專利申請(qǐng)中的權(quán)利要求撰寫(xiě)技巧試題及答案姓名：____________________

一、多項(xiàng)選擇題（每題2分，共10題）

1.以下哪些內(nèi)容屬于專利權(quán)利要求書(shū)應(yīng)包含的要素？

A.發(fā)明名稱

B.技術(shù)領(lǐng)域

C.權(quán)利要求書(shū)

D.附圖

E.實(shí)施例

2.以下關(guān)于權(quán)利要求的撰寫(xiě)要求，哪些是正確的？

A.權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)清楚、簡(jiǎn)要

B.權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)以所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為準(zhǔn)

C.權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)避免使用模糊不清的術(shù)語(yǔ)

D.權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)避免使用過(guò)于具體的實(shí)施方式

E.權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)避免使用與說(shuō)明書(shū)不一致的內(nèi)容

3.在撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)，以下哪些策略有助于擴(kuò)大保護(hù)范圍？

A.使用上位概念

B.使用并列權(quán)利要求

C.使用從屬權(quán)利要求

D.使用功能性權(quán)利要求

E.使用功能性限定

4.以下關(guān)于權(quán)利要求書(shū)撰寫(xiě)中避免的陷阱，哪些是正確的？

A.使用過(guò)于具體的實(shí)施方式

B.使用模糊不清的術(shù)語(yǔ)

C.權(quán)利要求與說(shuō)明書(shū)內(nèi)容不一致

D.權(quán)利要求過(guò)于狹窄

E.權(quán)利要求缺乏新穎性和創(chuàng)造性

5.在撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)，以下哪些內(nèi)容是必須明確限定的？

A.發(fā)明名稱

B.技術(shù)領(lǐng)域

C.技術(shù)方案的核心要素

D.技術(shù)方案的實(shí)施例

E.技術(shù)方案的保護(hù)范圍

6.以下關(guān)于權(quán)利要求書(shū)撰寫(xiě)中注意的事項(xiàng)，哪些是正確的？

A.權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)簡(jiǎn)潔明了，避免冗余

B.權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)與說(shuō)明書(shū)內(nèi)容相一致

C.權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)盡量使用上位概念

D.權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)避免使用模糊不清的術(shù)語(yǔ)

E.權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)明確限定保護(hù)范圍

7.在撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)，以下哪些內(nèi)容不宜出現(xiàn)在權(quán)利要求書(shū)中？

A.發(fā)明名稱

B.技術(shù)領(lǐng)域

C.技術(shù)方案的核心要素

D.技術(shù)方案的實(shí)施例

E.技術(shù)方案的保護(hù)范圍

8.以下關(guān)于權(quán)利要求書(shū)撰寫(xiě)中并列權(quán)利要求的適用情況，哪些是正確的？

A.當(dāng)發(fā)明具有多個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案時(shí)

B.當(dāng)技術(shù)方案包含多個(gè)不同的技術(shù)效果時(shí)

C.當(dāng)技術(shù)方案包含多個(gè)不同的技術(shù)領(lǐng)域時(shí)

D.當(dāng)技術(shù)方案包含多個(gè)不同的技術(shù)要素時(shí)

E.當(dāng)技術(shù)方案包含多個(gè)不同的實(shí)施方式時(shí)

9.在撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)，以下哪些內(nèi)容屬于功能性權(quán)利要求？

A.使用上位概念

B.使用并列權(quán)利要求

C.使用從屬權(quán)利要求

D.使用功能性限定

E.使用功能性描述

10.以下關(guān)于權(quán)利要求書(shū)撰寫(xiě)中，以下哪種情況可能造成保護(hù)范圍過(guò)窄？

A.使用上位概念

B.使用并列權(quán)利要求

C.使用從屬權(quán)利要求

D.使用功能性限定

E.使用功能性描述

二、判斷題（每題2分，共10題）

1.專利權(quán)利要求書(shū)應(yīng)當(dāng)與說(shuō)明書(shū)的內(nèi)容保持一致。（）

2.權(quán)利要求書(shū)中的技術(shù)領(lǐng)域描述應(yīng)當(dāng)盡可能詳細(xì)，以涵蓋所有可能的技術(shù)領(lǐng)域。（）

3.在撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)，可以使用“本發(fā)明”等代詞來(lái)指代前文已經(jīng)描述過(guò)的技術(shù)方案。（）

4.權(quán)利要求書(shū)中的技術(shù)方案應(yīng)當(dāng)盡量避免使用“包括”、“含有”等模糊的連接詞。（）

5.從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)完全引用其引用的權(quán)利要求，并在此基礎(chǔ)上進(jìn)行限定。（）

6.權(quán)利要求書(shū)中的技術(shù)方案應(yīng)當(dāng)僅限于實(shí)現(xiàn)發(fā)明的必要技術(shù)特征。（）

7.功能性權(quán)利要求可以僅描述發(fā)明的功能或效果，而不必限定其具體結(jié)構(gòu)或組成。（）

8.權(quán)利要求書(shū)中的實(shí)施例可以作為獨(dú)立權(quán)利要求的一部分，用于限定保護(hù)范圍。（）

9.在撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)，應(yīng)當(dāng)盡量避免使用“本領(lǐng)域技術(shù)人員”等詞匯。（）

10.權(quán)利要求書(shū)中的技術(shù)方案應(yīng)當(dāng)避免使用“優(yōu)選”、“最佳”等形容詞。（）

三、簡(jiǎn)答題（每題5分，共4題）

1.簡(jiǎn)述撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)應(yīng)遵循的“上位原則”。

2.解釋權(quán)利要求中“從屬權(quán)利要求”和“獨(dú)立權(quán)利要求”的區(qū)別。

3.說(shuō)明在撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)，如何處理“技術(shù)特征”和“技術(shù)方案”之間的關(guān)系。

4.分析在撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)，如何平衡保護(hù)范圍和創(chuàng)新性。

四、論述題（每題10分，共2題）

1.論述在專利申請(qǐng)中，如何通過(guò)權(quán)利要求的撰寫(xiě)技巧來(lái)提高專利授權(quán)率。

2.分析在撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)，如何運(yùn)用法律和邏輯技巧來(lái)避免權(quán)利要求的無(wú)效風(fēng)險(xiǎn)。

五、單項(xiàng)選擇題（每題2分，共10題）

1.以下哪項(xiàng)不是撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)應(yīng)當(dāng)遵循的原則？

A.清晰性

B.簡(jiǎn)潔性

C.創(chuàng)新性

D.可行性

2.在權(quán)利要求中，以下哪項(xiàng)內(nèi)容應(yīng)當(dāng)首先描述？

A.技術(shù)領(lǐng)域

B.發(fā)明名稱

C.技術(shù)方案

D.技術(shù)效果

3.以下哪種權(quán)利要求類(lèi)型通常用于描述發(fā)明的核心特征？

A.從屬權(quán)利要求

B.功能性權(quán)利要求

C.獨(dú)立權(quán)利要求

D.實(shí)施例

4.在撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)，以下哪種表述方式更容易被認(rèn)定為功能性權(quán)利要求？

A.使用“包括”連接技術(shù)特征

B.使用“由...構(gòu)成”連接技術(shù)特征

C.使用“具有...特性”描述技術(shù)效果

D.使用“通過(guò)...實(shí)現(xiàn)”描述技術(shù)方案

5.以下哪項(xiàng)不是權(quán)利要求書(shū)中的技術(shù)特征？

A.材料特征

B.結(jié)構(gòu)特征

C.功能特征

D.實(shí)施例

6.在權(quán)利要求中，以下哪種表述方式有助于擴(kuò)大保護(hù)范圍？

A.使用上位概念

B.使用下位概念

C.使用并列權(quán)利要求

D.使用從屬權(quán)利要求

7.以下哪種權(quán)利要求類(lèi)型通常用于描述發(fā)明的具體實(shí)施方式？

A.獨(dú)立權(quán)利要求

B.從屬權(quán)利要求

C.功能性權(quán)利要求

D.實(shí)施例

8.在撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)，以下哪種表述方式可能引起保護(hù)范圍過(guò)窄？

A.使用上位概念

B.使用下位概念

C.使用并列權(quán)利要求

D.使用從屬權(quán)利要求

9.以下哪種權(quán)利要求類(lèi)型有助于保護(hù)發(fā)明的多個(gè)獨(dú)立技術(shù)方案？

A.獨(dú)立權(quán)利要求

B.從屬權(quán)利要求

C.功能性權(quán)利要求

D.實(shí)施例

10.在權(quán)利要求中，以下哪種表述方式有助于避免權(quán)利要求的無(wú)效風(fēng)險(xiǎn)？

A.使用模糊不清的術(shù)語(yǔ)

B.使用過(guò)于具體的實(shí)施方式

C.使用上位概念

D.使用功能性描述

試卷答案如下

一、多項(xiàng)選擇題答案

1.ABCDE

解析思路：專利權(quán)利要求書(shū)應(yīng)包含發(fā)明名稱、技術(shù)領(lǐng)域、權(quán)利要求書(shū)、附圖和實(shí)施例，這些內(nèi)容共同構(gòu)成了專利權(quán)利要求書(shū)的基本要素。

2.ABCDE

解析思路：權(quán)利要求的撰寫(xiě)要求包括清晰、簡(jiǎn)要、以所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為準(zhǔn)、避免使用模糊不清的術(shù)語(yǔ)、避免使用過(guò)于具體的實(shí)施方式以及避免與說(shuō)明書(shū)不一致的內(nèi)容。

3.ABCD

解析思路：擴(kuò)大保護(hù)范圍可以通過(guò)使用上位概念、并列權(quán)利要求、從屬權(quán)利要求以及功能性權(quán)利要求等策略實(shí)現(xiàn)。

4.ABCDE

解析思路：權(quán)利要求書(shū)撰寫(xiě)中應(yīng)避免的陷阱包括使用過(guò)于具體的實(shí)施方式、使用模糊不清的術(shù)語(yǔ)、權(quán)利要求與說(shuō)明書(shū)內(nèi)容不一致、權(quán)利要求過(guò)于狹窄以及權(quán)利要求缺乏新穎性和創(chuàng)造性。

5.CDE

解析思路：權(quán)利要求書(shū)必須明確限定技術(shù)方案的核心要素、技術(shù)方案的實(shí)施例以及技術(shù)方案的保護(hù)范圍。

6.ABCDE

解析思路：權(quán)利要求書(shū)撰寫(xiě)中應(yīng)注意的事項(xiàng)包括簡(jiǎn)潔明了、與說(shuō)明書(shū)內(nèi)容相一致、盡量使用上位概念、避免使用模糊不清的術(shù)語(yǔ)以及明確限定保護(hù)范圍。

7.D

解析思路：權(quán)利要求書(shū)中不宜出現(xiàn)技術(shù)方案的實(shí)施例，因?yàn)閷?shí)施例通常用于說(shuō)明如何實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求的技術(shù)方案。

8.ABCDE

解析思路：并列權(quán)利要求適用于發(fā)明具有多個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案、技術(shù)效果、技術(shù)領(lǐng)域、技術(shù)要素或?qū)嵤┓绞降那闆r。

9.D

解析思路：功能性權(quán)利要求可以僅描述發(fā)明的功能或效果，而不必限定其具體結(jié)構(gòu)或組成。

10.E

解析思路：可能造成保護(hù)范圍過(guò)窄的是使用功能性描述，因?yàn)檫@可能導(dǎo)致權(quán)利要求過(guò)于狹窄，無(wú)法涵蓋所有實(shí)現(xiàn)發(fā)明的技術(shù)方案。

二、判斷題答案

1.√

2.×

3.√

4.×

5.√

6.√

7.√

8.×

9.×

10.×

三、簡(jiǎn)答題答案

1.撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)應(yīng)遵循的“上位原則”是指權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)從上位概念開(kāi)始描述，逐步細(xì)化到具體的技術(shù)特征，以確保權(quán)利要求的清晰性和保護(hù)范圍的合理性。

2.從屬權(quán)利要求是對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求的進(jìn)一步限定，它引用獨(dú)立權(quán)利要求，并在此基礎(chǔ)上增加新的技術(shù)特征。獨(dú)立權(quán)利要求則是對(duì)發(fā)明技術(shù)方案的最基本和最概括的描述。

3.技術(shù)特征是構(gòu)成技術(shù)方案的基本要素，而技術(shù)方案是技術(shù)特征的綜合體現(xiàn)。在撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)，應(yīng)當(dāng)確保技術(shù)特征與技術(shù)方案的一致性，同時(shí)避免過(guò)度限定或遺漏關(guān)鍵特征。

4.在撰寫(xiě)權(quán)利要求時(shí)，平衡保護(hù)范圍和創(chuàng)新性需要考慮發(fā)明的技術(shù)特點(diǎn)和市場(chǎng)需求。適當(dāng)?shù)谋Ｗo(hù)范圍應(yīng)足以保護(hù)發(fā)明不被他人侵權(quán)，同時(shí)不應(yīng)過(guò)于狹窄以至于限制了發(fā)明的應(yīng)用和發(fā)展。

四、論述題答案

1.在專利申請(qǐng)中，通過(guò)權(quán)利要求的撰寫(xiě)技巧提高專利授權(quán)率的方法包括：確保權(quán)利要求的清晰性和簡(jiǎn)潔性、使用上