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配位掩蔽法

配位滴定之所以能廣泛應用,與大量使用掩蔽劑是分不開的。常用的掩蔽方法按反應類型不同,可分為配位掩蔽法、沉淀掩蔽法、氧化還原掩蔽法,其中以配位掩蔽法用得最多。

配位掩蔽法

用EDTA滴定水中的Ca2+、Mg2+測定水的硬度時,F(xiàn)e3+、Al3+等離子的存在干擾測定,若加入三乙醇胺使與Fe3+、Al3+生成更穩(wěn)定的配合物,則可消除Fe3+、Al3+的干擾。

在Al3+與Zn2+共存時,可用NH4F掩蔽Al3+,使其生成穩(wěn)定性較好的AlF3-6配離子,調節(jié)PH=5~6,可用EDTA滴定Zn2+,而Al3+不干擾。

配位掩蔽劑必須具備下列條件:(1)與干擾離子形成配合物的穩(wěn)定性,必須大于EDTA與該離子形成配合物的穩(wěn)定性,而且這些配合物應為無色或淺色,不影響終點的觀察。KNL﹥KNY(2)掩蔽劑不能與被測離子形成配合物,或形成配合物的穩(wěn)定性要比被測離子與EDTA所形成的配合物的穩(wěn)定性小得多,這樣才不會影響滴定進行。KML<<KMY(3)配位劑的應用有一定的PH范圍,而且要符合測定的PH范圍。

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