2025年特種作業(yè)類(lèi)危險(xiǎn)化學(xué)品安全作業(yè)合成氨工藝作業(yè)-氯堿電解工藝作業(yè)參考題庫(kù)含答案解析一、單選題（共35題）1.在合成氨工藝中，為提高氨合成反應(yīng)速率和平衡轉(zhuǎn)化率，工業(yè)上常采用的溫度與壓力范圍是？【選項(xiàng)】A.400-500℃,15-25MPaB.350-400℃,10-15MPaC.500-600℃,30-40MPaD.200-300℃,5-10MPa【參考答案】A【解析】氨合成反應(yīng)為放熱可逆反應(yīng)，根據(jù)反應(yīng)平衡原理，低溫高壓有利于平衡轉(zhuǎn)化率，但低溫會(huì)降低反應(yīng)速率。工業(yè)采用鐵系催化劑時(shí)，最佳活性溫度范圍為400-500℃，并結(jié)合15-25MPa的中高壓條件，既保證反應(yīng)速率又兼顧設(shè)備經(jīng)濟(jì)性；B項(xiàng)壓力不足，C項(xiàng)溫度過(guò)高導(dǎo)致催化劑失活，D項(xiàng)參數(shù)均過(guò)低，無(wú)法實(shí)現(xiàn)工業(yè)合成。2.氯堿電解工藝中，離子膜法電解槽與隔膜法相比，其主要優(yōu)勢(shì)體現(xiàn)在？【選項(xiàng)】A.能耗低且堿液濃度高B.操作溫度范圍更寬C.電極材料成本更低D.鹽水精制要求更低【參考答案】A【解析】離子膜法采用選擇性陽(yáng)離子交換膜，直接生產(chǎn)32%-35%的高濃度堿液（隔膜法僅10%-12%），且直流電耗降低約30%；B項(xiàng)中兩種方法操作溫度相近（約90℃），C項(xiàng)離子膜需貴金屬電極，成本更高，D項(xiàng)離子膜法對(duì)鹽水雜質(zhì)含量要求更嚴(yán)格（如Ca2?、Mg2?需<20ppb）。3.合成氨原料氣脫硫工序中，若采用濕法脫硫，常用的脫硫劑是？【選項(xiàng)】A.氧化鐵B.氫氧化鈉溶液C.活性炭D.乙醇胺【參考答案】D【解析】濕法脫硫主要用于原料氣中硫化氫含量較高時(shí)，乙醇胺（MEA）能與H?S反應(yīng)生成可再生的胺鹽；A項(xiàng)氧化鐵用于干法脫硫（如箱式脫硫），B項(xiàng)氫氧化鈉用于堿洗但不可再生，C項(xiàng)活性炭用于物理吸附脫硫但容量有限。4.氯堿電解中若發(fā)生氯氣泄漏，優(yōu)先選用的個(gè)體防護(hù)裝備是？【選項(xiàng)】A.防塵口罩B.活性炭過(guò)濾式防毒面具C.正壓式空氣呼吸器D.橡膠防化手套【參考答案】C【解析】氯氣為劇毒氣體（IDLH濃度10ppm），過(guò)濾式防毒面具無(wú)法提供充分防護(hù)，必須使用正壓式空氣呼吸器（SCBA）；A項(xiàng)僅防粉塵，B項(xiàng)活性炭不能有效吸附Cl?，D項(xiàng)為輔助防護(hù)用具而非呼吸防護(hù)。5.氨合成塔內(nèi)件采用軸向-徑向流設(shè)計(jì)的主要目的是？【選項(xiàng)】A.降低催化劑床層壓降B.提高反應(yīng)溫度均勻性C.增加催化劑裝填量D.延長(zhǎng)氣體停留時(shí)間【參考答案】A【解析】徑向流氣體分布可減少氣流路徑長(zhǎng)度，將傳統(tǒng)軸向流壓降（2-3MPa）降低至0.5-1MPa，顯著降低壓縮機(jī)能耗；B項(xiàng)通過(guò)冷管調(diào)溫實(shí)現(xiàn)，C/D項(xiàng)與流道設(shè)計(jì)無(wú)關(guān)。6.氯堿電解工藝中，鹽水精制工序添加碳酸鈉的主要作用是？【選項(xiàng)】A.調(diào)節(jié)pH值至酸性B.沉淀鈣離子C.中和游離氯D.增加溶液導(dǎo)電性【參考答案】B【解析】粗鹽水中Ca2?會(huì)堵塞離子膜，加入Na?CO?后生成CaCO?沉淀（反應(yīng)式：Ca2?+CO?2?→CaCO?↓）；A項(xiàng)鹽水需保持微堿性（pH≈10）以防設(shè)備腐蝕，C項(xiàng)用Na?SO?中和游離氯，D項(xiàng)導(dǎo)電性由NaCl濃度決定。7.氨合成催化劑還原時(shí)，需嚴(yán)格控制還原氣中的水汽濃度，主要原因是？【選項(xiàng)】A.防止催化劑機(jī)械強(qiáng)度下降B.避免Fe?O?過(guò)度還原C.抑制氨的生成反應(yīng)D.減少對(duì)管道的腐蝕【參考答案】A【解析】還原過(guò)程中H?O會(huì)使α-Fe微晶燒結(jié)長(zhǎng)大，導(dǎo)致催化劑孔隙率下降和破碎率上升（水汽濃度一般需<1.0g/m3）；B項(xiàng)需維持H?濃度以保證還原徹底，C項(xiàng)低溫下氨合成反應(yīng)極弱，D項(xiàng)非主要原因。8.離子膜法電解槽陰極室產(chǎn)生的氣體是？【選項(xiàng)】A.氯氣B.氧氣C.氫氣D.二氧化碳【參考答案】C【解析】陰極反應(yīng)為2H?O+2e?→H?↑+2OH?，產(chǎn)生氫氣；陽(yáng)極反應(yīng)2Cl?→Cl?↑+2e?，產(chǎn)生氯氣（A項(xiàng)），B/D項(xiàng)在電解中不會(huì)生成。9.合成氨工藝中，甲烷化反應(yīng)的主要作用是？【選項(xiàng)】A.脫除原料氣中的CO?B.將CO和CO?轉(zhuǎn)化為CH?C.增加合成氣熱值D.調(diào)節(jié)氫氮比【參考答案】B【解析】甲烷化在低溫變換后采用鎳催化劑，使殘余的CO、CO?與H?反應(yīng)生成CH?（CO+3H?→CH?+H?O），避免后續(xù)工段催化劑中毒；A項(xiàng)脫CO?由脫碳工序完成，C/D項(xiàng)與反應(yīng)無(wú)關(guān)。10.氯堿電解系統(tǒng)緊急停車(chē)時(shí)，應(yīng)首先采取的操作是？【選項(xiàng)】A.切斷整流器電源B.關(guān)閉鹽水進(jìn)料閥C.啟動(dòng)氯氣吸收裝置D.注入酸中和電解液【參考答案】A【解析】緊急停車(chē)首要步驟是斷電停止電解反應(yīng)（避免氫氣積聚爆炸），隨后按序關(guān)閉物料閥門(mén)（B項(xiàng)），啟動(dòng)應(yīng)急系統(tǒng)（C項(xiàng)）；D項(xiàng)注入酸會(huì)導(dǎo)致危險(xiǎn)反應(yīng)（如生成Cl?）。11.在合成氨工藝中，原料氣制備階段通常采用哪種催化劑促進(jìn)一氧化碳與水蒸氣反應(yīng)生成氫氣？【選項(xiàng)】A.鐵系催化劑B.鎳系催化劑C.銅鋅系催化劑D.鈷鉬系催化劑【參考答案】C【解析】原料氣制備階段的一氧化碳變換反應(yīng)（CO+H?O→CO?+H?）需使用銅鋅系催化劑（低溫變換催化劑）。A選項(xiàng)鐵系催化劑用于氨合成反應(yīng)；B選項(xiàng)鎳系催化劑主要用于甲烷化反應(yīng)；D選項(xiàng)鈷鉬系催化劑用于原料氣脫硫。12.氯堿電解工藝中，隔膜法電解槽的陽(yáng)極材料通常選用什么材質(zhì)？【選項(xiàng)】A.碳鋼B.鈦涂釕C.鎳合金D.石墨【參考答案】B【解析】鈦涂釕為陽(yáng)極主流材料，因鈦耐腐蝕且釕涂層可降低析氯電位。A選項(xiàng)碳鋼易被氯氣腐蝕；C選項(xiàng)鎳合金主要用于陰極；D選項(xiàng)石墨因機(jī)械性能差和消耗快已被淘汰。13.合成氨工藝中，轉(zhuǎn)化爐出口溫度一般控制在哪個(gè)范圍？【選項(xiàng)】A.300~400℃B.500~600℃C.700~800℃D.900~1000℃【參考答案】C【解析】轉(zhuǎn)化爐出口溫度通常為700~800℃，以確保甲烷轉(zhuǎn)化率達(dá)標(biāo)。低于此范圍則反應(yīng)不完全，過(guò)高會(huì)損害催化劑和設(shè)備。14.氯堿電解工藝中，電解槽電壓異常升高可能的原因是以下哪項(xiàng)？【選項(xiàng)】A.鹽水濃度過(guò)低B.電解液循環(huán)量過(guò)大C.電極涂層剝落D.槽溫過(guò)高【參考答案】C【解析】電極涂層剝落會(huì)增大電阻，導(dǎo)致電壓升高。A選項(xiàng)鹽水濃度低主要影響電流效率；B選項(xiàng)循環(huán)量大可降低極距反使電壓降低；D選項(xiàng)槽溫高通常降低電壓。15.合成氨系統(tǒng)的冷卻水塔出口水溫過(guò)高，最可能導(dǎo)致哪個(gè)設(shè)備效率下降？【選項(xiàng)】A.氨合成塔B.壓縮機(jī)C.冷凝器D.轉(zhuǎn)化爐【參考答案】C【解析】冷卻水溫過(guò)高會(huì)降低冷凝器換熱效率，導(dǎo)致合成氣中氨分離不徹底。其余設(shè)備受水溫影響較小。16.氯堿電解工藝中，處理氫氣時(shí)需嚴(yán)格控制氧氣含量不超過(guò)多少？【選項(xiàng)】A.0.1%B.0.5%C.1.0%D.5.0%【參考答案】B【解析】氫氣中氧氣含量超過(guò)0.5%時(shí)易形成爆炸性混合物，需通過(guò)脫氧工序嚴(yán)格控制此限值。17.合成氨工藝中，造成催化劑床層溫度驟降的原因可能是？【選項(xiàng)】A.循環(huán)氣量增加B.進(jìn)口氨含量過(guò)高C.催化劑硫中毒D.系統(tǒng)壓力突升【參考答案】B【解析】進(jìn)口氨含量過(guò)高會(huì)抑制合成反應(yīng)放熱，導(dǎo)致床層溫度下降。A選項(xiàng)循環(huán)氣增加會(huì)帶走熱量但不會(huì)驟降；C選項(xiàng)硫中毒會(huì)導(dǎo)致活性緩慢下降；D選項(xiàng)壓力突升通常提高反應(yīng)速率使溫度上升。18.氯堿電解工藝中，鹽水精制工序去除鈣鎂離子的常用方法是？【選項(xiàng)】A.吸附法B.離子交換法C.加入碳酸鈉和氫氧化鈉D.蒸餾法【參考答案】C【解析】加入碳酸鈉（除Ca2?）和氫氧化鈉（除Mg2?）生成碳酸鈣和氫氧化鎂沉淀是標(biāo)準(zhǔn)工藝。A/B適用于微量雜質(zhì)去除；D不適用于大規(guī)模鹽水處理。19.合成氨裝置緊急停車(chē)時(shí)，對(duì)原料氣壓縮機(jī)應(yīng)優(yōu)先采取的操作是？【選項(xiàng)】A.關(guān)閉入口閥B.打開(kāi)防喘振閥C.切斷電源D.降低轉(zhuǎn)速【參考答案】B【解析】打開(kāi)防喘振閥可防止壓縮機(jī)因負(fù)荷突變發(fā)生喘振損壞設(shè)備。關(guān)閉入口閥和斷電會(huì)導(dǎo)致喘振風(fēng)險(xiǎn)；降轉(zhuǎn)速需逐步操作。20.氯堿電解槽陰極室產(chǎn)生的電解液主要成分是？【選項(xiàng)】A.氯化鈉溶液B.稀硫酸C.氫氧化鈉溶液D.次氯酸鈉溶液【參考答案】C【解析】陰極室發(fā)生反應(yīng)2H?O+2e?→H?↑+2OH?，生成NaOH溶液。A為陽(yáng)極液；B/D為其他工藝產(chǎn)物。21.在合成氨工藝中，催化劑是提高反應(yīng)速率的關(guān)鍵。下列哪種物質(zhì)通常作為合成氨工業(yè)催化劑的活性組分？【選項(xiàng)】A.鉑B.鐵系化合物C.銅鋅合金D.鎳基材料【參考答案】B【解析】合成氨工業(yè)催化劑的核心活性組分為鐵系化合物（如Fe?O?還原后的α-Fe），其具有多孔結(jié)構(gòu)和高活性，可促進(jìn)氮?dú)馀c氫氣的反應(yīng)。鉑（A）雖催化活性強(qiáng)但成本過(guò)高；銅鋅合金（C）主要用于低溫變換反應(yīng)；鎳基材料（D）常用于甲烷化反應(yīng)。22.氯堿電解工藝中，隔膜電解槽使用的隔膜材料通常是？【選項(xiàng)】A.石棉纖維B.聚四氟乙烯C.陶瓷膜D.金屬網(wǎng)【參考答案】A【解析】傳統(tǒng)隔膜電解槽采用改性石棉纖維（A）作為隔膜，可允許離子通過(guò)同時(shí)阻隔陰極區(qū)與陽(yáng)極區(qū)的氣液混合。聚四氟乙烯（B）和陶瓷膜（C）多用于離子膜電解槽；金屬網(wǎng)（D）不具備離子選擇性透過(guò)功能。23.合成氨原料氣脫硫工序中，最常用的干法脫硫劑是？【選項(xiàng)】A.氧化鋅B.活性炭C.氫氧化鈉溶液D.碳酸鈣【參考答案】B【解析】活性炭（B）因巨大比表面積和吸附能力，廣泛用于干法脫硫以去除H?S等硫化物。氧化鋅（A）屬精密脫硫劑用于后續(xù)工序；氫氧化鈉溶液（C）為濕法脫硫；碳酸鈣（D）主要用于脫碳而非脫硫。24.氯堿電解工藝中，陽(yáng)極的主要反應(yīng)產(chǎn)物是什么？【選項(xiàng)】A.氫氣和氫氧化鈉B.氯氣和氧氣C.氯氣和氫氣D.氯氣和氫氧化鈉【參考答案】B【解析】陽(yáng)極反應(yīng)為2Cl?→Cl?↑+2e?，副反應(yīng)可生成少量氧氣（O?）。氫氣（A、C）為陰極產(chǎn)物；氫氧化鈉（A、D）是陰極區(qū)溶液成分，非陽(yáng)極直接產(chǎn)物。25.合成氨工藝中，原料氣壓縮機(jī)出口壓力通?？刂圃谑裁捶秶?？【選項(xiàng)】A.5-10MPaB.15-30MPaC.50-100MPaD.0.1-1MPa【參考答案】B【解析】工業(yè)合成氨多采用中壓法，操作壓力為15-30MPa（B）。高壓法（C）效率高但能耗大；5-10MPa（A）為低壓法范圍，轉(zhuǎn)化率低；0.1-1MPa（D）無(wú)法滿足反應(yīng)平衡要求。26.氯堿電解槽中，若陽(yáng)極室鹽水濃度過(guò)低，最可能導(dǎo)致？【選項(xiàng)】A.氧氣生成量增加B.氯氣純度下降C.氫氧化鈉濃度升高D.槽電壓降低【參考答案】A【解析】鹽水濃度不足時(shí)，陽(yáng)極區(qū)Cl?減少，副反應(yīng)4OH?→O?↑+2H?O+4e?加?。ˋ）。氯氣純度下降（B）多因隔膜損壞；槽電壓（D）因離子遷移阻力增大會(huì)上升而非降低。27.合成氨工藝停車(chē)時(shí)，需首先執(zhí)行的操作是？【選項(xiàng)】A.停止原料氣供應(yīng)B.降低反應(yīng)器溫度C.關(guān)閉循環(huán)壓縮機(jī)D.切斷催化劑活化系統(tǒng)【參考答案】B【解析】停車(chē)時(shí)需先通過(guò)降低溫度（B）使反應(yīng)速率趨近于零，避免氣體突然切斷（A）導(dǎo)致反應(yīng)失衡。壓縮機(jī)（C）需在降溫后停運(yùn)；催化劑活化（D）屬長(zhǎng)期停車(chē)操作。28.隔膜法電解工藝中，石棉隔膜的核心作用是？【選項(xiàng)】A.阻止Cl?向陽(yáng)極遷移B.防止H?與OH?直接中和C.阻隔氯氣與氫氣混合D.允許Na?定向通過(guò)【參考答案】D【解析】隔膜通過(guò)允許Na?（D）由陽(yáng)極區(qū)向陰極區(qū)遷移形成電流通路，同時(shí)限制OH?反向擴(kuò)散（B）。Cl?本身在陽(yáng)極反應(yīng)（A錯(cuò)誤）；氯氫混合（C）主要通過(guò)保持液位差實(shí)現(xiàn)。29.合成氨變換工序中，高變催化劑的主要成分是？【選項(xiàng)】A.Fe?O?-Cr?O?B.CuO-ZnOC.NiO-MgOD.CoO-MoO?【參考答案】A【解析】高溫變換催化劑以Fe?O?-Cr?O?（A）為主，操作溫度350-500℃。CuO-ZnO（B）用于低溫變換；NiO-MgO（C）用于烴類(lèi)轉(zhuǎn)化；CoO-MoO?（D）用于加氫脫硫。30.氯堿電解裝置發(fā)生氯氣泄漏時(shí)，首選的處理方法是？【選項(xiàng)】A.用水稀釋B.使用堿液吸收C.啟動(dòng)排風(fēng)扇強(qiáng)制通風(fēng)D.噴灑活性炭吸附【參考答案】B【解析】氯氣可與NaOH反應(yīng)生成次氯酸鈉：Cl?+2NaOH→NaClO+NaCl+H?O，堿液吸收（B）高效且安全。水稀釋?zhuān)ˋ）會(huì)生成腐蝕性酸霧；通風(fēng)（C）僅輔助；活性炭（D）吸附量有限。31.在合成氨工藝中，氫氣和氮?dú)獾睦硐肽柋仁嵌嗌?？【選項(xiàng)】A.1:1B.2:1C.3:1D.4:1【參考答案】C【解析】合成氨反應(yīng)的化學(xué)方程式為\(\text{N}_2+3\text{H}_2\rightarrow2\text{NH}_3\)，根據(jù)化學(xué)反應(yīng)計(jì)量關(guān)系，氫氮摩爾比為3:1時(shí)反應(yīng)效率最高。選項(xiàng)A、B、D的比例均會(huì)降低反應(yīng)速率或造成原料浪費(fèi)。32.氯堿電解工藝中，離子膜電解槽的陽(yáng)極材料通常采用以下哪種？【選項(xiàng)】A.銅B.石墨C.鍍鉑鈦網(wǎng)D.普通碳鋼【參考答案】C【解析】離子膜電解槽陽(yáng)極需耐強(qiáng)腐蝕性環(huán)境（如潮濕氯氣），鍍鉑鈦網(wǎng)兼具導(dǎo)電性、耐蝕性和穩(wěn)定性。石墨（B）因機(jī)械強(qiáng)度低已逐漸淘汰，銅（A）和碳鋼（D）在電解液中易腐蝕。33.合成氨工藝中，原料氣脫硫的主要目的是什么？【選項(xiàng)】A.提高氫氣純度B.防止催化劑中毒C.降低反應(yīng)溫度D.減少氨的分解【參考答案】B【解析】硫化物（如H?S）會(huì)與合成氨催化劑（如鐵基催化劑）結(jié)合，導(dǎo)致活性下降（即“中毒”），故脫硫是保護(hù)催化劑的關(guān)鍵步驟。其他選項(xiàng)均與脫硫作用無(wú)關(guān)。34.氯堿電解工藝中，電解槽陰極產(chǎn)生的氣體是什么？【選項(xiàng)】A.氯氣B.氧氣C.氫氣D.二氧化碳【參考答案】C【解析】電解飽和食鹽水時(shí)，陰極發(fā)生還原反應(yīng)生成氫氣（\(2\text{H}^++2e^-\rightarrow\text{H}_2\)），陽(yáng)極生成氯氣。選項(xiàng)B（氧氣）在陽(yáng)極副反應(yīng)中出現(xiàn)，但非主要產(chǎn)物。35.合成氨反應(yīng)使用的催化劑"鐵觸媒"活性溫度范圍通常是？【選項(xiàng)】A.100-200℃B.250-350℃C.400-550℃D.600-700℃【參考答案】C【解析】鐵基催化劑（如Fe?O?-Al?O?-K?O）最佳活性溫度為400-550℃。溫度過(guò)低（A、B）反應(yīng)速率不足，過(guò)高（D）會(huì)加速催化劑燒結(jié)失活。二、多選題（共35題）1.在氯堿電解工藝中，關(guān)于電解工序的操作要求，下列說(shuō)法正確的有：【選項(xiàng)】A.電解槽運(yùn)行中需定期監(jiān)測(cè)槽電壓和電流密度B.離子膜出現(xiàn)破損時(shí)需立即停車(chē)更換C.氯氣總管壓力應(yīng)始終維持負(fù)壓操作D.電解液循環(huán)泵停運(yùn)時(shí)間超過(guò)30分鐘需排空電解液【參考答案】A、B、D【解析】A正確：槽電壓和電流密度是電解效率的核心指標(biāo)，需實(shí)時(shí)監(jiān)控；B正確：離子膜破損會(huì)導(dǎo)致陰陽(yáng)極氣體混合爆炸，必須立即停車(chē)；C錯(cuò)誤：氯氣總管需保持微正壓防止空氣倒灌引發(fā)爆炸；D正確：長(zhǎng)時(shí)間停泵會(huì)導(dǎo)致電解液結(jié)晶堵塞管道，需排空處理。2.合成氨工藝中，可能導(dǎo)致變換爐催化劑中毒的物質(zhì)包括：【選項(xiàng)】A.硫化氫（H?S）B.一氧化碳（CO）C.水蒸氣（H?O）D.氯離子（Cl?）【參考答案】A、D【解析】A正確：H?S會(huì)與催化劑活性組分Fe反應(yīng)生成FeS導(dǎo)致失活；D正確：Cl?會(huì)破壞催化劑結(jié)構(gòu)；B錯(cuò)誤：CO是變換反應(yīng)的反應(yīng)物；C錯(cuò)誤：水蒸氣是變換反應(yīng)的原料氣組分。3.氯堿電解工藝中，關(guān)于氫氣處理的安全要求，符合規(guī)范的操作是：【選項(xiàng)】A.氫氣管道安裝阻火器且接地電阻≤10ΩB.采用氮?dú)庵脫Q氫氣系統(tǒng)后再進(jìn)行動(dòng)火作業(yè)C.氫氣排放口需設(shè)置高空放散管并配備點(diǎn)火裝置D.氫氣壓縮機(jī)密封液選用含氧量＞5%的潤(rùn)滑液【參考答案】A、B、C【解析】A正確：阻火器防回火，接地防靜電積聚；B正確：氮?dú)庵脫Q可降低氫氣爆炸風(fēng)險(xiǎn)；C正確：高空排放和點(diǎn)火可防止氫氣聚集；D錯(cuò)誤：含氧潤(rùn)滑液會(huì)與氫氣形成爆炸性混合物。4.合成氨裝置中，關(guān)于氨合成塔的操作注意事項(xiàng)，正確的有：【選項(xiàng)】A.升溫速率需控制在25-30℃/hB.循環(huán)氣中惰性氣體含量應(yīng)≤15%C.塔壁溫度超過(guò)設(shè)計(jì)值10%需緊急停車(chē)D.催化劑還原階段需維持H?/N?=3:1【參考答案】A、B、C、D【解析】A正確：快速升溫會(huì)損壞催化劑；B正確：惰性氣過(guò)高降低反應(yīng)效率；C正確：超溫易導(dǎo)致材料失效；D正確：特定氫氮比是還原反應(yīng)的必要條件。5.氯堿電解工藝中，電解槽異?，F(xiàn)象與對(duì)應(yīng)處理措施匹配的是：【選項(xiàng)】A.槽電壓驟降——檢查離子膜是否穿孔B.氯氣純度下降——調(diào)節(jié)鹽水pH至8-10C.氫氣含氧量超標(biāo)——檢查電解槽密封性D.電解液濃度異?！?zhǔn)流量計(jì)并調(diào)節(jié)進(jìn)料閥【參考答案】A、C、D【解析】A正確：膜穿孔會(huì)導(dǎo)致兩極室短路使電壓下降；C正確：密封失效會(huì)使空氣混入氫氣；D正確：濃度異常通常由流量控制失調(diào)引起；B錯(cuò)誤：氯氣純度下降主因是鹽水雜質(zhì)過(guò)多，需加強(qiáng)精制而非調(diào)節(jié)pH。6.合成氨工藝中，可能導(dǎo)致廢熱鍋爐爆管的原因有：【選項(xiàng)】A.鍋爐水質(zhì)硬度超標(biāo)B.蒸汽壓力波動(dòng)超過(guò)±0.2MPaC.爐管結(jié)垢厚度＞1.5mmD.煙氣溫度長(zhǎng)期高于設(shè)計(jì)值50℃【參考答案】A、C、D【解析】A正確：硬水導(dǎo)致結(jié)垢加速傳熱惡化；C正確：結(jié)垢過(guò)厚引發(fā)局部過(guò)熱；D正確：超溫運(yùn)行降低材料強(qiáng)度；B錯(cuò)誤：±0.2MPa屬正常操作范圍。7.關(guān)于氯堿電解工藝中事故氯處理系統(tǒng)的設(shè)計(jì)要求，正確的有：【選項(xiàng)】A.吸收塔采用兩級(jí)NaOH噴淋B.事故氯風(fēng)機(jī)需配置備機(jī)并自動(dòng)切換C.氯氣檢測(cè)報(bào)警值設(shè)定為1ppmD.吸收液循環(huán)泵應(yīng)選用鈦材制造【參考答案】A、B、D【解析】A正確：兩級(jí)吸收確保處理效率；B正確：備機(jī)保障系統(tǒng)可靠性；D正確：鈦材耐Cl?腐蝕；C錯(cuò)誤：報(bào)警值應(yīng)為0.5ppm（GBZ2.1規(guī)定）。8.合成氨原料氣脫硫工序中，影響栲膠法脫硫效率的因素包括：【選項(xiàng)】A.溶液pH值維持在8.2-8.8B.再生空氣量與溶液循環(huán)量比值＞5:1C.脫硫塔空塔氣速控制在0.5-0.8m/sD.Na?CO?濃度保持在20-25g/L【參考答案】A、B、C【解析】A正確：弱堿性環(huán)境利于硫氫根氧化；B正確：充足空氣保證再生反應(yīng)完全；C正確：合適氣速保障氣液傳質(zhì)；D錯(cuò)誤：Na?CO?濃度應(yīng)為5-8g/L（工藝標(biāo)準(zhǔn)）。9.在氯堿電解工藝中，關(guān)于鹽水精制工序的操作要求，正確的有：【選項(xiàng)】A.化鹽用水溫度需保持50-60℃B.硫酸根濃度超標(biāo)時(shí)加入氯化鋇處理C.過(guò)濾精度應(yīng)達(dá)到SS≤1mg/LD.精鹽水pH值調(diào)節(jié)到10-11【參考答案】A、B、C、D【解析】A正確：升溫可加速鹽溶解；B正確：BaCl?與SO?2?生成BaSO?沉淀；C正確：高精度過(guò)濾保護(hù)離子膜；D正確：堿性環(huán)境防止Ca2?、Mg2?沉淀。10.合成氨裝置停車(chē)檢修時(shí)，需重點(diǎn)實(shí)施的隔離措施包括：【選項(xiàng)】A.與運(yùn)行系統(tǒng)連接的管道加裝盲板B.氮?dú)庵脫Q至氧含量＜0.5%C.催化劑床層溫度降至40℃以下D.轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)備電源懸掛“禁止合閘”標(biāo)牌【參考答案】A、B、D【解析】A正確：物理隔離是最可靠措施；B正確：惰化防爆；D正確：電氣隔離防誤啟動(dòng)；C錯(cuò)誤：催化劑降溫至80℃即可滿足檢修要求（GB30871規(guī)定）。11.在氯堿電解工藝中，下列關(guān)于離子膜電解槽運(yùn)行操作的描述，正確的有哪幾項(xiàng)？【選項(xiàng)】A.電解槽啟動(dòng)前需進(jìn)行氮?dú)庵脫Q以降低氧氣濃度B.陰極液（NaOH溶液）濃度持續(xù)升高時(shí)應(yīng)及時(shí)補(bǔ)充純水C.陽(yáng)極室產(chǎn)生的氯氣需控制壓力在微正壓范圍內(nèi)D.離子膜破損時(shí)應(yīng)立即停機(jī)并隔離泄漏槽體E.電解槽電壓異常波動(dòng)可通過(guò)調(diào)整極間距實(shí)時(shí)修正【參考答案】B、C、D【解析】A錯(cuò)誤，電解槽啟動(dòng)前置換目的是排除空氣（尤其是氧氣），但通常使用氮?dú)庵脫Q的目標(biāo)是降低氫氣爆炸風(fēng)險(xiǎn)，而非專(zhuān)門(mén)針對(duì)氧氣。B正確，陰極液濃度升高說(shuō)明水分被電解消耗，需補(bǔ)充純水維持濃度平衡。C正確，氯氣壓力微正壓可防止空氣倒灌引發(fā)爆炸，同時(shí)避免負(fù)壓導(dǎo)致泄漏。D正確，離子膜破損會(huì)導(dǎo)致氫氯混合氣體生成爆炸風(fēng)險(xiǎn)，需緊急停機(jī)隔離。E錯(cuò)誤，極間距在運(yùn)行中不可實(shí)時(shí)調(diào)整，電壓異常需排查其他原因（如電極腐蝕、膜污染等）。12.合成氨工藝中，原料氣脫硫工序的操作要點(diǎn)包括哪些？【選項(xiàng)】A.濕法脫硫宜采用碳酸鈉溶液吸收H?SB.干法脫硫劑（如氧化鋅）可再生使用C.脫硫后氣體中H?S含量需低于1ppmD.脫硫塔溫度應(yīng)控制在40-60℃以優(yōu)化反應(yīng)速率E.原料氣中COS（羰基硫）可通過(guò)水解轉(zhuǎn)化為H?S后再脫除【參考答案】A、C、E【解析】A正確，碳酸鈉溶液為濕法脫硫常用吸收劑。B錯(cuò)誤，氧化鋅脫硫劑為化學(xué)吸附，不可再生。C正確，合成氨催化劑對(duì)硫敏感，要求H?S<1ppm。D錯(cuò)誤，濕法脫硫溫度通常低于40℃（如ADA法約30℃），高溫會(huì)降低吸收效率。E正確，COS需先水解為H?S才能被常規(guī)脫硫劑有效去除。13.氯堿電解工藝中，可導(dǎo)致氫氣系統(tǒng)爆炸風(fēng)險(xiǎn)的操作隱患包括？【選項(xiàng)】A.氫氣管道法蘭未使用防靜電跨接B.氫氣排空管未設(shè)置阻火器C.電解槽陰極室液位低于安全限值D.氫氣壓縮機(jī)密封液采用普通潤(rùn)滑油E.氫氣純度檢測(cè)儀半年未校準(zhǔn)【參考答案】A、B、C、D【解析】A正確，靜電積聚可能引發(fā)氫氣爆炸。B正確，阻火器缺失可能使外部火源引燃排放氣。C正確，液位過(guò)低可能導(dǎo)致氫氣竄入電解液系統(tǒng)。D正確，普通潤(rùn)滑油與氫氣接觸可能自燃。E錯(cuò)誤，檢測(cè)儀校準(zhǔn)周期通常為1年，非直接爆炸隱患。14.關(guān)于合成氨工藝中甲烷化反應(yīng)的操作要求，正確的有？【選項(xiàng)】A.入口CO+CO?含量需控制在0.5%以下B.催化劑活性組分主要為NiOC.反應(yīng)溫度不得超過(guò)350℃以防催化劑燒結(jié)D.停車(chē)時(shí)需用氮?dú)獗悍乐勾呋瘎┭趸疎.循環(huán)氣中甲烷含量升高會(huì)抑制反應(yīng)速率【參考答案】A、B、C、D【解析】A正確，過(guò)量CO會(huì)導(dǎo)致催化劑超溫失活。B正確，甲烷化催化劑以NiO為主活性組分。C正確，高溫會(huì)破壞催化劑結(jié)構(gòu)。D正確，暴露于空氣中Ni會(huì)被氧化失效。E錯(cuò)誤，甲烷為產(chǎn)物，其濃度對(duì)反應(yīng)速率無(wú)顯著影響。15.氯堿電解工藝中，下列關(guān)于螯合樹(shù)脂塔再生的描述，錯(cuò)誤的有？【選項(xiàng)】A.再生時(shí)需先用純水反向沖洗以去除固體雜質(zhì)B.鹽酸再生液濃度宜控制在5-10%C.再生廢水可直接排入廠區(qū)酸堿中和池D.再生后需用鹽水置換至出水pH接近中性E.鐵離子超標(biāo)時(shí)應(yīng)增加再生液用量【參考答案】C、E【解析】A正確，反洗是再生必要步驟。B正確，5-10%鹽酸為通用濃度。C錯(cuò)誤，再生廢水含重金屬（如Ca2?、Mg2?）需單獨(dú)處理。D正確，pH中性可防止破壞后續(xù)電解槽離子膜。E錯(cuò)誤，鐵離子超標(biāo)需更換樹(shù)脂或檢查設(shè)備腐蝕。16.合成氨裝置中，氨合成塔觸媒升溫還原的關(guān)鍵控制參數(shù)包括？【選項(xiàng)】A.升溫速率不超過(guò)25℃/hB.還原后期適當(dāng)提高空速以帶出水分C.氫氮比維持在2.8-3.2之間D.出水濃度需低于1000ppm時(shí)方可提溫E.還原壓力控制在5-10MPa【參考答案】A、B、D【解析】A正確，過(guò)快升溫會(huì)導(dǎo)致催化劑破碎。B正確，高空速可加速水汽移出防止反復(fù)氧化。C錯(cuò)誤，還原階段氫氮比需>3（通常純氫還原）。D正確，高水汽濃度會(huì)引發(fā)反復(fù)氧化還原反應(yīng)。E錯(cuò)誤，還原壓力通常低于操作壓力（如2-5MPa）。17.關(guān)于氯堿電解工藝中淡鹽水脫氯處理，符合規(guī)范的操作是？【選項(xiàng)】A.真空脫氯塔壓力維持-50kPa至-70kPaB.化學(xué)脫氯時(shí)亞硫酸鈉需過(guò)量5-10ppmC.脫氯后鹽水游離氯含量應(yīng)≤0.1ppmD.真空脫氯后的廢氣可直接排放至大氣E.溫度升高至80℃可提升真空脫氯效率【參考答案】A、B、C【解析】A正確，負(fù)壓環(huán)境利于氯氣解析。B正確，過(guò)量亞硫酸鈉確保完全反應(yīng)。C正確，避免殘留氯腐蝕后續(xù)設(shè)備。D錯(cuò)誤，廢氣含微量氯需經(jīng)過(guò)吸收處理。E錯(cuò)誤，最佳脫氯溫度為60-70℃。18.合成氨變換工段中易導(dǎo)致催化劑中毒的物質(zhì)包括？【選項(xiàng)】A.原料氣中夾帶的油污B.脫硫工序殘留的H?SC.蒸汽所含的Cl?D.設(shè)備腐蝕生成的Fe(CO)?E.工藝氣中的CO?【參考答案】A、B、C、D【解析】A正確，油污覆蓋催化劑表面使其失活。B正確，H?S與催化劑活性組分Fe反應(yīng)。C正確，Cl?會(huì)引起催化劑結(jié)構(gòu)破壞。D正確，F(xiàn)e(CO)?分解導(dǎo)致催化劑積鐵。E錯(cuò)誤，CO?為反應(yīng)物，非毒物。19.氯堿電解工藝停車(chē)檢修時(shí)，必須執(zhí)行的安全措施有？【選項(xiàng)】A.電解槽斷電后需對(duì)母線短接放電B.氫氣系統(tǒng)用氮?dú)庵脫Q至含氧量<3%C.氯氣總管使用盲板隔離D.離子膜需用pH=2的鹽酸溶液浸泡保存E.所有法蘭連接處加裝絕緣套管【參考答案】A、B、C【解析】A正確，殘余電荷可能引發(fā)觸電或火花。B正確，防止氫氣系統(tǒng)形成爆炸性混合物。C正確，避免氯氣泄漏危害。D錯(cuò)誤，離子膜應(yīng)浸泡在堿性溶液（如4%NaOH）中。E錯(cuò)誤，僅在帶電運(yùn)行時(shí)需法蘭絕緣。20.合成氨工藝中，可能引起合成氣壓縮機(jī)喘振的原因包括？【選項(xiàng)】A.入口過(guò)濾器壓差過(guò)大B.循環(huán)氣氫氮比突然升高至4.0C.防喘振閥門(mén)意外關(guān)閉D.出口壓力傳感器零點(diǎn)漂移E.段間冷卻器換熱效率下降【參考答案】A、C、D、E【解析】A正確，入口流量不足可能引發(fā)喘振。B錯(cuò)誤，氫氮比升高降低氣體分子量，反而不易喘振。C正確，防喘振閥關(guān)閉失去流量調(diào)節(jié)能力。D正確，壓力信號(hào)失真會(huì)導(dǎo)致控制紊亂。E正確，冷卻不足會(huì)使壓縮機(jī)出口溫度壓力異常。21.在合成氨工藝中，關(guān)于催化劑使用的注意事項(xiàng)，以下說(shuō)法正確的有：【選項(xiàng)】A.鐵系催化劑中毒后可通過(guò)高溫再生恢復(fù)活性B.催化劑升溫階段需嚴(yán)格控制溫度在120℃/h以下C.硫、磷、砷化合物會(huì)導(dǎo)致催化劑永久性失活D.催化劑鈍化時(shí)需用純氮?dú)馓娲に嚉膺M(jìn)行降溫【參考答案】BCD【解析】1.鐵系催化劑中毒后無(wú)法通過(guò)簡(jiǎn)單再生恢復(fù)活性（A錯(cuò)誤），通常需更換；2.升溫速率過(guò)快會(huì)導(dǎo)致催化劑粉化，行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)要求≤120℃/h（B正確）；3.硫磷砷等毒物與活性組分形成穩(wěn)定化合物，造成不可逆失活（C正確）；4.鈍化階段用惰性氣體置換防止高溫活性金屬氧化燃燒（D正確）。22.氯堿電解工藝中，預(yù)防濕氯氣腐蝕的正確措施包括：【選項(xiàng)】A.采用鈦鋼復(fù)合板作為電解槽陽(yáng)極室材質(zhì)B.氯氣總管溫度控制在85-90℃避免結(jié)露C.干燥塔前設(shè)置石墨冷卻器降低氯氣含水率D.定期檢測(cè)碳鋼管道壁厚并做陰極保護(hù)【參考答案】ABC【解析】1.鈦材在濕氯氣環(huán)境中形成致密氧化膜防腐蝕（A正確）；2.85-90℃可維持氯氣露點(diǎn)以上防止液態(tài)水析出（B正確）；3.石墨冷卻器耐腐蝕且能有效除水（C正確）；4.碳鋼不適用于濕氯氣環(huán)境，必須采用襯里或全鈦材質(zhì)（D錯(cuò)誤）。23.下列合成氨工藝參數(shù)偏離可能引發(fā)爆炸的是：【選項(xiàng)】A.氨合成塔入口氫氮比持續(xù)＞3.5B.循環(huán)氣中甲烷含量驟降至8%C.壓縮機(jī)二段出口溫度達(dá)到180℃D.氨分離器液位低于安全聯(lián)鎖值【參考答案】ABD【解析】1.氫氮比過(guò)高會(huì)導(dǎo)致反應(yīng)區(qū)溫度劇烈波動(dòng)（A正確）；2.甲烷是惰性氣體，含量降低使系統(tǒng)壓力劇增（B正確）；3.壓縮機(jī)溫度超標(biāo)屬設(shè)備故障，但非直接爆炸誘因（C錯(cuò)誤）；4.液位過(guò)低可能造成氣體竄入液氨儲(chǔ)罐形成爆炸混合物（D正確）。24.氯堿電解槽發(fā)生氫氣泄漏時(shí)，應(yīng)急處置措施正確的有：【選項(xiàng)】A.立即用霧狀水稀釋泄漏區(qū)域氫氣濃度B.切斷整流器電源并關(guān)閉氫氣總管閥門(mén)C.使用銅制工具防止操作中產(chǎn)生火花D.啟動(dòng)應(yīng)急排風(fēng)機(jī)向上風(fēng)口方向稀釋【參考答案】ABD【解析】1.霧狀水可加速氫氣擴(kuò)散防止積聚（A正確）；2.切斷電源避免火花，關(guān)閉閥門(mén)阻斷氣源（B正確）；3.銅制工具仍可能因碰撞產(chǎn)生火花（應(yīng)使用防爆工具）（C錯(cuò)誤）；4.向上風(fēng)口排風(fēng)符合氫氣輕于空氣的特性（D正確）。25.關(guān)于合成氨轉(zhuǎn)化爐的操作要求，正確的是：【選項(xiàng)】A.開(kāi)車(chē)時(shí)先點(diǎn)火后通原料氣防止爆鳴B.水碳比低于2.5時(shí)需緊急補(bǔ)入蒸汽C.轉(zhuǎn)化管壁溫超過(guò)950℃需降低負(fù)荷D.正常停爐后應(yīng)立即用氮?dú)庵脫Q系統(tǒng)【參考答案】BCD【解析】1.必須先通原料氣再點(diǎn)火，避免空氣殘留形成爆炸混合物（A錯(cuò)誤）；2.水碳比過(guò)低會(huì)導(dǎo)致析碳反應(yīng)損壞催化劑（B正確）；3.超溫會(huì)加速材料蠕變損壞爐管（C正確）；4.停車(chē)后置換防止殘余氫氣形成爆炸環(huán)境（D正確）。26.下列氯堿電解工藝聯(lián)鎖設(shè)置合理的有：【選項(xiàng)】A.電解槽溫差＞5℃聯(lián)鎖跳停整流器B.氯氣總管壓力＞5kPa啟動(dòng)備用抽風(fēng)機(jī)C.氫氣純度＜98%聯(lián)鎖關(guān)閉氫氣出口閥D.堿液循環(huán)泵停運(yùn)聯(lián)鎖切斷進(jìn)槽鹽水【參考答案】ABD【解析】1.溫差超限表明離子膜可能破損（A正確）；2.正壓保護(hù)防止氯氣外泄（B正確）；3.氫氣純度低應(yīng)啟動(dòng)放空而非直接關(guān)閥（C錯(cuò)誤）；4.停泵時(shí)斷鹽水避免濃度失衡（D正確）。27.合成氨裝置冷箱操作中易導(dǎo)致凍堵的情況有：【選項(xiàng)】A.原料氣CO?含量超過(guò)15ppmB.分子篩再生溫度不足220℃C.膨脹機(jī)出口溫度降至-180℃D.換熱器甲烷含量監(jiān)測(cè)失效【參考答案】AB【解析】1.CO?在低溫下凝固造成管道堵塞（A正確）；2.再生不徹底使水分帶入低溫系統(tǒng)結(jié)冰（B正確）；3.-180℃是正常操作溫度下限（C錯(cuò)誤）；4.甲烷含量監(jiān)測(cè)與凍堵無(wú)直接關(guān)聯(lián)（D錯(cuò)誤）。28.氯堿電解工藝中提升電流效率的措施包括：【選項(xiàng)】A.維持電解液NaOH濃度32-33%B.控制鹽水SO?2?含量＜5g/LC.采用擴(kuò)張陽(yáng)極減少氣泡效應(yīng)D.提高電解溫度至95℃以上【參考答案】ABC【解析】1.濃度過(guò)高會(huì)增加氧過(guò)電位降低效率（A正確）；2.硫酸根離子加劇陽(yáng)極腐蝕產(chǎn)生沉淀（B正確）；3.擴(kuò)張陽(yáng)極減小極距降低電壓（C正確）；4.溫度過(guò)高加速膜老化，最佳溫度為85-90℃（D錯(cuò)誤）。29.合成氨造氣工段需監(jiān)控的關(guān)鍵參數(shù)有：【選項(xiàng)】A.半水煤氣中O?含量≤0.5%B.廢熱鍋爐汽包液位三沖量控制C.煤鎖泄壓時(shí)間不少于90秒D.灰渣含碳量維持在15-20%【參考答案】ABC【解析】1.氧含量超標(biāo)會(huì)形成爆炸混合物（A正確）；2.汽包液位需綜合給水/蒸汽/液位參數(shù)控制（B正確）；3.泄壓過(guò)快會(huì)導(dǎo)致煤粉夾帶（C正確）；4.灰渣含碳量應(yīng)＜10%，過(guò)高說(shuō)明燃燒不完全（D錯(cuò)誤）。30.關(guān)于氯氣處理工序的操作規(guī)范，正確的是：【選項(xiàng)】A.泡沫干燥塔硫酸濃度低于75%時(shí)更換B.尾氣吸收塔保持pH值在9-10范圍C.氯氣壓縮機(jī)出口設(shè)置鈦材冷卻器D.每周檢測(cè)納氏泵硫酸含氯量【參考答案】BCD【解析】1.干燥硫酸濃度應(yīng)≥96%，75%已失效（A錯(cuò)誤）；2.堿性環(huán)境確保氯氣被完全吸收（B正確）；3.鈦材耐濕氯氣腐蝕（C正確）；4.監(jiān)測(cè)硫酸含氯可判斷納氏泵密封狀況（D正確）。31.在合成氨工藝中，原料氣的凈化過(guò)程包括以下哪些關(guān)鍵步驟？【選項(xiàng)】A.脫硫以消除催化劑毒物B.脫碳降低二氧化碳含量C.脫氧防止設(shè)備腐蝕D.脫氮提升氫氮比例【參考答案】AB【解析】1.脫硫是原料氣凈化的核心步驟，硫化氫等硫化物會(huì)導(dǎo)致合成氨催化劑（如鐵系催化劑）中毒失效，故A正確。2.脫碳可降低CO?含量，避免后續(xù)工段中氨合成反應(yīng)效率降低（CO?會(huì)與氨生成氨基甲酸銨堵塞管道），故B正確。3.合成氨原料氣本身含微量氧氣，無(wú)需專(zhuān)門(mén)脫氧工序；脫氮為干擾項(xiàng)，氮?dú)馐呛铣砂钡谋匾?，故C、D錯(cuò)誤。32.氯堿電解工藝中，電解槽操作時(shí)需嚴(yán)格控制哪些參數(shù)以保證安全？【選項(xiàng)】A.電解槽電流密度B.陰陽(yáng)極液位差C.鹽水進(jìn)口溫度D.氫氣純度【參考答案】ABC【解析】1.電流密度過(guò)高可能導(dǎo)致局部過(guò)熱引發(fā)爆炸，故A正確。2.液位差失衡會(huì)使氯氣與氫氣混合（爆炸極限為5%~95%），故B正確。3.鹽水溫度影響電解效率及隔膜壽命，溫度過(guò)高易造成設(shè)備變形，故C正確。4.氫氣純度需監(jiān)控但非電解槽直接操作參數(shù)，屬后續(xù)處理內(nèi)容，故D不選。33.合成氨工藝中可能導(dǎo)致透平壓縮機(jī)聯(lián)鎖停車(chē)的情形包括？【選項(xiàng)】A.潤(rùn)滑油壓力低于0.15MPaB.軸位移超過(guò)0.5mmC.進(jìn)氣溫度高于40℃D.出口壓力波動(dòng)±5%【參考答案】AB【解析】1.油壓過(guò)低會(huì)導(dǎo)致軸承潤(rùn)滑失效引發(fā)燒軸，通常聯(lián)鎖值設(shè)為0.15MPa，故A正確。2.軸位移超標(biāo)表明轉(zhuǎn)子異常摩擦，聯(lián)鎖值一般為0.5mm，故B正確。3.進(jìn)氣溫度40℃為正常范圍（通常允許≤45℃），故C錯(cuò)誤。4.出口壓力波動(dòng)±5%屬常規(guī)可控范圍，無(wú)需聯(lián)鎖停車(chē)，故D錯(cuò)誤。34.氯堿電解工藝中，氫氣處理系統(tǒng)的安全措施包括？【選項(xiàng)】A.氫氣總管設(shè)置阻火器B.系統(tǒng)保持微正壓防空氣倒灌C.定期檢測(cè)氫氣中含氧量≤0.5%D.使用鐵質(zhì)工具避免靜電【參考答案】ABC【解析】1.阻火器可阻斷回火，是氫氣管道必備安全裝置，故A正確。2.微正壓可防止空氣混入形成爆炸性氣體，故B正確。3.氫氣中氧含量＞0.5%即達(dá)爆炸臨界值，需實(shí)時(shí)監(jiān)控，故C正確。4.鐵質(zhì)工具碰撞易產(chǎn)生火花，應(yīng)使用銅制防爆工具，故D錯(cuò)誤。35.合成氨裝置緊急停車(chē)時(shí)，必須優(yōu)先執(zhí)行的操作是？【選項(xiàng)】A.切斷原料氣供應(yīng)B.啟動(dòng)氮?dú)庵脫Q系統(tǒng)C.關(guān)閉合成塔升溫閥D.停運(yùn)循環(huán)壓縮機(jī)【參考答案】AC【解析】1.切斷原料氣可阻止反應(yīng)持續(xù)放熱，避免超溫超壓，故A正確。2.關(guān)閉合成塔升溫閥能迅速終止反應(yīng)熱量來(lái)源，故C正確。3.氮?dú)庵脫Q用于后續(xù)保護(hù)，非第一時(shí)間操作；循環(huán)壓縮機(jī)停車(chē)可能導(dǎo)致設(shè)備損壞，故B、D不選。三、判斷題（共30題）1.合成氨工藝中，變換工段的主要目的是將一氧化碳轉(zhuǎn)換為二氧化碳，并產(chǎn)生氫氣，以提高合成氨的原料氣中氫氣的純度。【選項(xiàng)】正確/錯(cuò)誤【參考答案】正確【解析】變換工段通過(guò)水煤氣變換反應(yīng)（CO+H?O→CO?+H?），將一氧化碳轉(zhuǎn)化為二氧化碳并生成氫氣，既提高了合成氨所需氫氣的比例，又降低了后續(xù)工段中一氧化碳對(duì)催化劑的毒害作用。2.氯堿電解工藝中，離子膜法電解槽的陽(yáng)極材料通常采用鈦基涂釕涂層，因其耐腐蝕性和導(dǎo)電性優(yōu)異。【選項(xiàng)】正確/錯(cuò)誤【參考答案】正確【解析】鈦基金屬涂覆釕氧化物（DSA陽(yáng)極）可抵抗電解環(huán)境中高濃度氯離子和酸性條件的腐蝕，同時(shí)提供高電流效率，是離子膜電解槽的標(biāo)準(zhǔn)陽(yáng)極材料。3.合成氨工藝中，低溫甲醇洗單元的作用是脫除原料氣中的硫化氫和二氧化碳，但無(wú)法去除羰基硫化物?！具x項(xiàng)】正確/錯(cuò)誤【參考答案】錯(cuò)誤【解析】低溫甲醇洗能同時(shí)脫除H?S、CO?及有機(jī)硫（如羰基硫），因其對(duì)硫化物和酸性氣體具有高物理溶解性，是凈化工藝的關(guān)鍵步驟。4.氯堿電解工藝中，電解液氫氧化鈉的濃度過(guò)高會(huì)導(dǎo)致離子膜脫水收縮，降低膜的電導(dǎo)率和使用壽命?！具x項(xiàng)】正確/錯(cuò)誤【參考答案】正確【解析】氫氧化鈉濃度超過(guò)35%時(shí)會(huì)使離子膜內(nèi)的水分外滲，導(dǎo)致膜結(jié)構(gòu)塌陷、電阻增大，嚴(yán)重時(shí)引發(fā)膜穿孔，因此需嚴(yán)格控制陰極液濃度。5.合成氨工藝的壓縮機(jī)潤(rùn)滑油系統(tǒng)若混入合成氣，可能引發(fā)潤(rùn)滑油閃點(diǎn)下降，導(dǎo)致爆炸風(fēng)險(xiǎn)?！具x項(xiàng)】正確/錯(cuò)誤【參考答案】正確【解析】合成氣中的輕烴類(lèi)組分易溶解于潤(rùn)滑油中，顯著降低潤(rùn)滑油的閃點(diǎn)，在高溫或摩擦條件下可能引發(fā)燃燒或爆炸。6.氯堿電解工藝中，為減少氯氣中的氧氣含量，可采取升高電解槽溫度的措施?！具x項(xiàng)】正確/錯(cuò)誤【參考答案】錯(cuò)誤【解析】電解槽溫度升高會(huì)加劇氯氣與水的副反應(yīng)（Cl?+H?O→HCl+HOCl），增加氧氣含量。實(shí)際生產(chǎn)中需控制溫度在85-90℃以抑制副反應(yīng)。7.合成氨的氨合成塔催化劑初期活性高，宜采用較低的操作壓力以提高氨凈值?！具x項(xiàng)】正確/錯(cuò)誤【參考答案】錯(cuò)誤【解析】催化劑初期活性強(qiáng)，應(yīng)選擇較高壓力（如20-30MPa）以提升反應(yīng)平衡轉(zhuǎn)化率。低壓操作會(huì)降低氨合成效率，不符合經(jīng)濟(jì)性要求。8.氯堿電解工藝中，鹽水中硫酸根離子濃度超標(biāo)會(huì)加速陽(yáng)極涂層腐蝕，需通過(guò)氯化鋇法沉淀去除?！具x項(xiàng)】正確/錯(cuò)誤【參考答案】正確【解析】硫酸根在電解過(guò)程中與氯離子競(jìng)爭(zhēng)放電，生成氧氣腐蝕陽(yáng)極；加入氯化鋇可生成硫酸鋇沉淀（Ba2?+SO?2?→BaSO?↓），保護(hù)電極。9.合成氨工藝的甲烷化工段中，殘余的一氧化碳和二氧化碳通過(guò)加氫反應(yīng)生成甲烷，以保護(hù)氨合成催化劑?！具x項(xiàng)】正確/錯(cuò)誤【參考答案】正確【解析】甲烷化反應(yīng)（CO+3H?→CH?+H?O；CO?+4H?→CH?+2H?O）可將微量CO/CO?降至1ppm以下，防止其對(duì)鐵基催化劑造成不可逆中毒。10.氯堿電解工藝中，氫氣處理系統(tǒng)需保持微正壓操作，防止空氣滲入形成爆炸性混合氣體?！具x項(xiàng)】正確/錯(cuò)誤【參考答案】正確【解析】氫氣爆炸極限寬（4%-75%），微正壓（如50-200Pa）可避免空氣倒流，確保氫氣純度＞99.9%，從而消除燃爆風(fēng)險(xiǎn)。11.1.在氯堿電解工藝中，電解槽的陰、陽(yáng)極室必須采用防腐絕緣材料隔開(kāi)，以免發(fā)生短路事故?！具x項(xiàng)】A.正確B.錯(cuò)誤【參考答案】A【解析】電解槽是氯堿電解的核心設(shè)備，陰、陽(yáng)極室需通過(guò)隔膜或離子膜分隔，防止陰陽(yáng)極直接接觸導(dǎo)致短路。絕緣防腐材料可避免電流泄露和設(shè)備腐蝕，符合工藝安全要求。12.2.合成氨工藝中，壓縮機(jī)入口設(shè)置的緊急切斷閥可在系統(tǒng)壓力異常時(shí)自動(dòng)關(guān)閉，屬于安全聯(lián)鎖裝置范疇?！具x項(xiàng)】A.正確B.錯(cuò)誤【參考答案】A【解析】合成氨高壓系統(tǒng)需配置安全聯(lián)鎖裝置，緊急切斷閥在超壓、超溫等異常工況下自動(dòng)響應(yīng)，切斷介質(zhì)輸入，是聯(lián)鎖系統(tǒng)的關(guān)鍵組成部分。13.3.氯堿電解工藝中，電解槽泄漏的堿液可直接用大量清水沖洗稀釋處理。【選項(xiàng)】A.正確B.錯(cuò)誤【參考答案】B【解析】堿液泄漏會(huì)產(chǎn)生放熱反應(yīng)，直接沖水可能引發(fā)飛濺灼傷。正確操作應(yīng)為先中和（如用稀醋酸）再?zèng)_洗，并穿戴防護(hù)用品。14.4.合成氨變換工序中，一氧化碳與蒸汽的反應(yīng)需控制在低溫條件（150~250℃）以提高轉(zhuǎn)化率。【選項(xiàng)】A.正確B.錯(cuò)誤【參考答案】B【解析】變換反應(yīng)為放熱反應(yīng)，低溫雖有利于平衡但會(huì)降低反應(yīng)速率。實(shí)際生產(chǎn)中采用中溫變換（300~500℃）配合催化劑以保證效率。15.5.氯堿電解車(chē)間氫氣管道需設(shè)置阻火器和氮?dú)饷芊庀到y(tǒng)，主要目的是防止倒流和靜電積聚。【選項(xiàng)】A.正確B.錯(cuò)誤【參考答案】A【解析】氫氣易燃易爆，阻火器阻止回火，氮?dú)饷芊獗苊饪諝膺M(jìn)入管道形成爆炸性混合物，二者均為氫氣系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)防護(hù)措施。16.6.合成氨工藝中，液氨儲(chǔ)罐的安全閥起跳壓力應(yīng)設(shè)定為設(shè)計(jì)壓力的1.1倍?！具x項(xiàng)】A.正確B.錯(cuò)誤【參考答案】B【解析】根據(jù)《固定式壓力容器安全技術(shù)監(jiān)察規(guī)程》，安全閥整定壓力不得高于設(shè)計(jì)壓力，通常為設(shè)計(jì)壓力的1.05~1.1倍，但1.1倍已超出允許范圍（≤1.05倍）。17.7.氯堿電解工藝中，電解液（NaCl溶液）濃度過(guò)低會(huì)導(dǎo)致氯氣純度下降和陽(yáng)極腐蝕加劇?！具x項(xiàng)】A.正確B.錯(cuò)誤【參考答案】A【解析】低濃度電解液增加OH?向陽(yáng)極遷移概率，副反應(yīng)生成次氯酸鹽和氧氣，降低氯氣純度并腐蝕電極，濃度通常需維持在280~310g/L。18.8.合成氨轉(zhuǎn)化爐點(diǎn)火前必須進(jìn)行可燃?xì)怏w濃度檢測(cè)，濃度低于爆炸下限（LEL）的10%方可操作。【選項(xiàng)】A.正確B.錯(cuò)誤【參考答案】B【解析】點(diǎn)火前可燃?xì)怏w濃度應(yīng)≤LEL的20%（多數(shù)企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)為5%~10%），但10%為操作上限值，若檢測(cè)結(jié)果達(dá)到10%需繼續(xù)通風(fēng)直至降至5%以下。19.9.氯堿電解工藝中，直流供電系統(tǒng)接地故障可能引發(fā)雜散電流腐蝕，需定期檢測(cè)接地電阻。【選項(xiàng)】A.正確B.錯(cuò)誤【參考答案】A【解析】雜散電流會(huì)導(dǎo)致金屬設(shè)備電化學(xué)腐蝕，接地電阻應(yīng)≤1Ω（GB50057要求），每季度檢測(cè)一次并確保接地網(wǎng)完好。20.10.合成氨冷凍單元液氨儲(chǔ)罐充裝量不得超過(guò)容積的85%，以防止溫度升高導(dǎo)致超壓。【選項(xiàng)】A.正確B.錯(cuò)誤【參考答案】A【解析】液氨膨脹系數(shù)大，85%的充裝限值（TSG23規(guī)定）可為氣相提供緩沖空間，避免因熱膨脹引發(fā)物理爆炸。（注：《特種設(shè)備安全技術(shù)規(guī)范》為法定依據(jù)）21.1.在合成氨工藝中，鐵作為催化劑的主要成分時(shí)，催化劑通常還含有氧化鋁和氧化鉀作為助催化劑以提高活性?！具x項(xiàng)】○正確○錯(cuò)誤【參考答案】正確【解析】合成氨催化劑的活性組分是鐵，加入氧化鋁可形成多孔結(jié)構(gòu)增加表面積，氧化鉀能降低電子逸出功促進(jìn)反應(yīng)。真題?？贾呋瘎┑膮f(xié)同作用，易混淆點(diǎn)在于認(rèn)為助催化劑是"額外成分"而非必要。2.氯堿電解工藝中，離子交換膜法電解槽使用的陽(yáng)離子交換膜僅允許Na?通過(guò)，而阻止Cl?和OH?遷移?！具x項(xiàng)】○正確○錯(cuò)誤【參考答案】錯(cuò)誤【解析】陽(yáng)離子交換膜選擇性地允許陽(yáng)離子（如Na?）透過(guò)，但Cl?也可能因濃差擴(kuò)散少量透過(guò)。核心考點(diǎn)是膜的選擇性原理，易錯(cuò)點(diǎn)在于認(rèn)為膜對(duì)陰離子"完全阻隔"。真題強(qiáng)調(diào)膜性能的"相對(duì)選擇性"。3.合成氨反應(yīng)的原料氣中，CO?會(huì)導(dǎo)致催化劑暫時(shí)性中毒，因此必須通過(guò)脫碳工序徹底清除?！具x項(xiàng)】○正確○錯(cuò)誤【參考答案】正確【解析】CO?與催化劑中鐵生成FeCO?使其失活，屬可逆中毒。脫碳工序需控制CO?<10ppm（真題閾值）。難點(diǎn)在于區(qū)分"暫時(shí)性中毒"（CO?）與"永久性中毒"（硫化物）。4.氯堿電解工藝中，電解槽陽(yáng)極室產(chǎn)生的是氫氣，陰極室產(chǎn)生氯氣和氫氧化鈉溶液?！具x項(xiàng)】○正確○錯(cuò)誤【參考答案】錯(cuò)誤【解析】陽(yáng)極發(fā)生氧化反應(yīng)生成Cl?，陰極生成H?和NaOH。高頻易錯(cuò)點(diǎn)：混淆陰陽(yáng)極產(chǎn)物。真題常結(jié)合電極反應(yīng)式2Cl?→Cl?+2e?（陽(yáng)極）考查。5.合成氨反應(yīng)為放熱反應(yīng)，工業(yè)上采用500℃高溫的主要目的是提高反應(yīng)速率，而非平衡轉(zhuǎn)化率。【選項(xiàng)】○正確○錯(cuò)誤【參考答案】正確【解析】高溫有利于動(dòng)力學(xué)速率但不利于熱力學(xué)平衡（勒夏特列原理）。真題核心考點(diǎn)：實(shí)際生產(chǎn)需權(quán)衡反應(yīng)速率（催化劑活性溫度）與轉(zhuǎn)化率（通過(guò)分離產(chǎn)物提高收率）。6.氯堿電解的鹽水精制工序中，鈣鎂離子濃度需降至1mg/L以下，否則會(huì)在電解槽中形成沉淀堵塞離子膜?！具x項(xiàng)】○正確○錯(cuò)誤【參考答案】錯(cuò)誤【解析】實(shí)際工藝要求鈣鎂總量≤20ppb（0.02mg/L）。