真空鍍膜試題帶答案姓名：__________班級(jí)：__________成績(jī)：__________一、單項(xiàng)選擇題（每題1分，共20分）1.真空鍍膜過(guò)程中，鍍膜材料蒸發(fā)的方式主要是（）A.化學(xué)蒸發(fā)B.物理蒸發(fā)C.電解蒸發(fā)D.生物蒸發(fā)答案：B2.以下哪種氣體不屬于真空鍍膜常用的工作氣體（）A.氮?dú)釨.氧氣C.氫氣D.氯氣答案：D3.真空鍍膜設(shè)備中，用于測(cè)量真空度的儀器是（）A.溫度計(jì)B.壓力計(jì)C.流量計(jì)D.真空計(jì)答案：D4.鍍膜厚度對(duì)鍍膜質(zhì)量有重要影響，一般通過(guò)（）來(lái)控制鍍膜厚度。A.鍍膜時(shí)間B.鍍膜溫度C.蒸發(fā)源功率D.以上都是答案：D5.真空鍍膜時(shí)，基片溫度過(guò)高可能會(huì)導(dǎo)致（）A.鍍膜附著力下降B.鍍膜均勻性變好C.鍍膜速度加快D.鍍膜顏色變淺答案：A6.以下哪種鍍膜技術(shù)屬于物理氣相沉積（PVD）（）A.化學(xué)氣相沉積（CVD）B.磁控濺射鍍膜C.溶膠-凝膠鍍膜D.電鍍答案：B7.在真空鍍膜過(guò)程中，防止膜層出現(xiàn)針孔的關(guān)鍵是（）A.提高真空度B.降低鍍膜溫度C.增加鍍膜材料D.加快鍍膜速度答案：A8.鍍膜設(shè)備的真空系統(tǒng)中，機(jī)械泵的作用是（）A.獲得高真空B.獲得低真空C.抽除水蒸氣D.抽除惰性氣體答案：B9.對(duì)于金屬鍍膜，鍍膜后進(jìn)行退火處理的目的是（）A.提高膜層硬度B.降低膜層應(yīng)力C.改變膜層顏色D.增加膜層厚度答案：B10.真空鍍膜時(shí)，膜層的折射率與（）有關(guān)。A.鍍膜材料B.鍍膜厚度C.基片材料D.以上都是答案：D11.以下哪種情況會(huì)影響鍍膜的均勻性（）A.蒸發(fā)源分布不均勻B.基片放置不均勻C.真空度不均勻D.以上都是答案：D12.鍍膜過(guò)程中，膜層的附著力與（）因素?zé)o關(guān)。A.基片表面清潔度B.鍍膜溫度C.鍍膜材料密度D.膜層厚度答案：D13.真空鍍膜設(shè)備的烘烤系統(tǒng)主要作用是（）A.去除基片表面水分B.提高鍍膜溫度C.加速鍍膜材料蒸發(fā)D.防止設(shè)備生銹答案：A14.對(duì)于光學(xué)鍍膜，膜層的透過(guò)率和吸收率主要取決于（）A.膜層厚度和折射率B.鍍膜設(shè)備品牌C.基片尺寸D.鍍膜環(huán)境濕度答案：A15.鍍膜過(guò)程中，蒸發(fā)舟的材質(zhì)通常選用（）A.陶瓷B.玻璃C.塑料D.橡膠答案：A16.以下哪種鍍膜工藝適用于制備超硬耐磨涂層（）A.蒸發(fā)鍍膜B.濺射鍍膜C.離子鍍膜D.化學(xué)鍍膜答案：C17.真空鍍膜時(shí)，膜層的粗糙度與（）有關(guān)。A.鍍膜工藝參數(shù)B.基片材質(zhì)C.環(huán)境溫度D.以上都是答案：D18.鍍膜設(shè)備的冷卻系統(tǒng)主要用于冷卻（）A.蒸發(fā)源B.基片C.真空室D.以上都是答案：D19.在真空鍍膜中，為了提高膜層的純度，通常會(huì)采用（）A.高純度鍍膜材料B.多次鍍膜C.高溫鍍膜D.以上都是答案：A20.鍍膜后膜層出現(xiàn)變色現(xiàn)象，可能的原因是（）A.鍍膜材料不純B.鍍膜過(guò)程中溫度變化C.膜層受到污染D.以上都是答案：D二、多項(xiàng)選擇題（每題2分，共20分）1.真空鍍膜的主要優(yōu)點(diǎn)包括（）A.膜層質(zhì)量高B.可鍍材料廣泛C.鍍膜過(guò)程無(wú)污染D.可精確控制膜層性能答案：ABD2.真空鍍膜設(shè)備的主要組成部分有（）A.真空系統(tǒng)B.鍍膜系統(tǒng)C.控制系統(tǒng)D.冷卻系統(tǒng)答案：ABCD3.影響真空鍍膜膜層質(zhì)量的因素有（）A.真空度B.鍍膜材料質(zhì)量C.基片處理情況D.鍍膜工藝參數(shù)答案：ABCD4.常見(jiàn)的真空鍍膜方法有（）A.蒸發(fā)鍍膜B.濺射鍍膜C.離子鍍膜D.化學(xué)氣相沉積鍍膜答案：ABC5.鍍膜過(guò)程中，防止膜層氧化的措施有（）A.提高真空度B.充入惰性氣體C.控制鍍膜環(huán)境濕度D.降低鍍膜溫度答案：ABC6.對(duì)于光學(xué)鍍膜，膜層的光學(xué)性能指標(biāo)包括（）A.折射率B.透過(guò)率C.吸收率D.反射率答案：ABCD7.真空鍍膜在以下哪些領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用（）A.光學(xué)B.電子C.機(jī)械D.裝飾答案：ABCD8.鍍膜設(shè)備的維護(hù)保養(yǎng)工作包括（）A.定期清潔B.檢查真空泵性能C.校準(zhǔn)測(cè)量?jī)x器D.更換磨損部件答案：ABCD9.鍍膜過(guò)程中，膜層出現(xiàn)剝落現(xiàn)象，可能的原因是（）A.膜層附著力不足B.基片表面有油污C.鍍膜應(yīng)力過(guò)大D.鍍膜溫度過(guò)高答案：AC10.為了提高真空鍍膜的效率，可以采取以下措施（）A.優(yōu)化鍍膜工藝參數(shù)B.采用自動(dòng)化設(shè)備C.增加鍍膜材料用量D.提高真空度答案：AB三、判斷題（每題1分，共10分）1.真空鍍膜過(guò)程中，真空度越高越好。（）答案：×2.鍍膜材料的純度對(duì)膜層質(zhì)量沒(méi)有影響。（）答案：×3.濺射鍍膜只能鍍金屬膜。（）答案：×4.基片表面粗糙度會(huì)影響鍍膜的均勻性。（）答案：√5.鍍膜設(shè)備的控制系統(tǒng)可以精確控制鍍膜的所有參數(shù)。（）答案：√6.離子鍍膜過(guò)程中不需要加熱鍍膜材料。（）答案：×7.膜層的硬度只與鍍膜材料有關(guān)。（）答案：×8.真空鍍膜時(shí)，鍍膜室的清潔度對(duì)膜層質(zhì)量有重要影響。（）答案：√9.不同的鍍膜工藝對(duì)基片材料的要求相同。（）答案：×10.鍍膜后膜層的性能可以通過(guò)后續(xù)處理進(jìn)行調(diào)整。（）答案：√四、填空題（每題1分，共10分）1.真空鍍膜的基本原理是在（）環(huán)境下，使鍍膜材料蒸發(fā)或?yàn)R射并沉積在基片表面形成薄膜。答案：真空2.鍍膜前基片表面的清潔處理方法有（）、化學(xué)清洗等。答案：機(jī)械打磨（或其他合理方法）3.蒸發(fā)鍍膜中，常用的加熱蒸發(fā)源有電阻加熱蒸發(fā)源、（）等。答案：電子束蒸發(fā)源4.濺射鍍膜的濺射方式主要有直流濺射、（）、射頻濺射等。答案：磁控濺射5.離子鍍膜過(guò)程中，離子源產(chǎn)生的離子轟擊基片表面的目的是提高膜層的（）。答案：附著力6.鍍膜過(guò)程中，膜層的厚度監(jiān)測(cè)方法有（）、石英晶體振蕩法等。答案：干涉儀法（或其他合理方法）7.真空鍍膜設(shè)備的真空度一般要求達(dá)到（）Pa以下。答案：10^(-3)（或其他合理數(shù)值）8.鍍膜材料的蒸發(fā)速率與（）、蒸發(fā)源溫度等因素有關(guān)。答案：蒸發(fā)源功率9.對(duì)于多層膜鍍膜，各層膜之間的（）對(duì)膜層整體性能很關(guān)鍵。答案：界面結(jié)合10.鍍膜后的膜層需要進(jìn)行（）測(cè)試來(lái)評(píng)估其性能。答案：硬度、附著力等（或其他合理測(cè)試項(xiàng)目）五、簡(jiǎn)答題（每題5分，共20分）1.簡(jiǎn)述真空鍍膜的基本工藝流程。答案：基片預(yù)處理，包括清潔、脫脂、去污等。將基片放入真空鍍膜設(shè)備的真空室。抽真空至所需真空度。根據(jù)鍍膜要求選擇合適的鍍膜材料和鍍膜工藝。啟動(dòng)鍍膜系統(tǒng)，使鍍膜材料蒸發(fā)或?yàn)R射并沉積在基片表面。鍍膜過(guò)程中監(jiān)控和調(diào)整相關(guān)參數(shù)，如真空度、鍍膜厚度、溫度等。鍍膜完成后，關(guān)閉鍍膜系統(tǒng)，待真空室冷卻后取出基片。2.說(shuō)明影響真空鍍膜膜層附著力的因素及提高附著力的方法。答案：影響因素：基片表面清潔度，清潔的基片表面有利于提高附著力。鍍膜工藝參數(shù)，如鍍膜溫度、離子轟擊等。鍍膜材料與基片的匹配性。提高方法：對(duì)基片進(jìn)行嚴(yán)格的表面預(yù)處理，確保清潔。優(yōu)化鍍膜工藝參數(shù)，選擇合適的鍍膜溫度和離子轟擊條件。選擇與基片匹配性好的鍍膜材料。3.簡(jiǎn)述濺射鍍膜的特點(diǎn)。答案：可鍍材料廣泛，包括金屬、合金、化合物等。膜層附著力強(qiáng)。鍍膜過(guò)程中基片溫度低，可避免基片變形和性能改變。能精確控制膜層成分和厚度。可在復(fù)雜形狀的基片上鍍膜。4.真空鍍膜設(shè)備日常維護(hù)需要注意哪些方面？答案：定期清潔真空室、蒸發(fā)源、濺射靶等部件，防止雜質(zhì)積累。檢查真空泵的油位、油溫、真空度等，及時(shí)更換真空泵油。校準(zhǔn)測(cè)量?jī)x器，確保鍍膜參數(shù)的準(zhǔn)確性。檢查各密封部位，防止漏氣。定期檢查和更換易損部件，如蒸發(fā)舟、密封圈等。保持設(shè)備周圍環(huán)境清潔，避免灰塵等進(jìn)入設(shè)備。六、論述題（每題5分，共20分）1.論述真空鍍膜技術(shù)在現(xiàn)代制造業(yè)中的重要性及應(yīng)用領(lǐng)域。答案：重要性：能提供高質(zhì)量的薄膜涂層，改善材料性能?？删_控制膜層的成分、厚度、結(jié)構(gòu)等，滿足不同需求。鍍膜過(guò)程相對(duì)清潔，對(duì)環(huán)境友好。提高產(chǎn)品的耐磨性、耐腐蝕性、光學(xué)性能等，提升產(chǎn)品質(zhì)量和競(jìng)爭(zhēng)力。應(yīng)用領(lǐng)域：光學(xué)領(lǐng)域，如制備增透膜、高反射膜、濾光膜等。電子領(lǐng)域，用于芯片制造、電路板鍍膜等，提高電子元件性能。機(jī)械領(lǐng)域，增強(qiáng)機(jī)械部件的耐磨、耐蝕性能。裝飾領(lǐng)域，賦予產(chǎn)品美觀的外觀涂層。2.論述如何根據(jù)不同的鍍膜需求選擇合適的真空鍍膜方法。答案：考慮膜層材料：如果需要鍍金屬膜，蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜等方法都適用；若鍍化合物膜，離子鍍膜或化學(xué)氣相沉積鍍膜可能更合適。關(guān)注膜層性能要求：對(duì)于要求高附著力的膜層，離子鍍膜或?yàn)R射鍍膜可能更好；對(duì)光學(xué)性能要求高的，如特定的折射率、透過(guò)率等，需選擇能精確控制膜層光學(xué)參數(shù)的方法，如光學(xué)鍍膜工藝?；牧虾托螤睿阂恍?duì)溫度敏感的基片，適合低溫鍍膜方法，如濺射鍍膜；復(fù)雜形狀的基片，濺射鍍膜或離子鍍膜相對(duì)更易實(shí)現(xiàn)均勻鍍膜。鍍膜成本和效率：蒸發(fā)鍍膜設(shè)備相對(duì)簡(jiǎn)單，成本較低，但對(duì)于某些材料可能效率不高；濺射鍍膜和離子鍍膜設(shè)備成本較高，但能滿足更多復(fù)雜需求且效率可能更高，需綜合成本和效率因素選擇。3.論述鍍膜過(guò)程中出現(xiàn)膜層缺陷（如針孔、裂紋等）的原因及解決措施。答案：針孔原因：真空度不夠，有氣體殘留導(dǎo)致膜層生長(zhǎng)不連續(xù)。鍍膜材料不純，含有雜質(zhì)影響膜層致密性?；砻娌磺鍧?，有顆粒等雜質(zhì)阻礙膜層生長(zhǎng)。解決措施：提高真空度，充分抽氣。使用高純度鍍膜材料。對(duì)基片進(jìn)行嚴(yán)格清潔處理。裂紋原因：鍍膜應(yīng)力過(guò)大，如膜層與基片熱膨脹系數(shù)差異大。鍍膜過(guò)程中溫度變化劇烈。膜層厚度不均勻。解決措施：選擇與基片熱膨脹系數(shù)匹配的鍍膜材料?？刂棋兡み^(guò)程中的溫度變化，避免劇烈波動(dòng)。優(yōu)化鍍膜工藝參數(shù)，確保膜層厚度均勻。4.論述未來(lái)真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)。答