionflowtest熔融成半球狀的熔塊在傾斜一定角度的基板上經(jīng)規(guī)定時間后以熔體流動的范圍測定其相對熔流性。3.7.1.2自由滴重法free-fallmethod以絲狀瓷釉試樣端部熔融時在表面張力作用下形成的液滴質(zhì)量與受重力作用脫落的液滴質(zhì)量相當原理測定表面張力的方法。3.7.1.3拉絲試驗threadtest在熔融過程中,從瓷釉中拉出或抽出絲，通過檢查是否存在未熔化顆粒來確定其熔化程度。3.7.2釉漿、釉粉檢測3.7.2.1篩分試驗screentest用系列標準篩測定釉漿、釉粉粒度分布的試驗。3.7.2.2塌落試驗slumptest按規(guī)定容積的釉漿在平面上自由流動所鋪展面的直徑大小測定釉漿稠度（3.5.2.2）的方法。3.7.2.3沉降試驗fallingtest在一組相同直徑的試管中加入等量釉漿經(jīng)自然或離心沉降一定時間后，根據(jù)釉漿顆粒沉降狀況測定懸浮性的方法。3.7.2.4細度測試finenesstest用于測定搪瓷釉研磨程度的試驗，通常以規(guī)定目數(shù)的標準篩上殘留物克數(shù)表示。3.7.3制品檢測3.7.3.1彎曲試驗cross-bendtest一種通過使搪瓷板彎曲變形來確定瓷層的抗開裂性的方法。3.7.3.2落球試驗drop-balltest用規(guī)定質(zhì)量的鋼球自一定高度自由下落沖擊瓷層表面或背面，根據(jù)瓷層破裂程度或底釉層剝落狀況測定瓷層耐沖擊強度或密著性的方法。3.7.3.3探針試驗probemethod在搪瓷試樣受外力作用的損傷處，根據(jù)探針的電流大小測定密著性的方法。3.7.3.4研磨試驗grindingtest在規(guī)定的研磨條件下，根據(jù)瓷層磨損情況或失重測定耐磨性的方法。3.7.3.5鉛筆劃痕試驗penciltest在經(jīng)受化學物質(zhì)侵蝕的瓷層表面上用一定硬度的標準鉛筆劃痕，根據(jù)擦去鉛筆痕跡的難易程度判斷耐侵蝕性能的方法。3.7.3.6影像試驗reflectiontest根據(jù)一定功率的白熾燈在經(jīng)受化學物質(zhì)侵蝕的瓷層表面的成像清晰度判斷耐侵蝕能力的方法。3.7.3.7熒光示蹤法fluorescencetracemethod以熒光物質(zhì)作為示蹤劑測定瓷層表面可清潔性的試驗。3.7.3.8油滴氧化試驗self-clean以一定量的精制豆油滴在搪瓷自潔釉的試樣表面上，加熱后根據(jù)油滴的氧化揮發(fā)和擴散程度判斷試樣的自潔性能的方法。3.7.3.9熱震試驗；溫差急變試驗thermalshocktest加熱到規(guī)定溫度的搪瓷試樣經(jīng)受冷水或冰水的急劇冷卻，反復(fù)數(shù)次后，根據(jù)搪瓷表面被損壞前一次的溫差，測定耐溫急變性能的方法。3.7.3.10重金屬析出試驗testforheavymetalrelease在規(guī)定溫度下用試液浸析瓷層中的銻，鉛，鎘等重金屬物質(zhì)并用原子吸收分光光度計等測定其含量的方法。3.7.3.11醋酸侵蝕試驗aceticacidetchingtest規(guī)定濃度的醋酸液滴在室溫下侵蝕搪瓷表面后以鉛筆劃痕試驗或影像試驗測定耐酸性的方法。3.7.3.12檸檬酸斑點試驗citricacidspottest規(guī)定濃度的檸檬酸液滴在室溫下侵蝕搪瓷表面后以鉛筆劃痕試驗或影像試驗測定耐酸性的方法。3.7.3.13硫酸斑點試驗sulfuricacidspottest規(guī)定濃度的硫酸液滴在室溫下侵蝕瓷層表面后，以鉛筆劃痕試驗或影像試驗測定耐酸性的方法3.7.3.14沸騰檸檬酸侵蝕試驗boilingcitricacidetchingtest試樣浸入規(guī)定的沸騰檸檬酸溶液中延續(xù)一定時間，以試樣單位面積的失重量測定耐酸性的方法。3.7.3.15沸騰鹽酸侵蝕試驗boilinghydrochloricacidcorrosiontest試樣受規(guī)定濃度的沸騰鹽酸腐蝕規(guī)定時間后，根據(jù)試樣單位面積的失重量測定耐酸性的方法。3.7.3.16碳酸鈉溶液侵蝕試驗sodiumcarbonateetchingtest用規(guī)定濃度的碳酸鈉溶液侵蝕搪瓷表面一定時間，以瓷面失光程度判定耐堿性能的試驗方法。3.7.3.17焦磷酸鈉溶液侵蝕試驗tetrasodiumpyrophosphateetchingtest搪瓷試樣浸入規(guī)定濃度的沸騰焦磷酸鈉溶液中一定時間，根據(jù)試樣單位面積的失重量測定耐堿性的方法。3.7.3.18熱氫氧化鈉溶液侵蝕試驗hotsodiumhydroxideetchingtest試樣受規(guī)定濃度及溫度的熱氫氧化鈉溶液，經(jīng)腐蝕規(guī)定時間后根據(jù)試樣單位面積的失重量測定耐堿性的方法。3.7.3.19沸水和水蒸氣侵蝕試驗boilingwaterandwatervaporetchingtest搪瓷試樣浸入沸水或暴露于水蒸氣中一定時間，根據(jù)試樣單位面積的失重量測定耐水性的方法。3.7.3.20沖擊試驗impacttest測試搪瓷承受沖擊的能力。3.7.3.21海綿試驗spongetest用于評估搪瓷連續(xù)性的低電壓試驗。3.7.3.22拭子試驗swabtest用于評估搪瓷表面清潔度的試驗。3.7.4缺陷檢測3.7.4.1鱗爆傾向試驗testforfishscalindency以電流作用下單位時間內(nèi)通過鐵坯試樣表面的氫氣體積測定瓷層鱗爆傾向的試驗。3.7.4.2低電壓試驗lowvoltagetest以浸漬電解質(zhì)溶液的低電壓探頭檢查搪瓷試樣表面，根據(jù)電解質(zhì)的顏色變化測定針孔、裂紋、砂眼等缺陷的試驗。3.7.4.3高電壓試驗highvoltagetest電火花試驗sparktest以高電壓探頭檢查瓷層中真空及過薄區(qū)域的方法。3.7.4.4氣密性試驗testforair-tightness以氣體為介質(zhì)按一定的試驗壓力檢測搪瓷設(shè)備氣密性的試驗。3.7.4.5水壓試驗hydraulicpressuretest以水為介質(zhì)按一定的試驗壓力檢測搪瓷設(shè)備強度及密封性能的方法。附錄A本文件與ISO19696-1:2017的結(jié)構(gòu)編號對照情況表A.1給出了本文件與ISO19696-1:2017的結(jié)構(gòu)編號對照情況。表A.1本文件與ISO19696-1:2017的結(jié)構(gòu)編號對照情況本文件結(jié)構(gòu)編號ISO19696-1:2017結(jié)構(gòu)編號3.1.1.13.2553.1.1.2——3.1.1.33.1.1.4——3.1.1.53.2423.1.1.6——3.1.2.1——3.1.2.23.223.1.2.3——3.1.2.4——3.1.2.5——3.1.2.6——3.1.2.7——3.1.2.83.2273.1.2.93.2233.1.2.10——3.1.2.113.203.1.2.123.1773.1.2.133.1793.1.2.14——3.1.2.15——3.1.2.163.2283.1.2.17——3.1.2.18——3.1.2.19——3.1.2.203.1113.1.2.21——3.1.3.1——3.1.3.2——3.1.3.3——3.1.3.4——3.1.3.5——3.1.3.63.303.1.4.1——3.1.4.2——表A.1本文件與ISO19696-1:2017的結(jié)構(gòu)編號對照情況(續(xù))本文件結(jié)構(gòu)編號ISO19696-1:2017結(jié)構(gòu)編號3.1.4.3——3.1.5.13.1033.1.5.23.1043.1.5.33.1053.1.5.43.473.1.5.5新增3.2.1.1——3.2.1.23.1213.2.1.33.1583.2.1.4——3.2.1.5——3.2.1.63.49，3.1673.2.1.73.123.2.1.83.733.2.1.93.193.2.1.103.1543.2.1.113.1713.2.1.123.2013.2.1.133.2113.2.1.143.1483.2.2.13.453.2.2.23.503.2.2.33.1593.2.2.43.1903.2.2.53.1353.2.2.63.593.2.2.73.183.2.3.1——3.2.3.2——3.2.3.3——3.2.4.1——3.2.4.2——3.2.4.3——3.2.5.1——3.2.5.2——3.2.5.3——3.2.5.4——3.2.5.5——3.2.5.6——3.2.5.7——3.2.5.8——表A.1本文件與ISO19696-1:2017的結(jié)構(gòu)編號對照情況(續(xù))本文件結(jié)構(gòu)編號ISO19696-1:2017結(jié)構(gòu)編號3.2.6.13.1503.2.6.23.2183.2.6.3——3.2.6.43.2413.2.6.53.433.2.7.13.893.2.7.2——3.2.7.3——3.2.8.1——3.2.8.2——3.2.8.33.623.2.8.4——3.2.8.5——3.2.8.6——3.2.8.7——3.2.8.8——3.2.9.13.443.2.9.23.1663.2.9.33.127,3.1553.2.9.4——3.2.9.5——3.2.9.63.23/3.2053.2.9.73.13.2.9.8——3.2.9.9——3.2.9.103.483.2.9.113.1343.2.9.123.2523.2.10.13.903.2.10.2——3.2.10.3——3.2.10.43.1003.2.10.5——3.2.10.63.1193.2.10.7——3.2.10.83.101,3.1023.2.10.93.813.2.10.103.873.2.10.11——3.2.10.123.256.3.553.2.10.133.66表A.1本文件與ISO19696-1:2017的結(jié)構(gòu)編號對照情況(續(xù))本文件結(jié)構(gòu)編號ISO19696-1:2017結(jié)構(gòu)編號3.2.10.143.783.2.10.153.793.2.10.163.913.2.10.173.1393.2.10.183.2263.2.10.193.1803.2.10.203.703.2.10.213.1253.2.10.22——3.2.11.1——3.2.11.2——3.2.11.3——3.2.11.4——3.2.11.5——3.2.11.6——3.2.11.73.2533.2.11.8——3.2.11.9——3.2.11.103.683.2.12.1——3.2.12.23.953.2.12.3——3.2.12.4——3.2.12.5——3.2.12.63.2.12.73.2273.2.12.83.73.2.13.1——3.2.13.2——3.2.13.3——3.2.13.43.723.2.13.5——3.2.13.6——3.2.13.73.973.2.14.1——3.2.14.23.2293.2.14.33.773.2.14.43.863.2.14.53.923.2.14.63.1083.2.14.73.113表A.1本文件與ISO19696-1:2017的結(jié)構(gòu)編號對照情況(續(xù))本文件結(jié)構(gòu)編號ISO19696-1:2017結(jié)構(gòu)編號3.2.14.83.1143.2.14.93.1123.2.14.10——3.2.14.11——3.2.14.12——3.2.14.133.53.2.14.143.463.2.14.153.1913.2.14.163.2363.3.1.13.1763.3.1.23.153.3.1.33.543.3.1.4——3.3.1.5——3.3.1.63.803.3.2.1——3.3.2.2——3.3.2.33.1823.3.2.4——3.3.2.53.2343.3.2.63.883.3.2.73.653.3.2.83.143.3.2.93.273.3.2.103.693.3.2.113.1223.3.2.123.1893.3.2.133.2243.3.2.143.2353.3.3.13.283.3.3.23.533.3.3.33.2493.3.3.43.2513.3.3.53.1813.3.3.63.563.3.3.7——3.3.3.83.28，3.1533.3.3.93.1153.3.4.1——3.3.4.23.1233.3.4.33.32表A.1本文件與ISO19696-1:2017的結(jié)構(gòu)編號對照情況(續(xù))本文件結(jié)構(gòu)編號ISO19696-1:2017結(jié)構(gòu)編號3.3.4.43.713.3.4.53.1643.3.4.6——3.3.4.73.983.3.4.83.1653.3.4.93.2483.4.1.13.1573.4.1.23.1563.4.1.3——3.4.1.4——3.4.1.53.843.4.1.63.2503.4.2.1——3.4.2.23.363.4.2.33.573.4.2.43.103.4.2.5——3.4.3.13.1473.4.3.2——3.4.3.3——3.4.3.4——3.4.3.5——3.4.3.6——3.4.3.7——3.4.3.8——3.4.3.93.213，3.1863.4.4.1——3.4.4.23.2063.4.4.3——3.4.4.43.1423.4.4.5——3.4.4.6——3.4.4.7——3.4.4.8——3.4.4.93.1383.4.5.13.2143.4.5.23.1523.4.5.33.2163.4.5.43.383.4.5.53.963.4.5.63.178表A.1本文件與ISO19696-1:2017的結(jié)構(gòu)編號對照情況(續(xù))本文件結(jié)構(gòu)編號ISO19696-1:2017結(jié)構(gòu)編號3.4.5.73.1873.5.1.1——3.5.1.2——3.5.2.1——3.5.2.23.513.5.2.3——3.5.2.43.2173.5.2.53.1203.5.2.63.1973.5.2.73.2463.5.2.83.2543.5.3.13.523.5.3.23.43.5.3.3——3.5.3.43.603.5.3.5——3.5.3.63.131,3.1453.5.3.7——3.5.3.83.423.5.3.9——3.5.3.103.23.5.3.11——3.5.3.12——3.5.3.133.33.5.3.143.93.5.3.15——3.5.3.16——3.5.3.17——3.5.3.18——3.5.3.19——3.5.3.203.2303.5.3.213.2373.5.3.223.403.5.3.233.1373.5.3.243.1743.5.3.253.1753.5.3.263.2073.5.3.273.2313.5.4.1——3.5.4.2——3.5.4.3——表A.1本文件與ISO19696-1:2017的結(jié)構(gòu)編號對照情況(續(xù))本文件結(jié)構(gòu)編號ISO19696-1:2017結(jié)構(gòu)編號3.5.4.4——3.5.4.5——3.5.4.6——3.5.4.7——3.6.1.1——3.6.1.2——3.6.1.3——3.6.1.43.933.6.1.5——3.6.1.63.253.6.1.73.1073.6.1.83.1513.6.1.93.2103.6.2.13.1693.6.2.23.413.6.2.3——3.6.2.43.1163.6.2.53.1843.6.2.63.2193.6.2.7——3.6.2.83.1633.6.2.93.633.6.2.103.220,3.1363.6.2.113.313.6.2.123.263.6.2.133.1833.6.2.143.1883.6.2.153.24.3.1303.6.2.163.623.6.2.173.2453.6.2.18——3.6.2.19——3.6.2.203.1103.6.2.213.583.6.2.223.1723.6.2.233.2093.6.2.243.1603.6.2.253.763.6.2.263.943.6.2.27——3.6.2.28——表A.1本文件與ISO19696-1:2017的結(jié)構(gòu)編號對照情況(續(xù))本文件結(jié)構(gòu)編號ISO19696-1:2017結(jié)構(gòu)編號3.6.2.29——3.6.2.30——3.6.2.31——3.6.2.32——3.6.2.33——3.6.2.34——3.6.2.353.213.6.2.363.1063.6.2.373.1623.6.2.383.143，3.1493.6.2.393.1683.6.2.403.1703.6.2.413.1733.6.2.423.1983.6.2.433.222,3.2043.6.2.443.2323.6.2.453.163.6.2.463.293.6.2.473.673.6.2.483.1443.6.2.493.1463.6.2.503.2123.6.2.513.2383.6.2.523.823.6.2.533.853.6.2.543.2033.6.2.553.613.6.2.563.743.6.2.573.223.6.2.583.1613.6.2.593.133.6.3.1——3.6.3.2——3.6.3.3——3.7.1.13.33,3.1263.7.1.2——3.7.1.33.2473.7.2.1——3.7.2.23.2253.7.2.3——3.7.2.43.109表A.1本文件與ISO19696-1:2017的結(jié)構(gòu)編號對照情況(續(xù))本文件結(jié)構(gòu)編號ISO19696-1:2017結(jié)構(gòu)編號3.7.3.13.643.7.3.2——3.7.3.3——3.7.3.4——3.7.3.5——3.7.3.6——3.7.3.7——