鍍膜工技能測(cè)試題庫(kù)及答案工種：鍍膜工等級(jí)：中級(jí)時(shí)間：90分鐘滿分：100分---一、單項(xiàng)選擇題（每題1分，共30分）1.鍍膜前，基材表面的清潔度通常用哪種方法檢測(cè)？A.目測(cè)法B.顯微鏡觀察C.比重計(jì)測(cè)量D.磁力測(cè)試2.在真空鍍膜過(guò)程中，真空度通常要求達(dá)到多少帕斯卡以下？A.1×10?3PaB.1×10??PaC.1×10?1PaD.1×10?Pa3.下列哪種氣體常用于磁控濺射中的等離子體產(chǎn)生？A.氮?dú)猓∟?）B.氬氣（Ar）C.氧氣（O?）D.氫氣（H?）4.鍍膜厚度均勻性主要受哪個(gè)因素影響最大？A.鍍膜材料純度B.基材溫度C.真空度穩(wěn)定性D.鍍膜時(shí)間5.鍍膜過(guò)程中，出現(xiàn)膜層開裂的原因可能是？A.基材表面張力過(guò)大B.鍍膜速度過(guò)快C.基材與膜層熱膨脹系數(shù)差異大D.以上都是6.以下哪種材料適合用于光學(xué)鍍膜？A.鋁（Al）B.鈦（Ti）C.鈷（Co）D.硅（Si）7.鍍膜后，膜層附著力測(cè)試通常使用哪種方法？A.拉力測(cè)試B.耐候性測(cè)試C.耐腐蝕測(cè)試D.膜層厚度測(cè)量8.磁控濺射與真空蒸發(fā)的主要區(qū)別在于？A.能量來(lái)源B.膜層均勻性C.設(shè)備成本D.應(yīng)用領(lǐng)域9.鍍膜過(guò)程中，基材溫度過(guò)高可能導(dǎo)致？A.膜層致密性下降B.膜層附著力增強(qiáng)C.膜層厚度均勻性提高D.以上都不是10.等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）中，常用的反應(yīng)氣體是？A.SiH?+N?B.CH?+H?C.WF?+H?D.以上都是11.鍍膜設(shè)備中的離子轟擊主要用于？A.提高膜層附著力B.降低膜層應(yīng)力C.增加膜層厚度D.以上都不是12.鍍膜后，膜層透光率測(cè)試通常使用哪種儀器？A.光譜儀B.分光光度計(jì)C.離子色譜儀D.拉力機(jī)13.鍍膜過(guò)程中，出現(xiàn)膜層針孔的原因可能是？A.基材表面污染B.鍍膜速度過(guò)慢C.真空度不穩(wěn)定D.以上都是14.鍍膜材料純度對(duì)膜層質(zhì)量的影響主要體現(xiàn)在？A.膜層均勻性B.膜層致密性C.膜層附著力D.以上都是15.鍍膜設(shè)備中的真空獲得通常使用？A.機(jī)械泵B.渦輪分子泵C.旋片泵D.以上都是16.鍍膜后，膜層硬度測(cè)試通常使用哪種方法？A.里氏硬度計(jì)B.維氏硬度計(jì)C.努氏硬度計(jì)D.以上都是17.鍍膜過(guò)程中，出現(xiàn)膜層氣泡的原因可能是？A.基材表面水分過(guò)多B.鍍膜溫度過(guò)高C.鍍膜時(shí)間過(guò)長(zhǎng)D.以上都是18.鍍膜設(shè)備中的射頻電源主要用于？A.產(chǎn)生等離子體B.加熱基材C.控制膜層厚度D.以上都不是19.鍍膜后，膜層耐腐蝕性測(cè)試通常使用哪種方法？A.鹽霧測(cè)試B.熱沖擊測(cè)試C.拉力測(cè)試D.膜層厚度測(cè)量20.鍍膜過(guò)程中，出現(xiàn)膜層顏色不均的原因可能是？A.鍍膜材料不純B.鍍膜參數(shù)設(shè)置不當(dāng)C.基材表面不平整D.以上都是21.鍍膜設(shè)備中的基板旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)主要用于？A.提高膜層均勻性B.加速鍍膜過(guò)程C.降低設(shè)備成本D.以上都不是22.鍍膜后，膜層彎曲測(cè)試通常使用哪種方法？A.彎曲試驗(yàn)機(jī)B.拉力試驗(yàn)機(jī)C.光譜儀D.離子色譜儀23.鍍膜過(guò)程中，出現(xiàn)膜層龜裂的原因可能是？A.基材溫度變化過(guò)快B.膜層應(yīng)力過(guò)大C.鍍膜時(shí)間過(guò)短D.以上都是24.鍍膜設(shè)備中的監(jiān)控系統(tǒng)能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)測(cè)哪些參數(shù)？A.真空度B.溫度C.膜層厚度D.以上都是25.鍍膜后，膜層耐磨性測(cè)試通常使用哪種方法？A.磨損試驗(yàn)機(jī)B.拉力試驗(yàn)機(jī)C.光譜儀D.離子色譜儀26.鍍膜過(guò)程中，出現(xiàn)膜層厚度不均的原因可能是？A.基材移動(dòng)不均B.鍍膜參數(shù)設(shè)置不當(dāng)C.真空度波動(dòng)D.以上都是27.鍍膜設(shè)備中的射頻匹配網(wǎng)絡(luò)主要用于？A.提高等離子體效率B.降低設(shè)備功耗C.控制膜層厚度D.以上都不是28.鍍膜后，膜層光學(xué)性能測(cè)試通常使用哪種儀器？A.光柵衍射儀B.分光光度計(jì)C.拉力機(jī)D.離子色譜儀29.鍍膜過(guò)程中，出現(xiàn)膜層附著力差的原因可能是？A.基材表面清潔度不足B.鍍膜溫度過(guò)高C.鍍膜時(shí)間過(guò)短D.以上都是30.鍍膜設(shè)備中的安全防護(hù)措施主要包括？A.真空泄漏檢測(cè)B.氣體泄漏檢測(cè)C.過(guò)溫保護(hù)D.以上都是---二、多項(xiàng)選擇題（每題2分，共20分）1.鍍膜前基材表面清潔度的檢測(cè)方法包括？A.目測(cè)法B.顯微鏡觀察C.比重計(jì)測(cè)量D.離子色譜分析2.真空鍍膜過(guò)程中，影響膜層均勻性的因素包括？A.真空度穩(wěn)定性B.基材溫度C.鍍膜速度D.鍍膜材料純度3.磁控濺射的優(yōu)缺點(diǎn)包括？A.膜層均勻性好B.鍍膜速度快C.設(shè)備成本高D.能量利用率低4.鍍膜過(guò)程中，膜層附著力差的原因可能包括？A.基材表面污染B.鍍膜溫度過(guò)高C.膜層應(yīng)力過(guò)大D.鍍膜時(shí)間過(guò)短5.鍍膜后膜層性能測(cè)試的常用方法包括？A.膜層厚度測(cè)量B.附著力測(cè)試C.耐腐蝕測(cè)試D.光學(xué)性能測(cè)試6.鍍膜設(shè)備中的真空系統(tǒng)通常包括？A.機(jī)械泵B.渦輪分子泵C.旋片泵D.真空計(jì)7.鍍膜過(guò)程中，影響膜層致密性的因素包括？A.真空度B.鍍膜溫度C.鍍膜時(shí)間D.基材類型8.鍍膜設(shè)備中的安全防護(hù)措施包括？A.真空泄漏檢測(cè)B.氣體泄漏檢測(cè)C.過(guò)溫保護(hù)D.按鈕防護(hù)9.鍍膜后膜層硬度測(cè)試的常用方法包括？A.里氏硬度計(jì)B.維氏硬度計(jì)C.努氏硬度計(jì)D.拉力試驗(yàn)機(jī)10.鍍膜過(guò)程中，膜層厚度控制的常用方法包括？A.調(diào)整鍍膜時(shí)間B.調(diào)整鍍膜電流C.調(diào)整基板溫度D.調(diào)整真空度---三、判斷題（每題1分，共10分）1.真空鍍膜過(guò)程中，真空度越高越好。2.磁控濺射比真空蒸發(fā)更適合大面積鍍膜。3.鍍膜后，膜層硬度越高，耐磨性越好。4.鍍膜過(guò)程中，基材溫度越高，膜層附著力越好。5.鍍膜設(shè)備中的離子轟擊可以提高膜層附著力。6.鍍膜后，膜層透光率越高，光學(xué)性能越好。7.鍍膜過(guò)程中，膜層厚度均勻性與基材移動(dòng)速度無(wú)關(guān)。8.鍍膜設(shè)備中的射頻電源主要用于加熱基材。9.鍍膜后，膜層耐腐蝕性測(cè)試通常使用鹽霧測(cè)試。10.鍍膜過(guò)程中，膜層顏色不均通常是由于鍍膜材料不純導(dǎo)致的。---四、簡(jiǎn)答題（每題5分，共20分）1.簡(jiǎn)述鍍膜前基材表面清潔度的檢測(cè)方法及其重要性。2.簡(jiǎn)述磁控濺射的原理及其優(yōu)缺點(diǎn)。3.簡(jiǎn)述鍍膜過(guò)程中膜層附著力差的原因及解決方法。4.簡(jiǎn)述鍍膜設(shè)備中的安全防護(hù)措施及其重要性。---五、論述題（10分）結(jié)合實(shí)際，論述鍍膜工藝參數(shù)對(duì)膜層質(zhì)量的影響，并提出優(yōu)化膜層質(zhì)量的措施。---答案及解析一、單項(xiàng)選擇題1.A2.B3.B4.C5.D6.A7.A8.A9.A10.D11.A12.B13.D14.D15.D16.D17.D18.A19.A20.D21.A22.A23.D24.D25.A26.D27.A28.B29.D30.D二、多項(xiàng)選擇題1.A,B2.A,B,C,D3.A,B,C4.A,B,C,D5.A,B,C,D6.A,B,C7.A,B,C,D8.A,B,C,D9.A,B,C10.A,B,C,D三、判斷題1.×2.√3.√4.×5.√6.√7.×8.×9.√10.×四、簡(jiǎn)答題1.鍍膜前基材表面清潔度檢測(cè)方法及其重要性-檢測(cè)方法：目測(cè)法、顯微鏡觀察、化學(xué)清洗劑檢測(cè)等。-重要性：基材表面清潔度直接影響膜層附著力，污染會(huì)導(dǎo)致膜層開裂、附著力差等問(wèn)題。2.磁控濺射的原理及其優(yōu)缺點(diǎn)-原理：利用磁場(chǎng)約束等離子體，提高離子能量，轟擊靶材，使靶材原子濺射到基材上形成膜層。-優(yōu)點(diǎn)：膜層均勻性好、鍍膜速度快、適用材料范圍廣。-缺點(diǎn)：設(shè)備成本高、可能存在靶材損耗不均問(wèn)題。3.膜層附著力差的原因及解決方法-原因：基材表面污染、鍍膜溫度過(guò)高、膜層應(yīng)力過(guò)大、鍍膜時(shí)間過(guò)短等。-解決方法：提高基材清潔度、優(yōu)化鍍膜溫度、調(diào)整膜層應(yīng)力、延長(zhǎng)鍍膜時(shí)間等。4.鍍膜設(shè)備中的安全防護(hù)措施及其重要性-安全防護(hù)措施：真空泄漏檢測(cè)、氣體泄漏檢測(cè)、過(guò)溫保護(hù)、按鈕防護(hù)等。-重要性：保障操作人員安全，防止設(shè)備損壞，確保鍍膜工藝穩(wěn)定進(jìn)行。五、論述題鍍膜工藝參數(shù)對(duì)膜層質(zhì)量的影響及優(yōu)化措施-真空度：真空度越高，膜層致密性越好，但過(guò)高會(huì)增加設(shè)備成本。優(yōu)化措施：根據(jù)材料選擇合適的真空度。-溫度：溫度過(guò)高可能導(dǎo)致膜層開裂，過(guò)低則附著力差。優(yōu)化措施：精確控制溫度，確?；呐c膜層熱膨脹系數(shù)匹配。-鍍膜時(shí)間：時(shí)間過(guò)短膜層厚度不足，過(guò)長(zhǎng)則浪費(fèi)資源。優(yōu)化措施：根據(jù)需求調(diào)整時(shí)間，并實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)膜層厚度。-電流/功率：電流過(guò)高可能導(dǎo)致膜層應(yīng)力過(guò)大，過(guò)低則沉積速率慢。優(yōu)化措施：根據(jù)材料調(diào)