演講人：日期:陶瓷制作工序流程CATALOGUE目錄01原料準備02坯體成型03干燥處理04裝飾工藝05高溫燒成06后期處理01原料準備選礦與配料高嶺土篩選功能性添加劑多元礦物配比通過物理或化學方法剔除雜質(zhì)，確保原料純度高、可塑性強，滿足不同陶瓷產(chǎn)品的成型需求。根據(jù)陶瓷類型（如日用瓷、建筑瓷）科學調(diào)配石英、長石、黏土等成分，優(yōu)化燒成后的強度與光澤度。引入膨潤土或減水劑等改善泥料流動性，提升后續(xù)成型階段的效率與成品率。球磨粉碎濕法球磨工藝采用旋轉(zhuǎn)筒體與研磨介質(zhì)對原料進行濕法粉碎，使顆粒粒徑均勻分布至微米級，增強坯體致密性。能耗優(yōu)化方案引入變頻電機與分級設備，降低球磨能耗的同時提升原料利用率。通過調(diào)整球磨時間與轉(zhuǎn)速，精確控制原料細度，避免過粗或過細影響燒結(jié)性能。粒度控制技術泥料陳腐在恒溫恒濕環(huán)境中儲存泥料，利用天然微生物分解有機質(zhì)，提高泥料可塑性與延展性。微生物降解作用通過真空練泥機排除泥料中的氣泡，減少坯體干燥和燒制過程中的開裂風險。真空脫氣處理監(jiān)測陳腐周期內(nèi)泥料含水率變化，確保水分均勻分布以穩(wěn)定成型性能。水分均衡調(diào)控02坯體成型手工拉坯泥料塑形技術通過旋轉(zhuǎn)陶輪手工塑形，要求工匠具備精準的力道控制與對稱性把握，適用于制作碗、瓶等中空器皿，成品具有獨特的藝術質(zhì)感。泥料含水率控制需將泥料調(diào)至適宜濕度（通常18%-25%），過干易開裂，過濕則難以定型，需反復揉捏排除氣泡以保證坯體密度均勻。修坯與細節(jié)處理拉坯后需用刮刀修整器壁厚度，并通過手指或工具刻畫紋飾，此階段決定最終器形的流暢度與美觀性。利用石膏模具的毛細作用吸收泥漿水分，使坯體在模具內(nèi)壁均勻附著，適用于復雜造型（如浮雕、異形件）的批量生產(chǎn)。模具注漿石膏模吸水性利用需控制泥漿的流動性（黏度）與固含量，添加電解質(zhì)（如硅酸鈉）防止顆粒沉降，確保注漿后坯體收縮率一致且無缺陷。泥漿配方調(diào)整待坯體半干時分離模具，對分片成型的部件進行拼接，需處理接縫處并保持濕度平衡以避免開裂或變形。脫模與接合工藝高壓沖壓技術鋼模需具備高耐磨性，并設計脫模斜度與排氣孔，定期清理殘留粉末以防止坯體表面出現(xiàn)劃痕或氣孔缺陷。模具設計與維護坯體密度控制通過調(diào)整壓力值與保壓時間優(yōu)化顆粒間結(jié)合力，避免層裂或邊緣毛刺，直接影響后續(xù)燒成階段的抗變形能力。采用液壓機或機械壓機將干粉或半干泥料壓入鋼模，壓力可達數(shù)十兆帕，適合生產(chǎn)瓷磚、衛(wèi)浴配件等規(guī)整度高、尺寸精確的制品。機械壓制成型03干燥處理自然陰干環(huán)境溫濕度控制干燥周期管理需在通風避光的環(huán)境中緩慢脫水，避免陽光直射導致坯體開裂或變形，濕度需保持在穩(wěn)定范圍內(nèi)以平衡水分蒸發(fā)速率。坯體擺放規(guī)范采用架空或懸置方式放置坯體，確?？諝饬魍ň鶆蚪佑|表面，防止底部積濕引發(fā)局部收縮不均。根據(jù)坯體厚度和黏土特性調(diào)整陰干時長，通常需反復觀察坯體狀態(tài)，直至含水量降至安全閾值以下。修坯精修工具選擇與技法使用金屬刮刀、海綿等工具修整坯體邊緣與接縫，通過旋坯或手工雕刻實現(xiàn)線條流暢度與細節(jié)精度提升。缺陷修復處理在坯體半干狀態(tài)下進行初步打磨，為后續(xù)施釉或彩繪提供平整基底，減少燒成后的二次加工需求。填補氣孔或裂紋時需采用同質(zhì)泥漿，修坯后需二次陰干以避免應力集中導致的后期燒制破裂。表面預拋光干燥窯脫水采用分段式加熱程序，初期低溫排濕（通常不超過100℃），后期逐步提升溫度確保坯體內(nèi)部水分徹底蒸發(fā)。通過風機系統(tǒng)強制對流，避免局部過熱或濕氣滯留，保證坯體各部位同步干燥。借助濕度傳感器或重量監(jiān)測手段，精確判斷坯體脫水完成度，防止過早進入燒制階段引發(fā)爆坯風險。梯度升溫設定窯內(nèi)氣流循環(huán)含水率檢測04裝飾工藝浸釉法將坯體完全浸入釉漿中，確保釉層均勻覆蓋，適用于規(guī)則器型，需控制浸入時間以避免釉層過厚或開裂。噴釉法利用噴槍將釉料霧化后噴涂于坯體表面，適合復雜造型或局部上釉，需調(diào)整氣壓和距離以保證釉面細膩度。刷釉法手工用毛筆或刷子蘸取釉料涂刷坯體，常用于小面積裝飾或補釉，要求操作者具備精準的筆觸控制能力。蕩釉法將釉漿倒入坯體內(nèi)部后緩慢旋轉(zhuǎn)，使釉料均勻附著于內(nèi)壁，多用于壺、瓶等中空器皿的內(nèi)壁處理。施釉技法手繪彩飾在已燒制的釉面上用低溫彩料繪畫，二次入窯固化，色彩鮮艷豐富，但需注意顏料與釉面的附著力問題。釉上彩繪釉下彩繪堆白工藝以鈷料為顏料，在素坯上勾勒圖案后施透明釉燒制，需掌握分水技法實現(xiàn)濃淡層次，呈現(xiàn)傳統(tǒng)水墨效果。直接在生坯上繪制圖案并覆蓋釉層一次燒成，色彩耐久性強，但對畫工技術要求高，需預判燒成后的發(fā)色變化。用白色泥漿堆塑立體紋飾，再施釉燒制，形成浮雕般裝飾效果，需控制泥漿稠度以避免干燥收縮開裂。青花繪制通過加熱使花紙上的顏料層轉(zhuǎn)移到釉面，色彩還原度高，常用于金屬光澤或漸變效果裝飾，需嚴格控制溫度曲線。熱轉(zhuǎn)印技術將花紙貼于施釉坯體上，高溫燒制時圖案融入釉層，兼具釉下彩的耐久性與貼花的效率優(yōu)勢，但對花紙耐溫性要求極高。釉中貼花01020304將印有圖案的特殊紙張浸泡后轉(zhuǎn)貼至坯體，通過水分溶解背膠完成轉(zhuǎn)移，適合批量生產(chǎn)復雜圖案，需精準對位避免錯版。水移貼花采用陶瓷專用墨水直接噴印圖案，支持高分辨率圖像還原，適用于個性化定制，需預處理坯體表面以確保墨水吸附均勻。數(shù)碼噴墨打印貼花轉(zhuǎn)印05高溫燒成裝窯與支燒窯具選擇與擺放根據(jù)坯體形狀和尺寸選用合適的支釘、墊餅或匣缽，確保坯體在高溫下穩(wěn)定受熱且避免粘連。需精確計算窯內(nèi)空間利用率，平衡熱氣流分布。氧化與還原環(huán)境調(diào)整裝窯時需預留火道和煙道，通過坯體擺放密度控制窯內(nèi)氣氛流動，為后續(xù)燒成階段的氧化或還原反應創(chuàng)造條件。坯體間隔與堆疊多層堆疊時需保持坯體間均勻空隙，防止燒成過程中因收縮不均導致變形或開裂。特殊器型需采用懸燒或吊燒工藝。燒成曲線控制高溫保溫與晶相發(fā)育在峰值溫度維持特定時間，促進釉料完全熔融與坯體微觀結(jié)構(gòu)重組，形成穩(wěn)定的莫來石晶體網(wǎng)絡以提升機械強度。03精確控制升溫速率，使坯體達到最佳致密化溫度區(qū)間。通過熱電偶實時監(jiān)測窯內(nèi)溫度，調(diào)整燃料與空氣比例以穩(wěn)定熱場。02?；c燒結(jié)階段低溫排膠階段緩慢升溫至臨界溫度，使坯體內(nèi)有機粘合劑和殘余水分充分揮發(fā)，避免快速汽化導致坯體爆裂或表面缺陷。01可控緩冷工藝冷卻初期保持還原或中性氣氛，防止釉面二次氧化變色；后期可引入自然通風加速降溫，但需避免冷空氣直吹坯體。窯內(nèi)氣氛過渡成品檢驗與分選出窯后逐件檢查釉色均勻度、變形量及開裂情況，按質(zhì)量標準分級。對特殊窯變效果的作品需單獨記錄燒成參數(shù)以供復燒參考。高溫階段結(jié)束后采用階梯式降溫，避免因熱應力集中導致釉面龜裂或坯體脆化。尤其在石英晶型轉(zhuǎn)化溫度區(qū)間需嚴格控制冷卻速率。冷卻與出窯06后期處理質(zhì)檢與分級通過人工或自動化設備檢查陶瓷表面是否存在裂紋、氣泡、變形、色差等瑕疵，確保產(chǎn)品符合質(zhì)量標準。外觀缺陷檢測使用卡尺、投影儀等工具測量陶瓷制品的尺寸公差，確保其符合設計圖紙要求的精度范圍。根據(jù)檢測結(jié)果將陶瓷分為優(yōu)等品、合格品、次品等不同等級，并標注相應標識以便后續(xù)銷售或處理。尺寸精度測量對陶瓷的硬度、抗壓強度、吸水率等關鍵性能指標進行實驗室測試，確保產(chǎn)品滿足實際使用需求。物理性能測試01020403分級標準制定打磨修整毛邊去除使用砂紙、金剛石磨頭等工具對陶瓷邊緣的毛刺進行精細打磨，確保觸感光滑無劃痕。01表面拋光通過機械或手工拋光工藝提升陶瓷表面光澤度，使其達到鏡面或啞光等不同視覺效果。02修補技術對輕微裂紋或凹陷部位采用陶瓷泥漿填補，并經(jīng)高溫修復處理，恢復產(chǎn)品完整性。03細節(jié)雕刻針對藝術陶瓷進行局部雕刻修整，強化紋飾線條的清晰度與立體感。04包裝入庫防震包裝設計采用泡沫