2025年無(wú)損檢測(cè)員（中級(jí)）無(wú)損檢測(cè)技術(shù)操作試題考試時(shí)間：______分鐘總分：______分姓名：______一、選擇題（本大題共20小題，每小題1分，共20分。在每小題列出的四個(gè)選項(xiàng)中，只有一項(xiàng)是最符合題目要求的，請(qǐng)將正確選項(xiàng)的字母填在題后的括號(hào)內(nèi)。）1.無(wú)損檢測(cè)員在進(jìn)行檢測(cè)前，首先需要了解和熟悉的是（）。A.檢測(cè)設(shè)備的操作手冊(cè)B.檢測(cè)對(duì)象的歷史維修記錄C.檢測(cè)環(huán)境的溫度和濕度D.檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的具體要求2.在超聲波檢測(cè)中，當(dāng)探頭與被測(cè)工件接觸不良時(shí)，可能會(huì)出現(xiàn)（）現(xiàn)象。A.波幅增大B.波幅減小C.波形失真D.聲時(shí)延長(zhǎng)3.關(guān)于射線檢測(cè)，以下哪項(xiàng)描述是正確的？（）A.射線檢測(cè)可以發(fā)現(xiàn)表面以下的缺陷B.射線檢測(cè)對(duì)薄工件不適用C.射線檢測(cè)不需要使用膠片D.射線檢測(cè)的靈敏度較低4.磁粉檢測(cè)中，磁粉的磁化方式不包括（）。A.交流磁化B.直流磁化C.交直流磁化D.渦流磁化5.在滲透檢測(cè)中，滲透劑的類型不包括（）。A.水性滲透劑B.油性滲透劑C.化學(xué)滲透劑D.干式滲透劑6.超聲波檢測(cè)中，常用的探頭類型不包括（）。A.直探頭B.斜探頭C.旋轉(zhuǎn)探頭D.水平探頭7.射線檢測(cè)中，常用的射線源不包括（）。A.12?IB.??CoC.??mTcD.1??Ce8.磁粉檢測(cè)中，磁粉懸浮液的類型不包括（）。A.水基磁粉懸浮液B.油基磁粉懸浮液C.干式磁粉D.乳液磁粉懸浮液9.滲透檢測(cè)中，顯像劑的類型不包括（）。A.干粉顯像劑B.液體顯像劑C.噴涂顯像劑D.氣體顯像劑10.超聲波檢測(cè)中，常用的耦合劑不包括（）。A.水晶耦合劑B.甘油C.液體石蠟D.凡士林11.射線檢測(cè)中，常用的膠片類型不包括（）。A.普通膠片B.底片C.特種膠片D.反射片12.磁粉檢測(cè)中，常用的磁粉類型不包括（）。A.鈷磁粉B.鐵磁粉C.鎳磁粉D.銅磁粉13.滲透檢測(cè)中，清洗劑的類型不包括（）。A.水性清洗劑B.油性清洗劑C.化學(xué)清洗劑D.乳化清洗劑14.超聲波檢測(cè)中，常用的試塊類型不包括（）。A.校準(zhǔn)試塊B.檢測(cè)試塊C.標(biāo)準(zhǔn)試塊D.金屬試塊15.射線檢測(cè)中，常用的增感屏類型不包括（）。A.鋁增感屏B.鉬增感屏C.鉻增感屏D.鎳增感屏16.磁粉檢測(cè)中，常用的磁化設(shè)備不包括（）。A.線圈B.磁粉噴槍C.磁懸液攪拌器D.電磁鐵17.滲透檢測(cè)中，常用的顯像方法不包括（）。A.噴涂法B.滴涂法C.氣霧法D.熱處理法18.超聲波檢測(cè)中，常用的缺陷指示不包括（）。A.波幅變化B.波形變化C.聲時(shí)變化D.顏色變化19.射線檢測(cè)中，常用的缺陷指示不包括（）。A.黑度變化B.密度變化C.形狀變化D.位置變化20.磁粉檢測(cè)中，常用的缺陷指示不包括（）。A.磁痕B.磁斑C.磁紋D.顏色變化二、判斷題（本大題共10小題，每小題1分，共10分。請(qǐng)判斷下列表述的正誤，正確的填“√”，錯(cuò)誤的填“×”。）1.無(wú)損檢測(cè)員在進(jìn)行檢測(cè)前，不需要了解被測(cè)工件的材料和結(jié)構(gòu)。（）2.超聲波檢測(cè)中，探頭與被測(cè)工件接觸良好可以避免波幅減小。（）3.射線檢測(cè)可以發(fā)現(xiàn)表面以下的缺陷，但無(wú)法確定缺陷的性質(zhì)。（）4.磁粉檢測(cè)中，磁粉的磁化方式只有直流磁化。（）5.滲透檢測(cè)中，滲透劑的類型只有水性滲透劑和油性滲透劑。（）6.超聲波檢測(cè)中，常用的探頭類型只有直探頭和斜探頭。（）7.射線檢測(cè)中，常用的射線源只有放射性同位素。（）8.磁粉檢測(cè)中，磁粉懸浮液的類型只有水基磁粉懸浮液和油基磁粉懸浮液。（）9.滲透檢測(cè)中，顯像劑的類型只有干粉顯像劑和液體顯像劑。（）10.超聲波檢測(cè)中，常用的耦合劑只有甘油和液體石蠟。（）三、簡(jiǎn)答題（本大題共5小題，每小題4分，共20分。請(qǐng)根據(jù)題目要求，簡(jiǎn)要回答問(wèn)題。）1.簡(jiǎn)述超聲波檢測(cè)中，直探頭和斜探頭的主要區(qū)別和應(yīng)用場(chǎng)景。2.簡(jiǎn)述射線檢測(cè)中，膠片處理的基本步驟和注意事項(xiàng)。3.簡(jiǎn)述磁粉檢測(cè)中，磁粉懸浮液的選擇依據(jù)和影響因素。4.簡(jiǎn)述滲透檢測(cè)中，顯像劑的作用機(jī)理和常用類型。5.簡(jiǎn)述無(wú)損檢測(cè)報(bào)告中，缺陷描述應(yīng)包含哪些主要內(nèi)容。四、論述題（本大題共3小題，每小題6分，共18分。請(qǐng)根據(jù)題目要求，結(jié)合實(shí)際工作經(jīng)驗(yàn)，詳細(xì)論述問(wèn)題。）1.論述超聲波檢測(cè)中，如何選擇合適的探頭頻率和晶片尺寸。2.論述射線檢測(cè)中，如何根據(jù)被測(cè)工件的厚度選擇合適的射線源和距離。3.論述磁粉檢測(cè)中，如何通過(guò)控制磁化電流和磁粉噴涂工藝，提高檢測(cè)靈敏度。五、操作題（本大題共2小題，每小題8分，共16分。請(qǐng)根據(jù)題目要求，描述具體的無(wú)損檢測(cè)操作步驟和注意事項(xiàng)。）1.描述進(jìn)行滲透檢測(cè)時(shí)，對(duì)被測(cè)工件進(jìn)行清洗和干燥的操作步驟。2.描述進(jìn)行磁粉檢測(cè)時(shí)，使用干式磁粉進(jìn)行檢測(cè)的操作步驟和注意事項(xiàng)。本次試卷答案如下一、選擇題答案及解析1.D解析：無(wú)損檢測(cè)員在進(jìn)行檢測(cè)前，首先需要了解和熟悉的是檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的具體要求，因?yàn)闄z測(cè)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了檢測(cè)方法、靈敏度等級(jí)、評(píng)定準(zhǔn)則等，是檢測(cè)工作的依據(jù)和指導(dǎo)。2.B解析：超聲波檢測(cè)中，探頭與被測(cè)工件接觸不良時(shí)，會(huì)產(chǎn)生聲能損失，導(dǎo)致波幅減小，同時(shí)可能出現(xiàn)波形失真和聲時(shí)延長(zhǎng)等現(xiàn)象。3.A解析：射線檢測(cè)可以發(fā)現(xiàn)表面以下的缺陷，這是其基本原理和應(yīng)用特點(diǎn)。射線可以穿透工件，在背面形成影像，從而顯示出內(nèi)部缺陷。選項(xiàng)B錯(cuò)誤，射線檢測(cè)對(duì)薄工件同樣適用，甚至靈敏度更高。選項(xiàng)C錯(cuò)誤，射線檢測(cè)需要使用膠片或其他記錄介質(zhì)來(lái)記錄射線圖像。選項(xiàng)D錯(cuò)誤，射線檢測(cè)的靈敏度較高，可以發(fā)現(xiàn)微小的缺陷。4.D解析：磁粉檢測(cè)中，磁粉的磁化方式包括交流磁化、直流磁化和交直流磁化，這些都是通過(guò)外部磁場(chǎng)使磁粉磁化，以便于檢測(cè)缺陷。渦流磁化是電磁感應(yīng)原理，不適用于磁粉檢測(cè)。5.C解析：滲透檢測(cè)中，滲透劑的類型包括水性滲透劑、油性滲透劑和干式滲透劑，這些滲透劑具有不同的物理化學(xué)性質(zhì)，適用于不同的檢測(cè)環(huán)境和要求?；瘜W(xué)滲透劑不是滲透劑的類型。6.D解析：超聲波檢測(cè)中，常用的探頭類型包括直探頭、斜探頭和旋轉(zhuǎn)探頭，這些探頭具有不同的結(jié)構(gòu)和功能，適用于不同的檢測(cè)需求。水平探頭不是超聲波檢測(cè)中常用的探頭類型。7.A解析：射線檢測(cè)中，常用的射線源包括??Co、??mTc和1??Ce，這些都是放射性同位素，可以發(fā)射不同能量的射線。12?I不是常用的射線源。8.C解析：磁粉檢測(cè)中，磁粉懸浮液的類型包括水基磁粉懸浮液、油基磁粉懸浮液和乳液磁粉懸浮液，這些懸浮液將磁粉均勻分散在液體中，以便于噴涂或浸漬。干式磁粉不需要液體介質(zhì)。9.D解析：滲透檢測(cè)中，顯像劑的類型包括干粉顯像劑、液體顯像劑和噴涂顯像劑，這些顯像劑用于吸附滲透劑并顯示缺陷痕跡。氣體顯像劑不是滲透檢測(cè)中常用的顯像劑類型。10.A解析：超聲波檢測(cè)中，常用的耦合劑包括甘油、液體石蠟和凡士林，這些耦合劑用于改善探頭與被測(cè)工件之間的聲能傳遞，減少聲能損失。水晶耦合劑不是常用的耦合劑。11.D解析：射線檢測(cè)中，常用的膠片類型包括普通膠片、底片和特種膠片，這些膠片用于記錄射線圖像。反射片不是射線檢測(cè)中常用的膠片類型。12.D解析：磁粉檢測(cè)中，常用的磁粉類型包括鈷磁粉、鐵磁粉和鎳磁粉，這些磁粉具有不同的磁性和物理化學(xué)性質(zhì)。銅磁粉不是常用的磁粉類型。13.D解析：滲透檢測(cè)中，清洗劑的類型包括水性清洗劑、油性清洗劑和化學(xué)清洗劑，這些清洗劑用于去除被測(cè)工件表面的污染物。乳化清洗劑不是滲透檢測(cè)中常用的清洗劑類型。14.D解析：超聲波檢測(cè)中，常用的試塊類型包括校準(zhǔn)試塊、檢測(cè)試塊和標(biāo)準(zhǔn)試塊，這些試塊用于校準(zhǔn)檢測(cè)設(shè)備、評(píng)估檢測(cè)靈敏度和進(jìn)行質(zhì)量控制。金屬試塊不是超聲波檢測(cè)中常用的試塊類型，試塊材料應(yīng)與被測(cè)工件相同或相似。15.C解析：射線檢測(cè)中，常用的增感屏類型包括鋁增感屏、鉬增感屏和鎳增感屏，這些增感屏用于提高膠片的感光速度和圖像質(zhì)量。鉻增感屏不是常用的增感屏類型。16.B解析：磁粉檢測(cè)中，常用的磁化設(shè)備包括線圈、磁粉噴槍和磁懸液攪拌器，這些設(shè)備用于產(chǎn)生磁場(chǎng)和制備磁粉懸浮液。電磁鐵是磁化設(shè)備的一種，但不是常用的磁粉檢測(cè)設(shè)備。17.D解析：滲透檢測(cè)中，常用的顯像方法包括噴涂法、滴涂法和氣霧法，這些方法用于將顯像劑均勻地施加在被測(cè)工件表面。熱處理法不是滲透檢測(cè)中常用的顯像方法。18.D解析：超聲波檢測(cè)中，常用的缺陷指示包括波幅變化、波形變化和聲時(shí)變化，這些指示反映了缺陷的位置、大小和性質(zhì)。顏色變化不是超聲波檢測(cè)中常用的缺陷指示。19.D解析：射線檢測(cè)中，常用的缺陷指示包括黑度變化、密度變化和形狀變化，這些指示反映了缺陷的性質(zhì)、大小和形狀。位置變化不是射線檢測(cè)中常用的缺陷指示，缺陷的位置由工件的結(jié)構(gòu)和缺陷的分布決定。20.D解析：磁粉檢測(cè)中，常用的缺陷指示包括磁痕、磁斑和磁紋，這些指示反映了缺陷的位置、大小和形狀。顏色變化不是磁粉檢測(cè)中常用的缺陷指示，磁痕的顏色可能與磁粉或工件表面有關(guān)，但不是主要的缺陷指示特征。二、判斷題答案及解析1.×解析：無(wú)損檢測(cè)員在進(jìn)行檢測(cè)前，需要了解被測(cè)工件的材料和結(jié)構(gòu)，因?yàn)檫@些信息會(huì)影響檢測(cè)方法的選擇、靈敏度的設(shè)定和缺陷的評(píng)定。2.×解析：超聲波檢測(cè)中，探頭與被測(cè)工件接觸良好可以避免聲能損失，導(dǎo)致波幅增大，而不是減小。接觸不良會(huì)導(dǎo)致波幅減小、波形失真和聲時(shí)延長(zhǎng)等現(xiàn)象。3.√解析：射線檢測(cè)可以發(fā)現(xiàn)表面以下的缺陷，這是其基本原理和應(yīng)用特點(diǎn)。射線可以穿透工件，在背面形成影像，從而顯示出內(nèi)部缺陷。缺陷的性質(zhì)需要通過(guò)圖像分析和經(jīng)驗(yàn)判斷來(lái)確定。4.×解析：磁粉檢測(cè)中，磁粉的磁化方式包括直流磁化、交流磁化和交直流磁化，這些都是通過(guò)外部磁場(chǎng)使磁粉磁化，以便于檢測(cè)缺陷。只有直流磁化不是磁粉檢測(cè)中常用的磁化方式。5.×解析：滲透檢測(cè)中，滲透劑的類型包括水性滲透劑、油性滲透劑和干式滲透劑，這些滲透劑具有不同的物理化學(xué)性質(zhì)，適用于不同的檢測(cè)環(huán)境和要求?；瘜W(xué)滲透劑不是滲透劑的類型。6.×解析：超聲波檢測(cè)中，常用的探頭類型包括直探頭、斜探頭和旋轉(zhuǎn)探頭，這些探頭具有不同的結(jié)構(gòu)和功能，適用于不同的檢測(cè)需求。水平探頭不是超聲波檢測(cè)中常用的探頭類型。7.×解析：射線檢測(cè)中，常用的射線源包括放射性同位素（如??Co、??mTc）和X射線發(fā)生器，這些都是可以發(fā)射射線的裝置。只有放射性同位素不是射線檢測(cè)中常用的射線源。8.×解析：磁粉檢測(cè)中，磁粉懸浮液的類型包括水基磁粉懸浮液、油基磁粉懸浮液和乳液磁粉懸浮液，這些懸浮液將磁粉均勻分散在液體中，以便于噴涂或浸漬。干式磁粉不需要液體介質(zhì)。9.×解析：滲透檢測(cè)中，顯像劑的類型包括干粉顯像劑、液體顯像劑和噴涂顯像劑，這些顯像劑用于吸附滲透劑并顯示缺陷痕跡。氣體顯像劑不是滲透檢測(cè)中常用的顯像劑類型。10.×解析：超聲波檢測(cè)中，常用的耦合劑包括甘油、液體石蠟和凡士林，這些耦合劑用于改善探頭與被測(cè)工件之間的聲能傳遞，減少聲能損失。水晶耦合劑不是常用的耦合劑。三、簡(jiǎn)答題答案及解析1.直探頭和斜探頭的主要區(qū)別在于晶片形狀和探測(cè)方向。直探頭具有圓形晶片，主要用于檢測(cè)垂直于探頭表面的缺陷，即平行于工件表面的缺陷。斜探頭具有矩形或菱形晶片，主要用于檢測(cè)傾斜于探頭表面的缺陷，即與工件表面成一定角度的缺陷。應(yīng)用場(chǎng)景上，直探頭適用于檢測(cè)薄工件或表面缺陷，斜探頭適用于檢測(cè)厚工件或內(nèi)部缺陷。2.射線檢測(cè)中，膠片處理的基本步驟包括曝光、沖洗和干燥。曝光是將膠片與工件一起置于射線源和工件之間，使射線穿過(guò)工件并在膠片上形成影像。沖洗是使用顯影液和定影液對(duì)膠片進(jìn)行化學(xué)處理，使影像顯現(xiàn)并固定。干燥是將沖洗后的膠片進(jìn)行干燥處理，以便于保存和觀察。注意事項(xiàng)包括控制曝光時(shí)間和距離、使用合適的增感屏、正確操作沖洗設(shè)備等。3.磁粉檢測(cè)中，磁粉懸浮液的選擇依據(jù)包括被測(cè)工件的材質(zhì)、形狀和尺寸、缺陷的類型和尺寸、檢測(cè)環(huán)境的要求等。影響因素包括磁粉的磁性和分散性、液體的粘度和表面張力、溫度和濕度等。選擇合適的磁粉懸浮液可以提高檢測(cè)靈敏度和圖像質(zhì)量。4.滲透檢測(cè)中，顯像劑的作用機(jī)理是吸附滲透劑并顯示缺陷痕跡。滲透劑會(huì)滲入缺陷中，然后通過(guò)顯像劑將滲透劑吸附到表面，形成可見(jiàn)的缺陷痕跡。常用類型包括干粉顯像劑、液體顯像劑和噴涂顯像劑，這些顯像劑具有不同的物理化學(xué)性質(zhì)，適用于不同的檢測(cè)環(huán)境和要求。5.無(wú)損檢測(cè)報(bào)告中，缺陷描述應(yīng)包含缺陷的位置、大小、形狀、性質(zhì)和分布等主要內(nèi)容。位置描述應(yīng)使用坐標(biāo)系或相對(duì)位置描述方法，準(zhǔn)確指示缺陷在工件上的位置。大小描述應(yīng)包括缺陷的長(zhǎng)度、寬度和深度等尺寸信息。形狀描述應(yīng)描述缺陷的幾何形狀，如裂紋、孔洞等。性質(zhì)描述應(yīng)描述缺陷的類型，如表面缺陷、內(nèi)部缺陷等。分布描述應(yīng)描述缺陷在工件上的分布情況，如單個(gè)缺陷、多個(gè)缺陷等。四、論述題答案及解析1.選擇合適的探頭頻率和晶片尺寸需要考慮被測(cè)工件的厚度、材質(zhì)、缺陷的類型和尺寸、檢測(cè)靈敏度的要求等因素。探頭頻率越高，探測(cè)深度越淺，但分辨率越高；探頭頻率越低，探測(cè)深度越深，但分辨率越低。晶片尺寸越大，探測(cè)深度越深，但分辨率越低；晶片尺寸越小，探測(cè)深度越淺，但分辨率越高。選擇合適的探頭頻率和晶片尺寸可以提高檢測(cè)靈敏度和圖像質(zhì)量。2.選擇合適的射線