2025年半導(dǎo)體光刻膠（Photoresist）性能優(yōu)化能力考核試卷一、單項(xiàng)選擇題（每題1分，共30題）1.半導(dǎo)體光刻膠中，對分辨率影響最大的因素是？A.固化溫度B.聚合物分子量C.顯影液成分D.基板溫度2.高性能光刻膠通常具有的特性不包括？A.高靈敏度B.低粘度C.高抗蝕性D.快速固化3.光刻膠的感光光譜范圍主要取決于？A.增感劑類型B.聚合物鏈長C.溶劑種類D.基板材料4.在光刻工藝中，光刻膠的剝離性是指？A.脫膜時的完整性B.脫膜時的速度C.脫膜時的溫度D.脫膜時的粘附力5.光刻膠的線寬粗糙度（LWR）主要受以下哪個因素影響？A.曝光劑量B.顯影時間C.基板平整度D.以上所有6.在深紫外光刻（DUV）中，常用的光刻膠類型是？A.正性電子束光刻膠B.負(fù)性光刻膠C.正性深紫外光刻膠D.負(fù)性深紫外光刻膠7.光刻膠的靈敏度是指？A.對光的敏感程度B.對顯影液的敏感程度C.對溫度的敏感程度D.對濕度的敏感程度8.光刻膠的粘附性是指？A.對基板的粘附能力B.對顯影液的粘附能力C.對曝光液的粘附能力D.對剝離液的粘附能力9.光刻膠的耐化學(xué)性是指？A.對化學(xué)溶劑的耐受能力B.對化學(xué)試劑的耐受能力C.對化學(xué)環(huán)境的耐受能力D.對化學(xué)變化的耐受能力10.光刻膠的分辨率是指？A.最小可分辨的線寬B.最大可分辨的線寬C.線寬的變化范圍D.線寬的穩(wěn)定性11.光刻膠的剝離性是指？A.脫膜時的完整性B.脫膜時的速度C.脫膜時的溫度D.脫膜時的粘附力12.光刻膠的線寬粗糙度（LWR）主要受以下哪個因素影響？A.曝光劑量B.顯影時間C.基板平整度D.以上所有13.在極紫外光刻（EUV）中，常用的光刻膠類型是？A.正性電子束光刻膠B.負(fù)性光刻膠C.正性極紫外光刻膠D.負(fù)性極紫外光刻膠14.光刻膠的靈敏度是指？A.對光的敏感程度B.對顯影液的敏感程度C.對溫度的敏感程度D.對濕度的敏感程度15.光刻膠的粘附性是指？A.對基板的粘附能力B.對顯影液的粘附能力C.對曝光液的粘附能力D.對剝離液的粘附能力16.光刻膠的耐化學(xué)性是指？A.對化學(xué)溶劑的耐受能力B.對化學(xué)試劑的耐受能力C.對化學(xué)環(huán)境的耐受能力D.對化學(xué)變化的耐受能力17.光刻膠的分辨率是指？A.最小可分辨的線寬B.最大可分辨的線寬C.線寬的變化范圍D.線寬的穩(wěn)定性18.光刻膠的剝離性是指？A.脫膜時的完整性B.脫膜時的速度C.脫膜時的溫度D.脫膜時的粘附力19.光刻膠的線寬粗糙度（LWR）主要受以下哪個因素影響？A.曝光劑量B.顯影時間C.基板平整度D.以上所有20.在光刻工藝中，光刻膠的感光性是指？A.對光的敏感程度B.對顯影液的敏感程度C.對溫度的敏感程度D.對濕度的敏感程度21.光刻膠的粘附性是指？A.對基板的粘附能力B.對顯影液的粘附能力C.對曝光液的粘附能力D.對剝離液的粘附能力22.光刻膠的耐化學(xué)性是指？A.對化學(xué)溶劑的耐受能力B.對化學(xué)試劑的耐受能力C.對化學(xué)環(huán)境的耐受能力D.對化學(xué)變化的耐受能力23.光刻膠的分辨率是指？A.最小可分辨的線寬B.最大可分辨的線寬C.線寬的變化范圍D.線寬的穩(wěn)定性24.光刻膠的剝離性是指？A.脫膜時的完整性B.脫膜時的速度C.脫膜時的溫度D.脫膜時的粘附力25.光刻膠的線寬粗糙度（LWR）主要受以下哪個因素影響？A.曝光劑量B.顯影時間C.基板平整度D.以上所有26.在光刻工藝中，光刻膠的感光性是指？A.對光的敏感程度B.對顯影液的敏感程度C.對溫度的敏感程度D.對濕度的敏感程度27.光刻膠的粘附性是指？A.對基板的粘附能力B.對顯影液的粘附能力C.對曝光液的粘附能力D.對剝離液的粘附能力28.光刻膠的耐化學(xué)性是指？A.對化學(xué)溶劑的耐受能力B.對化學(xué)試劑的耐受能力C.對化學(xué)環(huán)境的耐受能力D.對化學(xué)變化的耐受能力29.光刻膠的分辨率是指？A.最小可分辨的線寬B.最大可分辨的線寬C.線寬的變化范圍D.線寬的穩(wěn)定性30.光刻膠的剝離性是指？A.脫膜時的完整性B.脫膜時的速度C.脫膜時的溫度D.脫膜時的粘附力二、多項(xiàng)選擇題（每題2分，共20題）1.高性能光刻膠的常見特性包括？A.高靈敏度B.低粘度C.高抗蝕性D.快速固化2.光刻膠的感光光譜范圍主要受哪些因素影響？A.增感劑類型B.聚合物鏈長C.溶劑種類D.基板材料3.光刻膠的剝離性包括哪些方面？A.脫膜時的完整性B.脫膜時的速度C.脫膜時的溫度D.脫膜時的粘附力4.光刻膠的線寬粗糙度（LWR）主要受哪些因素影響？A.曝光劑量B.顯影時間C.基板平整度D.以上所有5.在光刻工藝中，常用的光刻膠類型包括？A.正性電子束光刻膠B.負(fù)性光刻膠C.正性深紫外光刻膠D.負(fù)性深紫外光刻膠6.光刻膠的靈敏度包括哪些方面？A.對光的敏感程度B.對顯影液的敏感程度C.對溫度的敏感程度D.對濕度的敏感程度7.光刻膠的粘附性包括哪些方面？A.對基板的粘附能力B.對顯影液的粘附能力C.對曝光液的粘附能力D.對剝離液的粘附能力8.光刻膠的耐化學(xué)性包括哪些方面？A.對化學(xué)溶劑的耐受能力B.對化學(xué)試劑的耐受能力C.對化學(xué)環(huán)境的耐受能力D.對化學(xué)變化的耐受能力9.光刻膠的分辨率受哪些因素影響？A.最小可分辨的線寬B.最大可分辨的線寬C.線寬的變化范圍D.線寬的穩(wěn)定性10.光刻膠的剝離性包括哪些方面？A.脫膜時的完整性B.脫膜時的速度C.脫膜時的溫度D.脫膜時的粘附力11.光刻膠的線寬粗糙度（LWR）主要受哪些因素影響？A.曝光劑量B.顯影時間C.基板平整度D.以上所有12.在光刻工藝中，常用的光刻膠類型包括？A.正性電子束光刻膠B.負(fù)性光刻膠C.正性深紫外光刻膠D.負(fù)性深紫外光刻膠13.光刻膠的靈敏度包括哪些方面？A.對光的敏感程度B.對顯影液的敏感程度C.對溫度的敏感程度D.對濕度的敏感程度14.光刻膠的粘附性包括哪些方面？A.對基板的粘附能力B.對顯影液的粘附能力C.對曝光液的粘附能力D.對剝離液的粘附能力15.光刻膠的耐化學(xué)性包括哪些方面？A.對化學(xué)溶劑的耐受能力B.對化學(xué)試劑的耐受能力C.對化學(xué)環(huán)境的耐受能力D.對化學(xué)變化的耐受能力16.光刻膠的分辨率受哪些因素影響？A.最小可分辨的線寬B.最大可分辨的線寬C.線寬的變化范圍D.線寬的穩(wěn)定性17.光刻膠的剝離性包括哪些方面？A.脫膜時的完整性B.脫膜時的速度C.脫膜時的溫度D.脫膜時的粘附力18.光刻膠的線寬粗糙度（LWR）主要受哪些因素影響？A.曝光劑量B.顯影時間C.基板平整度D.以上所有19.在光刻工藝中，常用的光刻膠類型包括？A.正性電子束光刻膠B.負(fù)性光刻膠C.正性深紫外光刻膠D.負(fù)性深紫外光刻膠20.光刻膠的靈敏度包括哪些方面？A.對光的敏感程度B.對顯影液的敏感程度C.對溫度的敏感程度D.對濕度的敏感程度三、判斷題（每題1分，共20題）1.光刻膠的分辨率越高，其線寬粗糙度（LWR）越小。2.高性能光刻膠通常具有高靈敏度和高抗蝕性。3.光刻膠的剝離性主要指脫膜時的完整性。4.光刻膠的線寬粗糙度（LWR）主要受曝光劑量和顯影時間的影響。5.在深紫外光刻（DUV）中，常用的光刻膠類型是正性光刻膠。6.光刻膠的靈敏度主要指對光的敏感程度。7.光刻膠的粘附性主要指對基板的粘附能力。8.光刻膠的耐化學(xué)性主要指對化學(xué)溶劑的耐受能力。9.光刻膠的分辨率主要指最小可分辨的線寬。10.光刻膠的剝離性主要指脫膜時的速度。11.光刻膠的線寬粗糙度（LWR）主要受基板平整度的影響。12.在極紫外光刻（EUV）中，常用的光刻膠類型是負(fù)性光刻膠。13.光刻膠的靈敏度主要指對顯影液的敏感程度。14.光刻膠的粘附性主要指對顯影液的粘附能力。15.光刻膠的耐化學(xué)性主要指對化學(xué)試劑的耐受能力。16.光刻膠的分辨率主要指最大可分辨的線寬。17.光刻膠的剝離性主要指脫膜時的溫度。18.光刻膠的線寬粗糙度（LWR）主要受顯影時間的影響。19.在光刻工藝中，常用的光刻膠類型是正性光刻膠。20.光刻膠的靈敏度主要指對溫度的敏感程度。四、簡答題（每題5分，共2題）1.簡述光刻膠的性能優(yōu)化方向及其重要性。2.分析影響光刻膠分辨率的主要因素及其改進(jìn)措施。附標(biāo)準(zhǔn)答案：一、單項(xiàng)選擇題1.B2.D3.A4.A5.D6.C7.A8.A9.A10.A11.A12.D13.C14.A15.A16.A17.A18.A19.D20.A21.A22.A23.A24.A25.D26.A27.A28.A29.A30.A二、多項(xiàng)選擇題1.ABCD2.ABCD3.ABCD4.ABCD5.ABCD6.ABCD7.ABCD8.ABCD9.ABCD10.ABCD11.ABCD12.ABCD13.ABCD14.ABCD15.ABCD16.ABCD17.ABCD18.ABCD19.ABCD20.ABCD三、判斷題1.√2.√3.√4.