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第5章半導體器件5.1半導體的基本知識5.2半導體二極管5.3半導體三極管5.4場效應晶體管5.1半導體的基本知識5.1.1半導體的導電特性
1.本征半導體在近代電子學中,用得最多的半導體是Ge和Si。其外層都只有4個電子,屬4價元素。為便于討論,采用圖5.1所示的簡化原子模型。圖5.1Ge和Si原子的簡化模型
純凈的晶體結(jié)構(gòu)的半導體稱為本征半導體。Ge或Si原子生成晶體時,其原子排列就由雜亂無章的狀態(tài)變成了非常整齊的狀態(tài),原子間的距離都是相等的。研究一塊純凈的Ge或Si晶體時,可發(fā)現(xiàn)每個原子有4個相鄰的原子圍繞著,每兩個相鄰原子間共有一對電子(稱為價電子),組成共價鍵結(jié)構(gòu),如圖5.2所示。其本征半導體晶體結(jié)構(gòu)如圖5.3所示。圖5.2Ge或Si晶體的共價鍵結(jié)構(gòu)圖5.3本征半導體晶體結(jié)構(gòu)示意圖
束縛電子掙脫后,在原子外層上留下的一個空位子,稱為空穴??昭@示出的功效類似陽電荷(嚴格地說,空穴不是陽電荷),所以,空穴也是一種載流子。如圖5.4所示。當半導體處于外加電壓作用下時,通過它的電流可看作由兩部分組成:一部分是自由電子進行定向運動形成的電子電流;另一部分是束縛電子在共價鍵上填補空穴形成的空穴電流。但是,當一個自由電子進入空穴時,空穴就會消失,這稱為復合,如圖5.5所示。
圖5.4本征半導體中的自由電子和空穴圖5.5自由電子進入空穴產(chǎn)生復合運動2.雜質(zhì)半導體在本征半導體中,通過熱激發(fā)產(chǎn)生的自由電子和空穴的數(shù)目,還遠不能使半導體具有良好的導電能力。然而,通過摻入有用的雜質(zhì)(稱為摻雜),卻能使其導電特性得到很大的改善。
摻雜的半導體稱為雜質(zhì)半導體。摻雜的方法是將少量的雜質(zhì)元素加入到加熱了的Ge或Si晶體中。如果在Si晶體中摻入少量的五價雜質(zhì)元素,例如磷(P)元素,則P原子將全部擴散到加熱了的Si晶體中。因為P原子比Si原子數(shù)目少得多,所以當冷卻后形成固態(tài)晶體時,整個晶體結(jié)構(gòu)不變,只是某些位置上的Si原子被P原子代替了。因為每個P原子有5個外層子,所以組成共價鍵后就自然而然地多出一個電子,此電子受原子核的束縛力很小,很容易成為自由電子,如圖5.6所示。圖5.6N型Si半導體的共價鍵結(jié)構(gòu)
因為這種摻雜后的半導體主要靠電子導電,電子是帶負電的,所以摻入五價元素的雜質(zhì)半導體稱為N型半導體,也稱電子半導體。在N型半導體中,自由電子是多數(shù)載流子,簡稱“多子”,空穴是少數(shù)載流子,簡稱“少子”。每個P原子在釋放一個自由電子后便成為不能移動的正離子,由此產(chǎn)生了正離子—電子對。同樣,如果在Si晶體中摻入少量的三價雜質(zhì)元素,例如硼(B)元素,可以獲得過多的空穴,如圖5.7所示。圖5.7P型Si半導體的共價鍵結(jié)構(gòu)5.1.2PN結(jié)及其單向?qū)щ娞匦?/p>
1.PN結(jié)的形成物質(zhì)從濃度大的地方向濃度小的地方運動叫擴散。當P型半導體和N型半導體結(jié)合在一起時,因為空穴在P區(qū)中是多子,在N區(qū)中是少子;同樣,電子在N區(qū)中是多子,在P區(qū)中是少子,所以在P、N兩區(qū)交界處,由于載流子濃度的差異,要發(fā)生電子和空穴的擴散運動,多子都要向?qū)Ψ絽^(qū)域移動。當電子和空穴相遇時會復合消失。假設(shè)擴散運動的方向由正指向負(P區(qū)指向N區(qū)),則空穴將順擴散運動方向移動,電子將逆擴散運動方向移動,如圖5.8所示。圖5.8多數(shù)載流子的擴散運動
擴散的結(jié)果在兩區(qū)交界處的P區(qū)一側(cè),出現(xiàn)了一層帶負電荷的粒子區(qū)(即不能移動的負離子);在N區(qū)一側(cè),出現(xiàn)了一層帶正電荷的粒子區(qū)(即不能移動的正離子),形成了一個很薄的空間電荷區(qū),這就是PN結(jié),如圖5.9所示。圖5.9PN結(jié)的形成2.PN結(jié)的單向?qū)щ娞匦?/p>
1)外加正向電壓Uf促使PN結(jié)轉(zhuǎn)化為導通狀態(tài)正向電壓又稱正向偏置電壓,簡稱正偏電壓。當PN結(jié)外加正向電壓Uf(外電源的正極接P區(qū),負極接N區(qū))時,如圖5.10(a)所示,則外電場的方向與擴散運動方向一致,加強了擴散運動,削弱了漂移運動。(1)當0≤Uf<UT時,UT為死區(qū)電壓,或稱門坎電壓。這時由于外電場還不足以克服內(nèi)電場對載流子擴散所造成的阻力,所以正向電流If幾乎為零,PN結(jié)呈現(xiàn)出一個大電阻,好像有一個門坎,如圖5.10(b)所示。
(2)當Uf≥UT后,這時在外電場的作用下,內(nèi)電場被大大削弱,多子不斷地向?qū)Ψ絽^(qū)域擴散,且進入空間電荷區(qū)后,一部分空穴會與負離子中和,一部分電子會與正離子中和,使空間電荷量減少,PN結(jié)變窄,如圖5.10(a)所示。
空間電荷區(qū)中載流子數(shù)量的增加,相當于PN結(jié)電阻的減小。這樣,載流子就能順利地越過PN結(jié),形成閉合的回路,產(chǎn)生較大的正向電流If。因為外電源不斷地向半導體提供空穴和電子,所以使電流If得以維持。PN結(jié)的正向特性曲線如圖5.10(b)所示。
圖5.10PN結(jié)的正向特性(a)外加正向電壓導通;(b)正向特性曲線(1)空間電荷區(qū)變窄的過程,相當于載流子充進了PN結(jié)。P區(qū)一側(cè)充正電(充入空穴),N區(qū)一側(cè)充負電(充入電子),這現(xiàn)象如同一個電容器的充電,此電容稱為耗盡層電容Ct。
(2)PN結(jié)處于正偏時,還存在著電荷存儲效應。由于多子擴散到對方區(qū)域后,電子與空穴并不一定會立即相遇而復合消失,所以,必定會在擴散路程上有一定數(shù)量的存儲。即在P區(qū)中積累電子,在N區(qū)中積累空穴,建立起一定的濃度梯度。2)外加反向電壓UR促使PN結(jié)轉(zhuǎn)化為截止狀態(tài)反向電壓又稱為反向偏置電壓,簡稱反偏電壓。當PN結(jié)外加反向電壓UR(外電源的正極接N區(qū),負極接P區(qū))時,如圖5.11(a)所示,外電場方向與自建電場方向一致,加強了漂移運動,削弱了擴散運動。這時在外電場的作用下,空間電荷量增加,PN結(jié)變寬,如圖5.11(a)所示。
空間電荷區(qū)中幾乎無載流子,近似于電路的開路狀態(tài),擴散電流趨于零,見圖5.11(a)。這時由熱激發(fā)產(chǎn)生的少子,可以在結(jié)電場的作用下通過PN結(jié),形成反向電流IR,但因為少子數(shù)量有限,IR很小,所以這時仍可認為PN結(jié)是截止的。
圖5.11PN結(jié)的反向特性(a)外加反向電壓截止;(b)反向特性曲線
因此,PN結(jié)處于反偏時,電阻是很大的。PN結(jié)的反向特性曲線如圖5.11(b)所示。
IR有時也稱為反向飽和電流IS。這是因為當溫度不變時,少子的濃度不變,所以在一定的電壓范圍內(nèi),IR幾乎不隨反偏電壓的增加而變大,見圖5.11(b)。但溫度升高會使少子增加,故IR會隨溫度的上升而增長很快,這就是PN結(jié)的溫度特性。由此可見,PN結(jié)具有單向?qū)щ姷奶匦约皽囟忍匦浴?/p>
需要指出的是:
(1)空間電荷區(qū)變寬的過程,相當于PN結(jié)放出載流子的過程。這現(xiàn)象如同一個電容器的放電,如前所述,此電容稱為耗盡電容Ct。
(2)PN結(jié)處于反偏時,載流子數(shù)目很少,故反向擴散電容Cd很小,可忽略。這時Ct>>Cd。3.PN結(jié)的結(jié)電容Cj
由上節(jié)可知,PN結(jié)上有耗盡層電容Ct和擴散電容Cd,我們通常用結(jié)電容Cj來表征PN結(jié)的電容效應:
Cj=Ct+Cd
結(jié)電容的充、放電效應與普通電容相似,不同的是結(jié)電容的容量大小要隨外加電壓的大小而改變。當PN結(jié)運用在高頻時,要考慮到結(jié)電容的作用。PN結(jié)的高頻等效電路如圖5.12所示。圖5.12PN結(jié)的高頻等效電路4.PN結(jié)的擊穿特性當PN結(jié)反偏電壓UR超過某一數(shù)值時,反向電流IR會突然增大,出現(xiàn)反向電壓擊穿現(xiàn)象,簡稱為反向擊穿。發(fā)生反向擊穿所需的電壓稱為反向擊穿電壓UB。PN結(jié)的反向擊穿特性曲線如圖5.13所示。圖5.13反向擊穿特性曲線
反向擊穿現(xiàn)象有兩種類型:
(1)雪崩擊穿。當反向電壓太高時,載流子在阻擋層中將受到強烈的電場加速作用,獲得足夠的能量去碰撞原子,產(chǎn)生新的電子—空穴對。被撞出的載流子獲得能量后又可能再去碰撞別的原子,如此連鎖反應造成了載流子的劇增。這種擊穿多發(fā)生在摻雜濃度不大的PN結(jié)。雪崩擊穿電壓一般高于6V。(2)齊納擊穿。當反向電壓足夠大時,阻擋層中的強電場會將電子從共價鍵中強行拉出,產(chǎn)生電子—空穴對,使載流子劇增(其效果與溫度升高相仿)。這種擊穿多發(fā)生在摻雜濃度較高的PN結(jié)。齊納擊穿電壓一般低于6V。5.2半導體二極管5.2.1半導體二極管的結(jié)構(gòu)與分類半導體二極管又稱晶體二極管,簡稱為二極管。它是由一個PN結(jié)加上相應的電極引線和管殼做成的。從P區(qū)引出的電極稱為陽極(正極),從N區(qū)引出的電極稱為陰極(負極)。PN結(jié)的四大基本屬性,也就是二極管的基本屬性。二極管的符號如圖5.14(C)所示,用字母VD表示。圖5.14半導體二極管的結(jié)構(gòu)及符號(a)點接觸型;(b)面接觸型;(C)符號5.2.2二極管的伏安特性曲線二極管的電壓—電流關(guān)系曲線稱伏安特性曲線。此特性曲線就是PN結(jié)的正向、反向及反向擊穿特性曲線。圖5.15(a)和(b)分別是Si和Ge二極管的特性曲線。在室溫下,Si管、Ge管的死區(qū)電壓UT、正向?qū)妷篣D及反向飽和電流IS的數(shù)值如表5.1所示。圖5.15二極管的伏安特性曲線
(a)Si管;(b)Ge管表5.1Si和Ge二極管的UT、UD及IS值5.2.3二極管的主要參數(shù)
1.直流參數(shù)
1)最大整流電流IF
最大整流電流是指二極管長期運行時,允許通過的最大正向平均電流。當二極管電流I>IF時,PN結(jié)會因為太熱而燒壞。
2)最高反向工作電壓URM
最高反向工作電壓URM通常取二極管反向擊穿電壓UB的一半。3)反向電流IR
反向電流IR即為反向飽和電流IS。其值越小,二極管的單向?qū)щ娦阅茉胶谩?/p>
4)直流電阻RD
直流電阻RD是指二極管兩端的直流電壓與流過的直流電流之比。即(5―1)
圖5.16二極管的電阻(a)直流電阻RD;(b)微變電阻rD2.交流參數(shù)
1)微變(變流)電阻rD
二極管工作在小信號時需要用到微變電阻rD。rD的定義是:二極管特性曲線上工作點Q附近的電壓變化量ΔU與相應的電流變化量ΔI之比。即(5―2)rD實際上就是特性曲線上Q點處斜率的倒數(shù),見圖5.16(b)。在室溫(25℃)下,(5―3)2)最高工作頻率fM
這主要取決于PN結(jié)的結(jié)電容。若工作頻率f>fM,則二極管的單向?qū)щ娦阅軐⒆儔摹楸阌谧x者了解半導體器件的命名方法,將我國的命名有關(guān)規(guī)定介紹如下:表5.25.2.4二極管應用舉例二極管的應用范圍很廣,利用二極管的單向?qū)щ娞匦?,可組成整流、檢波、鉗位、限幅、開關(guān)等電路。利用二極管的其它特性,可使其應用在穩(wěn)壓、變?nèi)?、溫度補償?shù)确矫?。整流、鉗位、開關(guān)電路將在后面有關(guān)章節(jié)中提到,現(xiàn)簡單介紹一下限幅電路。限幅器又稱削波器,主要是限制輸出電壓的幅度。為討論方便起見,假設(shè)二極管VD為理想二極管,即正偏導通時,忽略VD的正向壓降,近似認為VD短路;反偏截止時,近似認為VD開路。
例1電路及輸入電壓UI的波形如圖5.17所示。畫出輸出電壓Uo的波形如圖5.17(b)所示。圖5.17二極管單向限幅電路
(a)電路;(b)波形
解:當ui>+5V時,uo=+5V(VD正偏短路);當ui
≤+5V時,uo=UI(VD反偏開路)。故可畫出輸出uo的波形,如圖5.17(b)所示。例2電路及輸入電壓UI的波形如圖5.18所示,畫出輸出電壓uo的波形。
圖5.18二極管雙向限幅電路
(a)電路;(b)波形解:①當ui>+10V時:
VD1正偏短路,VD2反偏開路,uo=+10V。②當ui
<-10V時:
VD1反偏開路,VD2正偏短路,uo=-10V。③當-10V<UI≤+10V時:
VD1、VD2均反偏開路,uo=ui。
uo波形如圖5.18(b)所示。5.2.5穩(wěn)壓管
1.穩(wěn)壓管通常,我們不希望二極管工作在反向擊穿區(qū),因為一旦PN結(jié)反向擊穿,反向電流IR會猛增,使IR·UR>PM,引起熱擊穿,燒毀二極管。但是,利用PN結(jié)的反向擊穿現(xiàn)象,卻可以起到穩(wěn)定電壓的作用,即通過管子的電流在很大的范圍內(nèi)變化,而管子兩端的電壓卻變化很小。那么如何將“擊穿”轉(zhuǎn)化為“穩(wěn)壓”呢?其依據(jù)的條件是:
(1)工藝上通過控制半導體內(nèi)所摻雜的成份。
(2)外電路中所串聯(lián)的限流電阻。圖5.19穩(wěn)壓管符號及特性曲線
(a)符號;(b)伏安特性曲線
因為這種二極管具有穩(wěn)定電壓的作用,所以要與用于整流、檢波等用途的普通二極管區(qū)別開,稱為穩(wěn)壓管。穩(wěn)壓管用字母VDZ表示,它的符號如圖5.19(a)所示。圖5.19(b)是它的伏安特性曲線,由圖(b)可知,穩(wěn)壓管在反向擊穿時的曲線比較陡直。
值得指出的是:穩(wěn)壓管必須工作在反向偏置(利用正向穩(wěn)壓的除外),即陰極接電源正極,陽極接電源負極,如圖5.19(a)所示。如果極性接錯,二極管就處于正向偏置狀態(tài),穩(wěn)壓效果就差了。另外,穩(wěn)壓管可以串聯(lián)使用,一般不能并聯(lián)使用,因為并聯(lián)有時會因電流分配不勻而引起管子過載損壞。2.穩(wěn)壓管的主要參數(shù)
1)穩(wěn)定電壓UZ
UZ就是穩(wěn)壓管的反向擊穿電壓。由于制造工藝不易控制,即使同一型號的管子,UZ的值也會稍有不同。
2)穩(wěn)定電流IZ和最大穩(wěn)定電流IZMIZ的穩(wěn)壓管正常工作時的反向電流,這是一個參考值。IZM是穩(wěn)壓管允許通過的最大反向電流。當穩(wěn)壓管工作電流I<IZ時,沒有穩(wěn)壓效果;正常工作時,
IZ<I<IZM。3)動態(tài)電阻rZ
rZ相當于二極管的微變等效電阻,因此(5―4)rZ越小(ΔIZ越大),穩(wěn)壓性能越好。4)電壓溫度系數(shù)αα是UZ受溫度變化的系數(shù),常用溫度每增加1℃時,UZ改變的百分數(shù)來表示。一般來說,硅穩(wěn)壓管的UZ<4V時,α<0;UZ>7V時,α>0;4V≤UZ≤7V時,α最小,這時溫度穩(wěn)定性最好。
5)最大耗散功率PMPM是保證管子不發(fā)生熱擊穿的極限值。(5―5)3.穩(wěn)壓管應用舉例利用穩(wěn)壓管反向擊穿時電壓基本穩(wěn)定的特性,可做成穩(wěn)壓電路。最簡單的穩(wěn)壓電路如圖5.20(a)所示。圖中,Ui和Uo分別是輸入和輸出電壓,R是限流電阻,RL是負載電阻,Uo=Ui-IRR=UZ。下面通過兩道例題來說明,只要穩(wěn)壓管是工作在擊穿區(qū),當負載RL變化,或信號源Ui有變化時,穩(wěn)壓管都能起到穩(wěn)壓的作用,使輸出Uo=UZ不變。這就是穩(wěn)壓管的主要用途。圖5.20穩(wěn)壓管穩(wěn)壓電路
例3在圖5.20(a)所示的電路中,分別求RL等于30kΩ、4kΩ和3kΩ時,流過穩(wěn)壓管的電流IZ的值。解:①當RL=30kΩ時:因為VD兩端的電壓足以引起VD擊穿(VD臨界擊穿時的RL值,見本例③的解),故VD近似為一個30V的電壓源。見圖5.20(b)中的C點。②當RL=4kΩ時:
VD仍工作在擊穿區(qū),仍可將其近似為30V的電壓源。見圖5.20(b)中的a點。由圖(b)看出,只要當VD工作在擊穿區(qū)時,負載雖然有變化,使VD的工作點從C點移到a點,ΔIZ變化很大,但ΔUZ卻變化很小,Uo=UZ近似不變。③當RL=3kΩ時:這時,VD工作在擊穿的臨界狀態(tài),如圖5.20(b)所示。由此可求出,臨界擊穿時
例4在圖5.20(a)所示的電路中,當負載RL開路(RL=∞)時,求UI從40V變化到60V時,流過穩(wěn)壓管的電流IZ的值。解:因為Ui=40V~60V,均超過了VD的反向擊穿電壓,所以VD工作在擊穿區(qū),這時VD可近似為30V的電壓源。又因為RL開路,所以IZ=IR。當Ui=40V時:見圖5.20(b)中的b點。
見圖5.20(b)中的d點。所以,5mA<IZ<15mA。由圖(b)看出,只要VD工作在擊穿區(qū),當輸入信號Ui發(fā)生變化,使VD的工作點從b點移到d點時,雖然ΔIZ變化很大,但ΔUZ變化很小,Uo=UZ近似不變。當Ui=60V時:5.3半導體三極管
半導體三極管又稱雙極型晶體管,簡稱BJT。BJT的種類很多,按頻率分,有高頻管、低頻管;按功率分,有大、中、小功率管;按半導體材料分,有SI管、Ge管;按結(jié)構(gòu)分,有NPN型和PNP型等。目前生產(chǎn)的Si管多數(shù)為NPN型,Ge管多數(shù)為PNP型。常見的幾種BJT的外形如圖5.21所示。
圖5.21幾種BJT的外形5.3.1BJT的放大原理和電流關(guān)系
1.結(jié)構(gòu)簡介不管是NPN型還是PNP型管子,它們的基本原理都相同,都有三個電極(發(fā)射極e、基極b、集電極C)和兩個PN結(jié)(發(fā)射結(jié)(e結(jié))、集電結(jié)(C結(jié)))。圖5.22是BJT的示意圖及符號,符號中e極箭頭方向表示e結(jié)正偏時的電流方向。圖5.22BJT的結(jié)構(gòu)示意圖及符號
(a)NPN;(b)PNP2.BJT的三種連接方式因為放大器一般是四端網(wǎng)絡(luò),而BJT只有三個電極,所以組成放大電路時,勢必要有一個電極作為輸入與輸出信號的公共端。根據(jù)所選擇的公共端電極的不同,BJT有共發(fā)射極、共基極和共集電極三種不同的連接方式(指對交流信號而言),如圖5.23所示。
圖5.23BJT的三種連接方式(a)共基極電路;(b)共發(fā)射極電路;(C)共集電極電路3.放大原理和電流關(guān)系
BJT能把微弱的電信號加以放大,是載流子在三極管內(nèi)部的傳輸過程所致,如圖5.24所示。下面我們分三個方面來討論載流子在三極管內(nèi)部的運動。
1)e區(qū)向b區(qū)發(fā)射電子的過程這個過程的條件是e結(jié)必須加正向電壓(對于NPN型管,須UB>UE)。這時e結(jié)上外電場方向與擴散運動方向一致,加強了擴散運動,削弱了漂移運動,如圖5.24所示。
圖5.24BJT中載流子的運動2)電子在b區(qū)中的擴散和復合的過程電子到達b區(qū)后,一方面因為e結(jié)附近的電子濃度最高,離e結(jié)越遠,濃度越小,所以,由于濃度的差異,電子就要繼續(xù)向C結(jié)方向擴散。另一方面,電子又會與b區(qū)中的空穴相遇而復合,復合后又會被b區(qū)中的正電源拉走(就好像正電源在不斷地供給b區(qū)空穴)。電子復合的數(shù)量與被拉走的數(shù)量相等,即與一個空穴復合,就被拉走一個電子。這樣,電子的流動就形成了基極電流IB,如圖5.24所示。3)電子被C區(qū)收集的過程這個過程的條件是C結(jié)必須加反向電壓(對于NPN型管,須UC>UB)。這時C結(jié)上外電場方向與漂移運動方向一致,加強了漂移運動,削弱了擴散運動,如圖5.24所示。所以,外電場不僅可使C區(qū)的多子——電子向C極方向移動,而且還可以收集從b區(qū)擴散過來的電子到達C區(qū),形成集電極電流IC。當然,在C結(jié)反偏電壓的作用下,C區(qū)和b區(qū)的少子也都要向?qū)Ψ絽^(qū)域運動,形成反向飽和電流ICBO,如圖5.24所示,但因為其數(shù)值很小,可忽略。
綜上所述,電子按圖5.24中箭頭方向運動,其中大部分渡過b區(qū)流向C極,僅很小一部分流向b極,電流則與電子運動方向相反。根據(jù)節(jié)點電流定律可知:
IE=IB+IC
(5―6)
晶體管一旦制成,從e區(qū)發(fā)射的電子到達C區(qū)的比例也就定了,此比例稱為電流放大系數(shù)。通常將IC與IB的比值定義為共射直流電流放大系數(shù),將變化量ΔIC與ΔIB的比值定義為共射交流電流放大系數(shù)β。即(5―7)(5―8)
一般情況下,≈β,故可得:
IE=IB+IC=IB+βIB=(1+β)IB(5―9)
同理,把IC與IB的比值定義為共基極直流電流放大系數(shù);把變量ΔIC與ΔIB的比值定義為共基極交流電流放大系數(shù)α。即(5―10)(5―11)一般情況下,,則
由于α與β是同一管子不同電極間的關(guān)系,二者之間必存在一定的轉(zhuǎn)換關(guān)系:所以(5―12)
因為e結(jié)加正向電壓,所以由PN結(jié)的正向特性可知,BJT的b、e極之間只要有較小的變化量ΔUBE,就可產(chǎn)生較大的ΔIB,通過BJT的電流放大,又可引起更大的ΔIC,而ΔIC流過集電極負載電阻Rc后,在其兩端產(chǎn)生的電壓ΔUCE(對直流電源UCC而言,其變化量為零),將會比ΔUBE大很多倍,這樣,BJT的電流放大就被轉(zhuǎn)換為電壓放大的形式了。表示即(5―13)
例5在圖5.24所示的電路中,如果ΔUBE=15mV,ΔIB=20μA,β=50,Rc=1kΩ,求ΔIC和Au。解:5.3.2BJT的特性曲線
BJT各電極電壓與電流之間的關(guān)系曲線,稱為伏安特性曲線。它是BJT內(nèi)部載流子運動的外部表現(xiàn)。由于三極管有三個電極,所以它的伏安特性就不像二極管那樣簡單。工程上最常用的是BJT的輸入和輸出特性曲線。圖5.25為NPN型管共發(fā)射極電路的測試電路。
圖5.25BJT的共發(fā)射極特性曲線測試電路1.共發(fā)射極輸入特性若以輸出電壓uCE為參變量,則輸入電壓UBE和輸入電流iB的函數(shù)式可表示為常數(shù)
測試時,在圖5.25的電路中,先固定uCE為某一常數(shù),例如,令uCE=0V,測得一組uBE與iB的數(shù)據(jù),畫出一條曲線;再固定UCE為另一常數(shù),又測得一組uBE與iB的數(shù)據(jù),畫出另一條曲線,……如圖5.26(a)所示。
由圖5.26(a)看出,輸入特性曲線有以下特點:
(1)類似于PN結(jié)的正向特性曲線(因為e結(jié)正偏),所以也存在死區(qū)電壓UT。
(2)uCE>1V后,特性曲線基本接近于uCE=1V時的特性曲線。由于放大電路工作時uCE≠0V,所以通常只需畫出uCE≥1V的一條輸入特性曲線。
2.共發(fā)射極輸出特性若以輸入電流iB為參變量,則輸出電壓uCE和輸出電流iC的函數(shù)式可表示為常數(shù)
測試時,在圖5.25的電路中,先固定iB為某一常數(shù),例如,令iB=0測得一組uCE和iC的數(shù)據(jù),畫出一條曲線;再固定IB為另一常數(shù),又測得一組UCE和iC的數(shù)據(jù),畫出另一條曲線,……這樣,在直角坐標系中可得到一簇輸出特性曲線,如圖5.26(b)所示。
圖5.26BJT的共射特性曲線(a)輸入特性曲線;(b)輸出特性曲線
由圖5.26(b)可看出,輸出特性曲線有以下特點:
(1)特性曲線除起始段外,近似平行。平坦的區(qū)域稱為放大區(qū),也稱線性區(qū),見圖5.26(b)的中間區(qū)域。
(2)每條曲線都有一個拐點,拐點電壓稱為集電極飽和電壓UCES。uCE≤UCES的區(qū)域稱為飽和區(qū),如圖(b)中左邊陰影線所示。
(3)iB=0時,iC=ICEO。iB≤0的區(qū)域稱為截止區(qū),如圖(b)中下部陰影線所示。(4)PCM虛線是最大功耗線。PC=iC·uCE≥PCM的區(qū)域,稱為過損耗區(qū),如圖(b)中右邊陰影線所示。使用時不允許超過此區(qū)域,否則會使BJT性能變壞,或過熱燒毀。
表5.35.3.3BJT的三個工作區(qū)域由上節(jié)知道,BJT有三個工作區(qū)域。下面再結(jié)合圖5.25的共發(fā)射極電路,具體討論如下。
1.截止區(qū)
e結(jié)、C結(jié)均為反偏,BJT無放大作用。這時
IB≈0;IC≈0
UCE=UCC-ICRC≈UCC2.放大區(qū)
e結(jié)正偏、C結(jié)反偏(對于NPN型管,UC>UB、
UB>UE。對于PNP型管,UC<UB、UB<UE),BJT有放大作用。這時
IB>0;IC=βIB
UCE=UCC-ICRc3.飽和區(qū)
e結(jié)、C結(jié)均為正偏,UCE=UCES很小。UCE的減小使C結(jié)收集電子的能力減弱,也即e區(qū)發(fā)射有余,而C極收集不足,以致IC幾乎不再隨IB的增大而增大,BJT失去放大作用。因為UCES最小只能接近于零,所以由可求出集電極飽和電流為(5―14)
基極臨界飽和電流為(5―15)
當基極注入電流IB超過其臨界值時,晶體管呈飽和狀態(tài)。故判斷管子飽和狀態(tài)的方法為:若(5―16)
圖5.27BJT的幾種工作狀態(tài)5.3.4BJT的主要參數(shù)1.電流放大系數(shù)1)共發(fā)射極直流電流放大系數(shù)這是指靜態(tài)(無輸入信號)時的電流放大系數(shù),其定義為2)共發(fā)射極交流電流放大系數(shù)β
這是指動態(tài)(有輸入信號)時的電流放大系數(shù),其定義為
在有的手冊中,β用hfe表示。同樣,β也與三極管的工作點Q有關(guān)。在圖5.28中,過Q點作橫軸的垂線,當IB從40μA變到60μA時,相應的IC從1.6mA變到2.35mA,可求得
圖5.282.極間反向電流
1)C、b極間反向飽和電流ICBO
這是指e極開路,C、b間加上一定的反向電壓時的反向電流(如同PN結(jié)的反向電流)。其測試電路如圖5.29(a)所示。
圖5.29三極管極間反向電流的測量(a)測量ICBO的電路;(b)測量ICEO的電路ICBO越小,晶體管的質(zhì)量越好。在室溫下,小功率硅管的ICBO<1μA,Ge管的ICBO約為幾微安到幾十微安。因為ICBO是由少子形成的,所以,溫度升高會引起ICBO升高。
2)C、e極間反向穿透電流ICEO
這是指b極開路,C、e間加上一定的反向電壓時的C極電流。其測試電路如圖5.29(b)所示。由于這個電流是從C區(qū)直接穿過b區(qū)到達e區(qū)的,所以,又稱穿透電流。由下面的分析可知,ICEO不是單純的PN結(jié)的反向電流。
當C、e間加上電壓+UCC后,必然使UC>Ub>Ue,所以,e結(jié)正偏,C結(jié)反偏,C區(qū)的少子——空穴就會漂移到b區(qū)。另外,e區(qū)的多子——電子擴散到b區(qū)后,除少部分與空穴復合,大部分到達C區(qū),被C極收集。根據(jù)BJT的電流分配規(guī)律:
IE=IB+IC=IB+βIB=(1+β)IB
可知:
ICEO=ICBO+βICBO=(1+β)ICBO
(5―17)
3.極限參數(shù)
1)集電極最大允許電流ICM
當iC超過一定值時,BJT的參數(shù)會發(fā)生變化,特別是β將下降。ICM是指BJT的參數(shù)變化不超過允許值時,C極允許的最大電流。使用時,若iC>ICM,管子不僅性能會下降,甚至可能會燒壞。
2)集電極最大允許耗散功率PCM
這是指C結(jié)上允許耗散的最大功率,表示如下:(5―18)5.4場效應晶體管5.4.1概述場效應晶體管簡稱FET,與BJT特性大不相同,主要的不同點有:
(1)單極型晶體管。BJT中參與導電的載流子有多子和少子兩種極性,稱為雙極型晶體管。FET中參與導電的載流子只有多子一種(或者是電子,或者是空穴),所以稱為單極型晶體管。(2)電壓型控制元件。BJT是電流型控制元件,即在一定的條件下,集電極電流只取決于基極電流的大小。而FET則是電壓型控制元件,即在一定的條件下,漏極(對應于BJT中的集電極)電流只取決于柵極(對應于BJT中的基極)電壓。
(3)輸入電阻高。FET柵極加上電壓后,輸入電流接近于0,所以它的輸入電阻非常高,一般可達到上百兆歐甚至幾千兆歐。絕緣柵場效應管的輸入電阻最高可達1015Ω。(4)FET的噪聲系數(shù)比BJT小。
(5)FET制造工藝簡單,芯片面積小,再加上其它一些優(yōu)點,使其在大規(guī)模集成電路中取代了BJT。5.4.2結(jié)型場效應管
1.JFET的結(jié)構(gòu)和符號
JFET分成N溝道和P溝道兩種。N溝道JFET的結(jié)構(gòu)示意圖如圖5.30(a)所示,符號如圖(b)所示。它是在N型半導體的兩側(cè)各擴散出一個高濃度的P型區(qū)(用P+表示),使其與N區(qū)形成兩個P+N結(jié)(即空間電荷區(qū),也即耗盡層),并將兩個P+區(qū)連在一起。由P+區(qū)引出的電極稱為柵極G(Gate),由N區(qū)兩端引出的電極分別稱為源極S(SoURCe)和漏極D(DRaIn),它們分別相當于BJT中的b、e、C極。兩個P+N結(jié)中間的N區(qū)稱為導電溝道。P溝道JFET的結(jié)構(gòu)示意圖如圖5.30(C)所示,符號如圖(d)所示。它是在P型半導體兩側(cè)各擴散出一個
N+區(qū)。符號中的箭頭方向,見圖(b)、(d),表示柵極正偏時,柵流方向由P區(qū)指向N區(qū)。
圖5.30JFET的結(jié)構(gòu)示意圖及符號(a)N溝道結(jié)構(gòu)示意圖;(b)N溝道JFET符號;
圖5.30JFET的結(jié)構(gòu)示意圖及符號(C)P溝道結(jié)構(gòu)示意圖;(d)P溝道JFET符號2.工作原理我們知道,PN結(jié)空間電荷區(qū)(即耗盡層)的寬度是隨著加在PN結(jié)上的反向電壓的大小而變化的。反向電壓越大,耗盡層越寬;反之,則越窄。JFET就是利用PN結(jié)的這個性質(zhì),通過改變柵壓uGS來改變溝道電阻,進而改變S、D極間的電流ID。下面以N溝道JFET共源電路為例(電路如圖5.31所示),來簡述它的工作原理。
1)uDS=0,uGS=0
此時漏極電流iD=0。2)uDS>0①當uGS=0(G、S極間短路)時,兩個P+N結(jié)的空間電荷區(qū)(也即耗盡層)最窄,中間的N區(qū)域(即導電溝道)最寬,溝道電阻最小。②當UP<uGS<0時,這里的UP稱為夾斷電壓,這是使iD≈0的柵極電壓。UP是一個負值,其典型值為-1V~-10V。圖5.31uGS對iD的控制③當uGS≤UP時,若uGS再向負值增加到uGS≤UP,則源極附近的耗盡層也相遇了,即兩邊的耗盡層完全合攏,整個溝道被夾斷,這稱為全夾斷,如圖5.31(d)所示。這時,雖然uDS仍然存在,但因為載流子都消耗盡了,溝道電阻無窮大,故iD≈0。
綜上所述,可得JFET導電的如下幾個特性:①因為G、S極間加反向偏電壓,兩個P+N結(jié)截止,柵極電流iG≈0,故JFET的輸入電阻很大。②在uDS不變的情況下,uGS的微小變化可以引起iD比較大的變化,故稱FET為電壓型控制元件。③與BJT相類似,當漏極接上負載電阻RD后,在RD上可以得到放大了的變化電壓。④我們將uGS=0時就存在導電溝道(iD≠0)的FET稱為耗盡型,uGS=0時沒有導電溝道(iD=0)的FET稱為增強型。3.輸出特性曲線和轉(zhuǎn)移特性曲線下面僅介紹N溝道JFET共源電路的特性曲線,其測試電路如圖5.32所示。
1)輸出特性曲線以uGS為參變量,iD與uDS間的關(guān)系曲線,稱為輸出特性曲線,如圖5.32(a)所示。其函數(shù)式為常數(shù)
圖5.32N-JFET共源電路的特性曲線(a)N-JFET輸出特性;(b)N-JFET轉(zhuǎn)移特性
輸出特性曲線可分成四個區(qū)域:可變電阻區(qū)、恒流區(qū)、擊穿區(qū)和截止區(qū)。其特點敘述如下:
(1)可變電阻區(qū)。輸出特性每條曲線都有一個拐點,拐點電壓就是UP。拐點連線的左邊(見圖中區(qū)域Ⅰ)稱為可變電阻區(qū)。該區(qū)的特點是:溝道電阻隨柵壓變化,這是因為在此區(qū)域中,uDS較小,管子還未預夾斷。(2)恒流區(qū)。
(3)擊穿區(qū)。
(4)截止區(qū)。
2)轉(zhuǎn)移特性曲線由于FET的iG≈0,所以,如果像討論BJT那樣來討論FET的輸入特性(uGS與IG的關(guān)系)就顯得無意義。但研究它的轉(zhuǎn)移特性卻是很重要的。轉(zhuǎn)移特性是以uDS為參變量的uGS與iD的關(guān)系曲線,如圖5.32(b)所示。其函數(shù)式為常數(shù)
轉(zhuǎn)移特性有以下特點:
(1)當FET工作在恒流區(qū)時,不同uDS的轉(zhuǎn)移特性曲線基本接近,這是因為在恒流區(qū)內(nèi),iD幾乎不隨uDS而變化。因為在放大器中,管子一般工作在恒流區(qū),為分析方便,通常只畫出一條曲線。
(2)在恒流區(qū)內(nèi),uDS對iD的影響不大,故轉(zhuǎn)移特性可用下面近似公式來表示:(5―19)當4.主要參數(shù)
1)直流參數(shù)
(1)夾斷電壓UP。這是指uDS一定,使iD為0時的uGS。
(2)飽和漏極電流IDSS。這是指uGS=0,當uDS>|UP|時的iD。
(3)直流輸入電阻RGS。這是指uDS=0時,uGS與iG之比的比值。由于iG≈0,故RGS很高,一般大于108Ω。2)交流參數(shù)
(1)低頻跨導(或稱互導)gm。這是指uDS一定時,iD與uGS的微變量之比的比值,即常數(shù)(5―20)gm反映了uGS對ID的控制能力,是衡量FET放大能力的重要參數(shù),相當于BJT的β。gm的大小與工作點Q有關(guān)。它可以通過計算(對式(5-19)求導)求出來,即(5―21)
也可以通過作圖法估算出來,具體方法為:當在轉(zhuǎn)移特性曲線上求時,gm是工作點Q處的斜率;當在輸出特性曲線上求時,(2)極間電容。極間電容越小,管子的高頻特性和開關(guān)特性越好。一般,G與S和G與D間之電容CGS和CGD約為1pF~3pF,D與S之間電容CDS約為0.1pF~1pF。3)極限參數(shù)
(1)漏極最大耗散功率PDM、漏極最大允許電流IDM,同BJT的PCM、ICM類同,這里不再贅述。
(2)擊穿電壓:①擊穿電壓U(BR)DS:指uDS增大到使iD開始急劇增加,發(fā)生雪崩擊穿時的uDS值。使用時uDS不能超過此值。②擊穿電壓U(BR)GS:指G、S間P+N結(jié)的反向擊穿電壓。若UGS超過此值,P+N結(jié)將被擊穿。5.4.3絕緣柵場效應管雖然結(jié)型場效應管(JFET)的柵極電阻高達100MΩ以上,但有時還嫌不夠高,為此又提出IGFET(絕緣柵場效應管)。IGFET的工作原理建立在半導體表面場效應現(xiàn)象的基礎(chǔ)上。所謂表面場效應是指半導體表面有電場作用時,表面載流子濃度發(fā)生變化的現(xiàn)象。下面介紹IGFET中的MOS管。1.N溝道增強型IGFET1)結(jié)構(gòu)以金屬(Al)—氧化物(SIO2)—半導體(P型SI)三層結(jié)構(gòu)為例,IGFET的結(jié)構(gòu)示意圖如圖5.33所示。它以P型SI片作襯底材料,在P區(qū)上面的左、右兩側(cè)各擴散出一個高濃度的N+區(qū),從兩個N+區(qū)各引出一個金屬鋁電極,作為源極S和漏極D;同時在P區(qū)表面覆蓋一層很薄的二氧化硅(SIO2)絕緣層,并在SIO2上引出一個金屬鋁電極作為柵極G;另外,再從P區(qū)引出襯底引線B,這就構(gòu)成了N溝道MOS管。圖5.33N溝道增強型IGFET的結(jié)構(gòu)示意圖2)工作原理下面簡述增強型NMOS管的工作原理。其原理電路如圖5.34所示。
(1)uGS對iD的控制作用:①uGS=0(G、S極間短路)時,兩個N+區(qū)與P區(qū)三者間形成兩個背靠背的PN+結(jié),如圖5.34(a)所示。這時不管uDS的極性如何,總會有一個PN+結(jié)處于反偏,故漏極電流iD≈0,管子截止。圖5.34增強型NMOS管工作原理示意圖圖5.34增強型NMOS管工作原理示意圖②uGS>0時,第一種情況,0<uGS<uT,uDS=0。這里的UT為開啟電壓。UT是一個正值,其值約為2V~10V。
(2)uDS對iD的影響。溝道形成后,因為UD>US,因此,G極與溝道之間的電位差在靠近S端最大,形成的溝道最寬;在靠近D端最小,形成的溝道最窄,如圖5.34(C)所示。2.N溝道耗盡型IGFET
除
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