2026年濺射鍍膜設(shè)備維修（濺射鍍膜故障）考題及答案

（考試時(shí)間：90分鐘滿分100分）班級(jí)______姓名______第I卷（選擇題共30分）（總共6題，每題5分，每題只有一個(gè)正確答案，請(qǐng)將正確答案的序號(hào)填在括號(hào)內(nèi)）w1.濺射鍍膜過程中，靶材濺射不均勻可能是以下哪種原因?qū)е碌模浚ǎ〢.濺射功率過高B.氣體流量過低C.靶材表面不平整D.真空度太高w2.當(dāng)濺射鍍膜設(shè)備出現(xiàn)膜厚不均勻的故障時(shí)，首先應(yīng)該檢查的是（）A.電源系統(tǒng)B.真空系統(tǒng)C.靶材質(zhì)量D.氣體配比w3.濺射鍍膜時(shí)出現(xiàn)放電現(xiàn)象，可能是因?yàn)椋ǎ〢.真空度太高B.氣體壓力過大C.電極間距過小D.濺射功率過低w4.若鍍膜過程中發(fā)現(xiàn)膜層附著力差，可能與下列哪個(gè)因素關(guān)系不大？（）A.基板預(yù)處理B.濺射溫度C.靶材純度D.鍍膜時(shí)間w5.濺射鍍膜設(shè)備的濺射速率突然降低，可能是（）A.濺射功率增大B.氣體流量增加C.靶材損耗嚴(yán)重D.真空度降低w6.對(duì)于濺射鍍膜設(shè)備的冷卻系統(tǒng)故障，可能會(huì)導(dǎo)致（）A.膜層質(zhì)量提高B.設(shè)備運(yùn)行溫度過高C.濺射速率加快D.氣體消耗減少第II卷（非選擇題共70分）w7.（10分）簡(jiǎn)述濺射鍍膜設(shè)備中真空系統(tǒng)對(duì)鍍膜質(zhì)量的重要性以及常見的真空系統(tǒng)故障有哪些？w8.（15分）當(dāng)濺射鍍膜設(shè)備出現(xiàn)膜層顏色異常時(shí)，可能有哪些原因？如何進(jìn)行排查和解決？w9.（20分）閱讀材料：在一次濺射鍍膜實(shí)驗(yàn)中，鍍膜過程突然中斷，設(shè)備顯示有報(bào)警信息。經(jīng)檢查發(fā)現(xiàn)是濺射電源出現(xiàn)故障。已知該濺射電源采用直流電源，通過調(diào)節(jié)電壓和電流來控制濺射過程。請(qǐng)分析可能導(dǎo)致濺射電源故障的原因，并說明如何進(jìn)行檢修？w10.（15分）材料：某濺射鍍膜設(shè)備在鍍膜過程中出現(xiàn)膜厚偏差較大的問題。經(jīng)過初步檢查，發(fā)現(xiàn)真空度、氣體流量、濺射功率等參數(shù)均在正常范圍內(nèi)。請(qǐng)分析可能導(dǎo)致膜厚偏差大的其他原因，并提出相應(yīng)的解決措施。w11.（20分）材料：在濺射鍍膜設(shè)備的日常維護(hù)中，發(fā)現(xiàn)設(shè)備的靶材更換頻率較高，且更換后鍍膜質(zhì)量不穩(wěn)定。請(qǐng)分析靶材頻繁更換和鍍膜質(zhì)量不穩(wěn)定可能的原因，并給出改進(jìn)建議。答案：w1.Cw2.Bw3.Bw4.Dw5.Cw6.Bw7.真空系統(tǒng)對(duì)鍍膜質(zhì)量至關(guān)重要，它能保證鍍膜環(huán)境純凈，減少雜質(zhì)影響。常見故障有真空度達(dá)不到要求，可能是真空泵故障、密封不良等；真空泄漏，表現(xiàn)為真空度下降快，需檢查各密封部位。w8.膜層顏色異常可能原因有靶材不純、氣體成分變化、濺射參數(shù)改變等。排查時(shí)先檢查靶材質(zhì)量，再看氣體配比和流量，最后核對(duì)濺射功率等參數(shù)。解決方法是更換合格靶材，調(diào)整氣體和濺射參數(shù)。w9.可能原因有電源元件損壞，如功率管擊穿；線路故障，如斷路、短路；控制電路問題，如參數(shù)設(shè)置錯(cuò)誤。檢修時(shí)先檢查元件外觀，再用儀器檢測(cè)線路通斷，最后核對(duì)控制參數(shù)并調(diào)試。w10.可能原因有基板表面狀態(tài)不一致、濺射槍位置偏差、鍍膜時(shí)間控制不準(zhǔn)確。解決措施是對(duì)基板進(jìn)行統(tǒng)一預(yù)處理，調(diào)整濺射槍位置，精確控制鍍膜時(shí)間。w11.靶材頻繁更換可能是濺射