2025年泛半導(dǎo)體光刻膠供應(yīng)鏈發(fā)展研究?jī)|歐智庫(kù)/researchCopyrightreservedtoEOIntelligence,December2025目錄CONTENTS01

光刻膠材料現(xiàn)狀分析1.1光刻膠背景及定義1.2市場(chǎng)規(guī)模1.3驅(qū)動(dòng)因素1.4行業(yè)壁壘1.5行業(yè)圖譜

02

光刻膠材料分析2.1光刻膠分類2.2PCB光刻膠2.3LCD光刻膠2.4半導(dǎo)體光刻膠

03

未來(lái)趨勢(shì)分析3.1市場(chǎng)發(fā)展趨勢(shì)分析3.2技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)分析u光刻膠是利用光化學(xué)反應(yīng)經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩模板轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)。u光刻膠是泛半導(dǎo)體制造工藝中光刻技術(shù)的核心材料

，其品質(zhì)直接影響成品的性能和良率。主要成分是由樹脂、感光劑、溶劑和添加劑構(gòu)成。

目前

，國(guó)產(chǎn)光刻膠集中以低端產(chǎn)品為主，技術(shù)水平與國(guó)外差距較大。但是伴隨國(guó)內(nèi)政策的積極推動(dòng)

，已有少數(shù)企業(yè)嶄露頭角。所需光刻膠的場(chǎng)景大致分為PCB、

LCD以及半導(dǎo)體。億歐智庫(kù)：光刻膠成分組成原材料成本結(jié)構(gòu)中

，樹脂成本占比最大。

決定了光刻膠的基本性能。為光刻膠各組成部分提供溶液環(huán)境

，

十個(gè)部分溶解在一起

，同時(shí)也是后續(xù)光刻化學(xué)反應(yīng)的介質(zhì)。光敏引劑能夠從光中吸收一定波長(zhǎng)的能量從而經(jīng)過反應(yīng)。對(duì)于光刻膠的感光度和分辨率有著重要影響?？刂乒饪棠z材料特殊方面的化學(xué)性質(zhì)

，用來(lái)控制和改變光

刻材料的特定化學(xué)性質(zhì)或光響應(yīng)特性。億歐智庫(kù)：光刻膠添加劑?

專有化學(xué)品

，屬于制造商保密開發(fā)成分?控制光刻膠的化學(xué)性質(zhì)和光響應(yīng)特性

，如為添加劑顏料減少

光反射等。成膜樹脂類型環(huán)化橡膠樹脂/酚醛樹脂聚對(duì)羥基苯

乙烯類樹脂聚甲基丙烯

酸酯類樹脂聚對(duì)羥基苯乙烯類、

分子玻璃、

金屬氧化物應(yīng)用領(lǐng)域PCBLCD半導(dǎo)體光刻膠是光刻工藝關(guān)鍵材料，樹脂是光刻膠成分占比最大材料作用?將光刻膠中的樹脂和感光劑溶解

，均勻的涂布在硅片表面。?調(diào)整光刻膠的粘度

，適合涂覆過程

，同時(shí)還可以起到清洗、脫水等作用。國(guó)產(chǎn)化程度國(guó)產(chǎn)化低依賴進(jìn)口國(guó)產(chǎn)化低依賴進(jìn)口依賴進(jìn)口高端買不到技術(shù)掌握在國(guó)外幾家廠商手中機(jī)理在光作用下生成酸

，

改

變樹脂的堿溶解性。光作用下生成活性碎片

，

引發(fā)預(yù)聚體聚合交聯(lián)固化。下游應(yīng)用8寸、

12寸晶圓制造、先進(jìn)封裝6寸、

8寸、

12寸晶圓制造、

先進(jìn)封裝、

分立器件、

LED、

PCB等國(guó)產(chǎn)化程度依賴進(jìn)口

，世界頭部企業(yè)掌握核心技術(shù)低端國(guó)產(chǎn)化30%

，

中高端依賴進(jìn)口體系丙二醇甲醚醋酸酯丙二醇甲醚醋酸酯異丙醇樹脂溶劑光敏引發(fā)劑添加劑膠體類型KrF、

ArF、

EUVG、

I10%-40%50%-90%1%-6%<1%體系G/IKrFArFEUV體系PAGPAC億歐智庫(kù)：光刻膠光敏材料億歐智庫(kù)：光刻膠樹脂億歐智庫(kù)：光刻膠溶劑數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，億歐智庫(kù)3201720182019202020212022202320242025E2026E25%

PCB

顯示面板

半導(dǎo)體

其他（光學(xué)器件）26%注：外圈是全球、內(nèi)圈是中國(guó)u全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模來(lái)看

，2022年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模突破百億美元大關(guān)。

同年

，中國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模近百億元人民幣；據(jù)預(yù)測(cè)

，2026年，全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到126億美元

，中國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到152億元人民幣；產(chǎn)品結(jié)構(gòu)方面

，我國(guó)光刻膠生產(chǎn)能力集中在技術(shù)難度較低的PCB光刻膠。億歐智庫(kù)：2017-2026年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模及同比（億美元）市場(chǎng)規(guī)模

增速12%201720182019202020212022202320242025E2026E數(shù)據(jù)來(lái)源：中國(guó)電子材料行業(yè)協(xié)會(huì)

，公開資料

，億歐智庫(kù)億歐智庫(kù)：2017-2026年中國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模及同比（億元）市場(chǎng)規(guī)模

增速光刻膠市場(chǎng)規(guī)模穩(wěn)步增長(zhǎng)

，國(guó)產(chǎn)化生產(chǎn)能力集中低端產(chǎn)品億歐智庫(kù)：全球光刻膠下游應(yīng)用及中國(guó)光刻膠生產(chǎn)結(jié)構(gòu)應(yīng)用占比（%）16.1%37.4%億歐智庫(kù)：

中國(guó)光刻膠下游各類應(yīng)用細(xì)分占比（%）TFT正性膠黑色光刻膠彩色光刻膠PS光刻膠

OC光刻膠19.3%10.1%8%1521257.3%20.2%8%787%1018%943%70G/I線KrFArF顯示面板光刻膠6%1078%1064%859%9824%

94%6%903%726%1148%115半導(dǎo)體光刻膠6%1214%1263%2%46.5%43.1%22%25%17%1%827087684國(guó)產(chǎn)化替代迫在眉睫?

光刻膠是集成電路領(lǐng)域微加工的關(guān)鍵性材料

，尤其在中美貿(mào)易沖突的影響下

，產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈安全和自主可控成為重中之重

，

國(guó)產(chǎn)替代迫在眉睫。?日本限制出口光刻膠給韓國(guó)

，

為我國(guó)敲響警鐘。

光刻膠保質(zhì)期通常在6個(gè)月以內(nèi)

，無(wú)法囤貨。晶圓廠擴(kuò)建拉動(dòng)需求?全球晶圓廠的擴(kuò)產(chǎn)擴(kuò)建驅(qū)動(dòng)行業(yè)需求快速增長(zhǎng)。

中國(guó)晶圓廠已建成44座、

在建22座、

計(jì)劃10座到2024年底。?

晶圓廠擴(kuò)建意味著更多的芯片生產(chǎn)

，而光刻膠是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵材料用于將電路圖形轉(zhuǎn)移到晶圓上。AI行業(yè)大肆興起?AI大模型的參數(shù)呈指數(shù)增長(zhǎng)

，對(duì)算力芯片提出更高要求

，算力芯片則更需要先進(jìn)制程和更高精度的光刻技術(shù)。

進(jìn)而提升了對(duì)光刻膠的需求。?端側(cè)AI設(shè)備的不斷普及

，這要求芯片集成NPU等專用AI單元

，這也進(jìn)一步推動(dòng)光刻膠的市場(chǎng)需求。u政策端：

國(guó)產(chǎn)化替代迫在眉睫

，突破從能產(chǎn)到好用的演進(jìn)歷程

，聚焦高精尖難度技術(shù)突破；u技術(shù)端：AI發(fā)展推動(dòng)光刻技術(shù)的進(jìn)一步升級(jí)和需求增長(zhǎng)。AI推動(dòng)制程微縮與封裝創(chuàng)新

，要求光刻膠更高精度與效率；u產(chǎn)業(yè)端：全球晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)周期疊加存儲(chǔ)技術(shù)升級(jí)

，光刻膠作為半導(dǎo)體制造關(guān)鍵需求長(zhǎng)期剛性。光刻膠行業(yè)的驅(qū)動(dòng)因素從技術(shù)到政策到產(chǎn)業(yè)端呈現(xiàn)多維共振億歐智庫(kù)：光刻膠行業(yè)驅(qū)動(dòng)因素?cái)?shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，億歐智庫(kù)5億歐智庫(kù)：光刻膠行業(yè)有關(guān)政策時(shí)間部門政策內(nèi)容類型2021-03工業(yè)和信息化部財(cái)政部《關(guān)于做好享受稅收優(yōu)惠政策的集成電路企業(yè)或項(xiàng)目、軟件企業(yè)清單制定工作有關(guān)要求的通知》光刻膠生產(chǎn)企業(yè)入圍“清單”可享受稅收優(yōu)惠政策。支持類2021-12工業(yè)和信息化部、科技部、自然資源部《“十四五”原材料工業(yè)發(fā)展規(guī)劃》提出要促進(jìn)產(chǎn)業(yè)供給高端化

，突破關(guān)鍵材料。圍繞大飛機(jī)、航空發(fā)動(dòng)機(jī)、集成電路、信息通信、生物產(chǎn)業(yè)和能源產(chǎn)業(yè)等重點(diǎn)應(yīng)用領(lǐng)域

，攻克光刻膠在內(nèi)的一批關(guān)鍵材料和重點(diǎn)晶種。規(guī)劃類2021-12工信部《重點(diǎn)新材料首批應(yīng)用示范指導(dǎo)目錄（2021年版）》將集成電路用光刻膠及其關(guān)鍵原材料和配套試劑等列為重點(diǎn)新材料。支持類2022-03國(guó)家發(fā)改委《關(guān)于做好2022年享受稅收優(yōu)惠政策的集成電路企

業(yè)或項(xiàng)目、軟件企業(yè)清單制定工作有關(guān)要求的通知》生產(chǎn)包括光刻膠在內(nèi)的集成電路產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵原材料、零配件企業(yè)被納入享受稅收優(yōu)惠政策的清單。支持類2023-03國(guó)務(wù)院《國(guó)務(wù)院關(guān)于印發(fā)新時(shí)期促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展若干政策通知》包括生產(chǎn)光刻膠在內(nèi)的集成電路是產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵原材料

，零配件企業(yè)被納入享受稅收優(yōu)惠政策的清單。支持類2023-12工信部《重點(diǎn)新材料首批次應(yīng)用示范指導(dǎo)目錄（2024年版）》將電子化工新材料部分的超高純化學(xué)試劑、集成電路用光刻膠及其關(guān)鍵原材料和配套試劑以及特種氣體等列示其中

，對(duì)“關(guān)鍵戰(zhàn)略材料”進(jìn)行鼓勵(lì)與支持。支持類2024-01工信部、科技部等七部門《關(guān)于推動(dòng)未來(lái)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展的實(shí)施意見》明確提出發(fā)展先進(jìn)半導(dǎo)體等關(guān)鍵戰(zhàn)略材料

，實(shí)施國(guó)家科技重大項(xiàng)目和重大科技攻關(guān)工程

，突破關(guān)鍵核心技術(shù)。支持類2025-03國(guó)稅局《關(guān)于做好2025年享受稅收優(yōu)惠政策的集成電路企業(yè)或項(xiàng)目、軟件企業(yè)清單制定工作的通知》明確2025年集成電路企業(yè)（含光刻膠企業(yè)）增值稅加計(jì)抵減政策延續(xù)實(shí)施。支持類2025-08工信部、市監(jiān)局《電子信息制造業(yè)2025－

2026年穩(wěn)增長(zhǎng)行動(dòng)方案》提出圍繞電子元器件、新型電子材料、

電子專用設(shè)備等基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè)進(jìn)行支持和保護(hù)，幫助企業(yè)開展核心產(chǎn)品、核心技術(shù)知識(shí)產(chǎn)權(quán)海外布局。支持類u政策整體趨勢(shì)來(lái)看，聚焦于推動(dòng)光刻膠國(guó)產(chǎn)化，減少對(duì)進(jìn)口產(chǎn)品的依賴

，尤其是在高端光刻膠領(lǐng)域（KrF、ArF、

EUV）

。同時(shí)

，支持光刻膠關(guān)鍵原材料的自主研發(fā)與生產(chǎn)

，進(jìn)一步完善我國(guó)光刻膠的全生態(tài)鏈。政策以支撐型為主，推動(dòng)光刻膠國(guó)產(chǎn)化，減少對(duì)進(jìn)口產(chǎn)品依賴數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，億歐智庫(kù)6u光刻膠行業(yè)的發(fā)展正面臨認(rèn)證、技術(shù)、供應(yīng)鏈、設(shè)備四大核心壁壘的疊加制約。產(chǎn)品端需跨越超2年的嚴(yán)格客戶驗(yàn)證周期

，技術(shù)端依賴難以復(fù)制的經(jīng)驗(yàn)型專利配方

，供應(yīng)鏈端受困于上游原材料的進(jìn)口依賴

，生產(chǎn)端則受限于高端光刻機(jī)的進(jìn)口壟斷與供應(yīng)限制

，多重挑戰(zhàn)交織下

，行業(yè)國(guó)產(chǎn)化突破與規(guī)?；l(fā)展仍需攻克關(guān)鍵瓶頸。億歐智庫(kù)：光刻膠行業(yè)問題與挑戰(zhàn)問題與挑戰(zhàn)產(chǎn)品驗(yàn)證周期長(zhǎng)?

下游客戶的認(rèn)證要求嚴(yán)格

，光刻膠產(chǎn)品的驗(yàn)證周期長(zhǎng)。?

下游客戶對(duì)光刻膠專用化學(xué)品供應(yīng)商的選擇非常謹(jǐn)慎

，通常采用認(rèn)證采購(gòu)的模式。

驗(yàn)證周期在2年以上。重依賴經(jīng)驗(yàn)積累的專利技術(shù)?

光刻膠產(chǎn)品需要根據(jù)不同的應(yīng)用需求定制

，產(chǎn)品品類多

，

配方中原材料比重的細(xì)微差異將直接影響光刻膠的性能

，且配方難以逆向解析

，嚴(yán)重依賴于經(jīng)驗(yàn)積累所形成的技術(shù)專上游原材料國(guó)產(chǎn)化低?

原材料對(duì)光刻膠品質(zhì)非常重要。目前我國(guó)原材料市場(chǎng)基本被外國(guó)廠商壟斷

，

高度依賴進(jìn)口

，

由此增加了國(guó)內(nèi)光刻膠生產(chǎn)成本及供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)。?

光刻膠生產(chǎn)商需要購(gòu)置光刻機(jī)用于內(nèi)部配方測(cè)試

，根據(jù)驗(yàn)證結(jié)果調(diào)整配方。

光刻機(jī)設(shè)備昂貴

，數(shù)量有限且供應(yīng)可能受國(guó)外限制

，尤其是EUV光刻機(jī)目前全球只有ASML能批量供應(yīng)。利。光刻膠行業(yè)壁壘高筑

，國(guó)產(chǎn)化替代迫在眉睫數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，億歐智庫(kù)生產(chǎn)設(shè)備依賴進(jìn)口7中游：光刻膠產(chǎn)品按化學(xué)機(jī)理分類PCB光刻膠濕膜光刻膠LCD光刻膠彩色光刻膠半導(dǎo)體光刻膠u光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈的主要代表企業(yè)

，上游原材料包含：樹脂、單體、感光劑、溶劑等頭部企業(yè)；

中游光刻膠主要包含：

PCB、

LCD和半導(dǎo)體；下游應(yīng)用場(chǎng)景主要分布在：印刷電路板、液晶顯示屏和芯片制造。生產(chǎn)與檢測(cè)設(shè)備不銹鋼反應(yīng)釜

襯氟反應(yīng)釜光學(xué)進(jìn)步機(jī)

涂膠顯影劑光刻機(jī)缺陷分析設(shè)備下游：應(yīng)用應(yīng)用場(chǎng)景彩色濾光片晶圓制造觸摸電極細(xì)微圖形

加工應(yīng)用領(lǐng)域消費(fèi)電子家用電器航空航天正性光刻膠干膜光刻膠觸控用光刻膠G光刻膠負(fù)性光刻膠光成像阻礙油墨TFT正性光刻膠ArF光刻膠中游：配方是光刻膠的核心技術(shù)

，需要足夠的研發(fā)資源、經(jīng)驗(yàn)積累；還需要相應(yīng)的光刻設(shè)備進(jìn)行測(cè)試和調(diào)整。上游：原材料是影響光刻膠品質(zhì)的重要因素

，從成本上看

，樹脂占比最大約50%

，其次是添加劑占比約35%

，剩余成本合計(jì)約15%下游：制程節(jié)點(diǎn)和良率是應(yīng)用的重點(diǎn)影響因素

，需要同時(shí)滿足技術(shù)性能達(dá)標(biāo)和行業(yè)需求契合的同時(shí)

，保證成本平衡。上游：原材料與設(shè)備原材料溶劑添加助劑成膜樹脂光引發(fā)劑光刻膠產(chǎn)業(yè)圖譜億歐智庫(kù)：光刻膠產(chǎn)業(yè)圖譜數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，億歐智庫(kù)KrF光刻膠I光刻膠8目錄CONTENTS02

光刻膠材料分析2.1光刻膠分類2.2PCB光刻膠2.3LCD光刻膠2.4半導(dǎo)體光刻膠

01

光刻膠材料現(xiàn)狀分析1.1光刻膠背景及定義1.2市場(chǎng)規(guī)模1.3驅(qū)動(dòng)因素1.4行業(yè)壁壘1.5行業(yè)圖譜

03

未來(lái)趨勢(shì)分析3.1市場(chǎng)發(fā)展趨勢(shì)分析3.2技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)分析應(yīng)用領(lǐng)域細(xì)分種類化學(xué)反應(yīng)（正/負(fù)）光線波長(zhǎng)技術(shù)壁壘PCB光刻膠干性正負(fù)都有320-400nm低濕性436nm組焊油墨

LCD光刻膠彩色負(fù)性為主313/365/405nm中黑色負(fù)性為主觸摸屏正性為主365/436nmTFT-LCD正性365/436nm半導(dǎo)體光刻膠G正負(fù)都有436nm高I正負(fù)都有365nmArF2um以下以正性為主193nmKrF248nmEUV13.5nm光刻膠?

光刻膠是半導(dǎo)體制造的核心材料

，行業(yè)壁壘較高。?

光刻膠是半導(dǎo)體制造工藝中冠科技樹的核心材料

，其品質(zhì)直接決定集成電路的性能和良率，也是驅(qū)動(dòng)摩爾定律得以實(shí)現(xiàn)的

關(guān)鍵材料。?

光刻膠按照應(yīng)用領(lǐng)域可以分為

PCB、

LCD、半導(dǎo)體用光刻膠

三大類。?

其中

，半導(dǎo)體黃刻膠的技術(shù)門檻最高

，專利技術(shù)、原材料、設(shè)備驗(yàn)證、客戶認(rèn)證使得行業(yè)

壁壘高筑。u光刻膠按照下游應(yīng)用領(lǐng)域劃分

，主要可分為PCB、面板、半導(dǎo)體三類

，每一類光刻膠又有各自細(xì)分品類。按照光源波長(zhǎng)的從大到小

，可分為紫外寬譜(300-450nm)、G線(436nm)、

I線(365nm)、

KrF(248nm)、ArF(193nm)、

EUV(13.5nm)等主要品類。光刻膠分類：

主流為PCB、面板及半導(dǎo)體光刻膠億歐智庫(kù)：光刻膠分類數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，億歐智庫(kù)10u

PCB光刻膠可分為濕膜光刻膠、干膜光刻膠和組焊油墨三大類

，其中濕膜光刻膠分辨率高、材料成本低

，同時(shí)由于初期設(shè)備投資高

，更多集中在大型PCB工廠。u干膜是用特殊的薄膜貼在處理后的敷銅板上

，進(jìn)行曝光顯影；濕膜和光成像阻焊油墨則是涂布在敷銅板上

，待其干燥后進(jìn)行曝光顯影。干膜與濕膜各有優(yōu)勢(shì)

，總體來(lái)說(shuō)濕膜光刻膠分辨率高于干膜，價(jià)格更低廉，正在對(duì)干膜光刻膠的部分市場(chǎng)進(jìn)行替代。u組焊油墨與光刻膠在定義、用途和化學(xué)成分等方面存在顯著差異。組焊油墨是在電子行業(yè)中

，特別是電路板等電子焊接過程中

，防止焊料（如錫）流動(dòng)到不希望焊接的區(qū)域。主要功能是確保焊接的準(zhǔn)確性和電子設(shè)備的穩(wěn)定性

，具有耐熱性、耐化學(xué)腐蝕性和電器絕緣性。億歐智庫(kù)：

PCB光刻膠技術(shù)路線區(qū)分濕膜光刻膠液態(tài)光刻膠均勻涂抹在覆銅

板上

，經(jīng)過曝光、顯影、刻

蝕等工序形成銅線路。材料成本低于干膜光刻膠

，

但加工設(shè)備成本較高。更進(jìn)一步細(xì)分為內(nèi)層感光線

路油墨和外層感光線路油墨。干膜光刻膠將液體光刻膠均勻涂抹在載

體PET薄膜上

，經(jīng)過烘干、冷卻后

，附上PE薄膜

，收卷而成。將干膜光刻膠壓在覆銅板上，經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工

序

，形成PCB上的銅線路。用于涂覆在印刷電路板表面

形成有選擇性的、永久性的

聚合物保護(hù)層的油墨

，防止

在焊錫過程中造成的短路

，保證PCB在運(yùn)輸、存放、使

用時(shí)的安全性。進(jìn)一步可以細(xì)分為UV固化組焊油墨和液態(tài)感光組焊油墨。231PCB光刻膠技術(shù)路線拆解數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，億歐智庫(kù)組焊油墨11成分概念主要由樹脂（如環(huán)氧樹脂、聚氨酯、丙烯

酸樹脂）

、硬化劑及填料、染料和紫外線

反應(yīng)物質(zhì)構(gòu)成。主要功能光成像阻焊油墨是在PCB的制造過程中起阻焊作用的油墨

，能夠防止焊錫搭線造成

的短路

，可保證印刷電路板在制作、運(yùn)輸、貯存、使用時(shí)的安全性、

電性能不變性。產(chǎn)品定位?

UV固化阻焊油墨：

附著力較差

，用于

精度要求不高的PCB上?

感光阻油墨：精密度較高u濕膜和干膜的區(qū)別主要在于涂敷方式。濕膜光刻膠直接以液態(tài)的形式涂敷在待加工基材的表面；干膜光刻膠則是由預(yù)先配制好的液態(tài)光刻膠涂布在載體薄膜上

，經(jīng)處理形成固態(tài)光刻膠薄膜后再被直接貼附到待加工基材上。u組焊油墨與光刻膠在定義、用途和化學(xué)成分等方面存在顯著差異

，組焊油墨是在電子行業(yè)中

，特別是電路板等電子焊接過程中

，防止焊料（如錫）流動(dòng)到不希望焊接的區(qū)域。主要功能是確保焊接的準(zhǔn)確性和電子設(shè)備的穩(wěn)定性

，具有耐熱性、耐化學(xué)腐蝕性和電器絕緣性。加工難易更難導(dǎo)致電路缺陷的可能更小精度較高價(jià)格較低材料利用率高后處理成本無(wú)保護(hù)膜

，廢棄物少污染性高優(yōu)勢(shì)正逐步取代干膜光刻膠市場(chǎng)加工難易更容易導(dǎo)致電路缺陷的可能更大精度較低價(jià)格較貴材料利用率較低后處理成本保護(hù)膜需回收處理污染性低優(yōu)勢(shì)處理密度較高的電路濕膜光刻膠主要功能：分辨率和線寬較大產(chǎn)品定位：制作較簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)干膜光刻膠主要功能：具有較高的分辨率和較小的線寬產(chǎn)品定位：制作微小結(jié)構(gòu)不同技術(shù)路線對(duì)于制程工藝的影響億歐智庫(kù)：

PCB光刻膠類別區(qū)別億歐智庫(kù)：阻焊油墨概述數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，億歐智庫(kù)濕膜光刻膠干膜光刻膠12u

PCB光刻膠整體國(guó)產(chǎn)率較高

，但是在干膜光刻膠產(chǎn)品上仍然高度依賴進(jìn)口。雖然我國(guó)擁有全球近一半的PCB產(chǎn)能

，但中國(guó)大陸干膜光刻膠市場(chǎng)主要由日本旭化成、

日立化成、

中國(guó)臺(tái)灣長(zhǎng)興化學(xué)等企業(yè)壟斷

，三大企業(yè)達(dá)到了全球市占率近80%。在光成像阻焊油墨方面

，僅日本一家企業(yè)太陽(yáng)油墨就占據(jù)了60%的世界市場(chǎng)份額。u中國(guó)光刻膠企業(yè)主要生產(chǎn)技術(shù)水平較低的PCB用光刻膠

，

占本國(guó)自身光刻膠的整體生產(chǎn)結(jié)構(gòu)的94%。

目前

，容大感光、廣信材料、

東方材料、北京力拓達(dá)等內(nèi)資企業(yè)已占據(jù)國(guó)內(nèi)50%左右的濕膜光刻膠和光成像阻焊油墨市場(chǎng)份額。億歐智庫(kù)：

PCB光刻膠國(guó)產(chǎn)化情況主要類型細(xì)分類型國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程國(guó)內(nèi)公司國(guó)外公司PCB光刻膠干膜光刻膠5%容大感光、北京科華、晶銳電材、能動(dòng)科技旭化成、

日立化成、陶氏杜邦、科隆濕膜光刻膠50%容大感光、廣信材料、東方材料、飛凱材料三井化學(xué)阻焊油墨50%容大感光、廣信材料、東方材料、北京力拓達(dá)日立化成、太陽(yáng)油墨、亨斯邁阻焊油墨技術(shù)壁壘：配方需同時(shí)滿足耐高溫、耐化學(xué)腐蝕、絕

緣性、

附著力、分辨率等多重核心性能，成分搭配（樹脂、

固化劑、顏料、助劑等）的細(xì)微調(diào)整會(huì)直接影響最終效果。對(duì)生產(chǎn)設(shè)備的精度和工藝優(yōu)化能力要求極高。需

精準(zhǔn)控制分散均勻性、粘度穩(wěn)定性、

固化

反應(yīng)速率等關(guān)鍵參數(shù)。濕膜光刻膠技術(shù)壁壘：加工難度大

，污染性高。濕膜光刻膠對(duì)樹脂

的“

窄分布、高純度、光敏適配”要求

，使得合成工藝面臨多重挑戰(zhàn)。濕膜光刻膠需要使用大量有機(jī)溶劑溶解樹脂和光引發(fā)劑

，這些溶劑在涂覆、曝光、剝離過程中會(huì)大量揮發(fā)產(chǎn)生高濃度揮發(fā)性有機(jī)化合物

，同時(shí)在顯影、蝕刻、剝離等工藝會(huì)產(chǎn)生大量廢液。干膜光刻膠技術(shù)壁壘：光引發(fā)劑對(duì)于干膜光刻膠、光成像阻焊油墨的感光度、深度固化、密著度等性能起著決定性作用。使用對(duì)曝光光能吸收效率更高、感光速度更快的高性能光引發(fā)劑或使用復(fù)配型的光引發(fā)劑便于吸收更大波長(zhǎng)范圍的光能提高感度是光引發(fā)劑的發(fā)展趨勢(shì)。國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程情況：基本實(shí)現(xiàn)本土替代，逐步取代進(jìn)口產(chǎn)品數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，億歐智庫(kù)13PCB光刻膠：濕膜光刻膠、阻焊光刻膠等顯示用光刻膠：觸摸屏sensor用光刻膠、TFT陣列（Array）用光刻膠等半導(dǎo)體光刻膠：G線光刻

膠、I線光刻膠等特種光刻膠：用于觸摸屏、視窗玻璃、智能手機(jī)等產(chǎn)

品的精密加工領(lǐng)域核心競(jìng)爭(zhēng)力技術(shù)優(yōu)勢(shì)：

擁有PCB光刻膠、

顯示用光刻膠、

半導(dǎo)體光刻膠等產(chǎn)品的核心配方

，

以

及關(guān)鍵材料自主研發(fā)合成的核心技術(shù)；

截至報(bào)告期末

，公司及子公司擁有發(fā)明專利

51項(xiàng)

，

實(shí)用新型專利3項(xiàng)。

其中

，報(bào)告期內(nèi)新增授權(quán)發(fā)明專利1項(xiàng)

，

申請(qǐng)受理的發(fā)明

專利3項(xiàng)。產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

已具備了包括PCB感光線路油墨、

PCB感光阻焊油墨等產(chǎn)品的完整系列

，

是行業(yè)內(nèi)生產(chǎn)PCB感光油墨產(chǎn)品品種最為齊全的企業(yè)之一

，

陸續(xù)推出了多種處于行

業(yè)領(lǐng)先地位的高端產(chǎn)品?？蛻魞?yōu)勢(shì)：

在PCB行業(yè)擁有多家大中型從事線路板制造的忠實(shí)客戶群

，并建立了長(zhǎng)

期、

穩(wěn)定的合作關(guān)系

，而且被多家企業(yè)評(píng)定為優(yōu)秀供應(yīng)商。地理優(yōu)勢(shì)：

子公司分布在廣州、

惠州、

珠海、

蘇州

，均位于下游客戶主要集中的珠

三角和長(zhǎng)三角地區(qū)

，

已在全國(guó)各地多處設(shè)立了辦事處。產(chǎn)能布局海外：

在泰國(guó)設(shè)立子公司

，貼近客戶海外生產(chǎn)基地的需求

，強(qiáng)化供應(yīng)鏈響應(yīng)能力

，

提升產(chǎn)品在全球市場(chǎng)的滲透率。與日本artience株式會(huì)社合資成立的深圳市容大翊彩科技有限公司

，

專注于液晶顯

示器用彩色光刻膠的研發(fā)、

制造及銷售。國(guó)內(nèi)：

珠海生產(chǎn)基地一期項(xiàng)目的感光干膜生產(chǎn)線已經(jīng)開始試生產(chǎn)。

平板顯示及半

導(dǎo)體光刻膠生產(chǎn)線計(jì)劃于2025年下半年啟動(dòng)試生產(chǎn)u容大感光成立于1996年

，是一家專業(yè)生產(chǎn)高端感光電子化學(xué)材料的國(guó)家級(jí)高新技術(shù)企業(yè)

，主要從事PCB感光油墨、光刻膠及配套化學(xué)品、特種油墨等電子化學(xué)品的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。作為國(guó)內(nèi)電子感光化學(xué)材料的領(lǐng)軍企業(yè)之一

，是國(guó)內(nèi)少數(shù)在電子電路、顯示面板和半導(dǎo)體三大應(yīng)用領(lǐng)域的光刻膠產(chǎn)品上均實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)的企業(yè)。u容大感光在PCB光刻膠業(yè)務(wù)根基扎實(shí)

，顯示和半導(dǎo)體光刻膠正在快速發(fā)展

，將成為新的增長(zhǎng)點(diǎn)。3.5%93.9%2021

2022

2023

20242025H12024年?duì)I收結(jié)構(gòu)總營(yíng)收增長(zhǎng)率18.8%9.5

8.95.1容大感光：

PCB光刻膠絕對(duì)主導(dǎo)

光刻膠收入8.7%8.0

7.6PCB光刻膠顯示光刻膠及半導(dǎo)體光刻膠2.6%

總營(yíng)收-6.4%7.4

7.0億歐智庫(kù)：容大感光市場(chǎng)經(jīng)營(yíng)情況數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，公司官網(wǎng)、億歐智庫(kù)2021-2025H1光刻膠收入

（億元）44.5%7.9

7.4其他4.314u彩色濾光片是LCD實(shí)現(xiàn)彩色顯示的關(guān)鍵器件

，

占面板成本的14%-16%；在彩色濾光片中

，彩色光刻膠和黑色光刻膠是核心材料

，

占其成本的27%；其中

，黑色光刻膠占彩色濾光片材料成本的6%-8%。u面板光刻膠主要分為TFT-LCD光刻膠、彩色光刻膠黑色光刻膠和觸摸屏光刻膠。

四類面板光刻膠被應(yīng)用在LCD制造過程的不同工序中。TFT-LCD光刻膠用于加工液晶面板前段Array制程中的微細(xì)圖形電極；彩色光刻膠和黑色光刻膠用于制造LCD中的彩色濾光片；觸摸屏光刻膠用于制作觸摸電

極。?TFT光刻膠主要用于TFT-LCD

（薄膜晶體管液晶顯示器）

的制造過程中

，特別是在TFT-LCD制程中的Array段。?在TFT制造過程中發(fā)揮著圖形轉(zhuǎn)移、蝕刻掩蔽、層間絕緣和平坦化等重要作用

，是實(shí)現(xiàn)TFT器件精確制造和高性能的關(guān)鍵材

料。TFT光刻膠?

黑色光刻膠在光刻工藝中，可用于光刻工藝中的光刻膠

層控制、準(zhǔn)直模式生成、光

刻膠圖案轉(zhuǎn)移等步驟。

它通

過光敏反應(yīng)

，將光阻膠層暴

露于紫外線下

，形成所需的

圖案結(jié)構(gòu)。?

彩色光刻膠是在光刻膠的主要組成部分的基礎(chǔ)上

，增加

了顏料（5%-10%）及分散

劑（5%-10%）

，顏料主要

用于光刻膠的著色

，分散劑

主要用于將顏料均勻的分散

開。?LCD觸摸屏光刻膠能夠?qū)崿F(xiàn)

微小圖案的精確轉(zhuǎn)移

，滿足

LCD觸摸屏高像素密度的要

求

，使屏幕顯示更加清晰、

細(xì)膩。?它被涂在透明的基板上

，通

過光學(xué)曝光和化學(xué)反應(yīng)將帶

有壓感傳感器的電極印刷在

上面。彩色光刻膠LCD觸摸屏用光刻膠黑色光刻膠顯示面板技術(shù)路線拆解億歐智庫(kù)：顯示面板光刻膠分類數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，億歐智庫(kù)15u

TFT-LCD光刻膠主導(dǎo)Array制程的圖形精度與耐高溫能力

，對(duì)制程的影響集中在前端關(guān)鍵環(huán)節(jié)：u彩色光刻膠RGB三色用于制備CF的像素單元

，核心需求是高透光率與色純度

，對(duì)制程的影響聚焦于多色套刻、顏料控制；u黑色光刻膠用于CF的黑矩陣

，核心需求是高遮光性與柔性適配

，對(duì)制程的影響體現(xiàn)在遮光控制、機(jī)械性能匹配；u觸摸屏光刻膠用于制作ITO/銀納米線觸控電極

，核心需求是高透光率與低電阻

，對(duì)制程的影響集中在圖形化精度、表面處理。億歐智庫(kù)：顯示面板光刻膠制造流程觸摸屏光刻膠主要用于玻璃基板上趁機(jī)ITO

制作觸摸電極

，需兼顧高透光

性、與ITO/金屬良好附著力和精細(xì)圖形轉(zhuǎn)移能力。TFT-LCD光刻膠主要應(yīng)用于TFT-LCD或AMOLED制

造的陣列段

，包括TFT的圖案化光

刻膠

，保護(hù)絕緣層光刻膠、

ITO圖

案化光刻膠

，OLED陣列中的平坦

化光刻膠等。黑色光刻膠通過高濃度黑色顏料有效阻擋UV

和可見光

，用于形成黑色矩陣，防止漏光

，讓色彩更純粹、對(duì)比

度更高。彩色光刻膠色漿占比超過50%

，主要應(yīng)用于彩

色濾光片制作

，分為紅、綠、藍(lán)三

原色光刻膠

，經(jīng)過涂抹、曝光、顯

影等工序組成了顏色層。將二者粘合中間填充液晶切割成面板與其他組件組裝前段Array制程成膜

光刻

刻蝕

脫模不同技術(shù)路線對(duì)于制程工藝的影響后段模組組裝中段CellTFT-LCD光刻膠彩色光刻膠觸摸屏光刻膠黑色光刻膠玻璃基板TFT玻璃玻璃基板彩色濾光片數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，億歐智庫(kù)ITO導(dǎo)電膜黑色矩陣研磨RGB16主要類型細(xì)分類型國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程國(guó)內(nèi)公司國(guó)外公司顯示面板光刻膠彩色光刻膠5%容大感光、欣奕華、雅克科技JSR株式會(huì)社、信越化學(xué)、富士電子、默克黑色光刻膠5%博硯電子、雅克科技東京應(yīng)化、富士電子、默克TFT光刻膠1%北旭電子、晶瑞電材、容大感光、飛凱材料、雅克科技東京應(yīng)化、住友化學(xué)、陶氏、杜邦、東進(jìn)世美肯觸摸屏光刻膠30%-40%

JSR株式會(huì)社、信越化學(xué)、富士電子、默克u伴隨顯示產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移

，國(guó)內(nèi)面板光刻膠市場(chǎng)規(guī)?？焖贁U(kuò)張。2009年開始

，面板產(chǎn)業(yè)鏈逐漸向中國(guó)轉(zhuǎn)移。經(jīng)過十年的快速擴(kuò)張

，中國(guó)面板行業(yè)后來(lái)者居上。面板光刻膠作為其核心材料

，需求量也在不斷增加。彩色和黑色光刻膠市場(chǎng)國(guó)產(chǎn)化率較低

，觸控屏光刻膠逐步實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化替代。觸控屏光刻膠國(guó)產(chǎn)化率在30%-40%左右；彩色和黑色光刻膠行業(yè)壁壘較高

，國(guó)產(chǎn)化率僅為5%左右。u

當(dāng)前面板光刻膠的生產(chǎn)主要被日韓廠商壟斷

，

以需求最多的彩色光刻膠為例

，東京應(yīng)化、

LG化學(xué)、

東洋油墨、住友化學(xué)、三菱化學(xué)等日本、韓國(guó)

企業(yè)占據(jù)了約85%以上的市場(chǎng)份額

，我國(guó)大陸供應(yīng)能力較弱。億歐智庫(kù)：顯示面板光刻膠國(guó)產(chǎn)化情況TFT-LCD光刻膠TFT光刻膠核心原材料為線性酚醛樹脂。線性酚醛樹脂具有耐水性好、不易燃、耐酸等特點(diǎn)

，在光刻膠生產(chǎn)過程中應(yīng)用

廣泛。在行業(yè)發(fā)展初期

，受技術(shù)壁壘高、

生產(chǎn)成本高等因素限制

，我國(guó)線性酚醛

樹脂高度依賴進(jìn)口。LCD觸摸屏光刻膠我國(guó)在面板光刻膠領(lǐng)域的國(guó)產(chǎn)化率同樣不高

，產(chǎn)能主要集中在相對(duì)低端的觸摸

屏光刻膠領(lǐng)域。用于在玻璃基板上沉積ITO

，從而制作圖形化的觸摸電極。彩色光刻膠通過精確控制色漿在光刻膠中的分布和濃度

，確保每個(gè)像素能夠呈現(xiàn)出所需的顏色

，為顯示面板提供高質(zhì)量的顯示效果。彩色光刻膠和黑色光刻膠所用的專用化學(xué)品如顏料、光引發(fā)劑、樹脂等原料，性能要求特別

，品質(zhì)要求苛刻

，

壟斷程度更高

，如高性能光引發(fā)劑市場(chǎng)長(zhǎng)期被巴斯夫公司壟斷，LCD光刻膠樹脂主要由兩家日本公司供應(yīng)。顯示面板光刻膠國(guó)產(chǎn)替代：

國(guó)內(nèi)市場(chǎng)起步較晚

，已形成一定的國(guó)產(chǎn)替代基礎(chǔ)彩色/黑色光刻膠數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，億歐智庫(kù)17汽車輪胎用橡膠化學(xué)品：樹脂類、助劑類、貿(mào)易產(chǎn)

品電子材料行業(yè)：半導(dǎo)體光

刻膠及配套試劑、顯示光

刻膠、電子類樹脂、CMP

拋光墊生物可降解材料：PBAT核心競(jìng)爭(zhēng)力生產(chǎn)規(guī)模與產(chǎn)業(yè)布局：

國(guó)內(nèi)深紫外KrF光刻膠最大量產(chǎn)供應(yīng)商以及國(guó)內(nèi)首家TFT-LCDArray光刻膠生產(chǎn)商、

國(guó)內(nèi)最大的液晶正性光刻膠本土供應(yīng)商。

公司在潛江擁有8000

噸平板用光刻膠產(chǎn)能

，

同時(shí)

，年產(chǎn)1.1萬(wàn)噸半導(dǎo)體、

平板顯示用光刻膠及2萬(wàn)噸相關(guān)配套

試劑項(xiàng)目已部分建設(shè)完成，技術(shù)研發(fā)：

截至2025年6月30日

，公司累計(jì)專利申請(qǐng)630件

，其中發(fā)明專利430件；

累計(jì)

授權(quán)專利462件

，其中發(fā)明專利276件。產(chǎn)品多樣化及定制服務(wù)：

能夠提供從高純優(yōu)質(zhì)原料樹脂到半導(dǎo)體/顯示光刻膠、

光刻膠配

套試劑等產(chǎn)業(yè)鏈多產(chǎn)品系列的配套服務(wù)

，覆蓋不同應(yīng)用領(lǐng)域和多樣化客戶群體的需求人才與技術(shù)引進(jìn)：

管理層在酚醛樹脂、

橡膠助劑、

光刻膠、

可降解材料、

電子類樹脂等

領(lǐng)域擁有豐富的研究、

生產(chǎn)、

管理經(jīng)驗(yàn)。

巴斯夫作為完全生物降解塑料生產(chǎn)國(guó)持續(xù)授權(quán)

公司使用其專有技術(shù)和指定相關(guān)設(shè)備

，且是國(guó)內(nèi)唯一一家得到巴斯夫授權(quán)的企業(yè)。產(chǎn)能布局國(guó)外：

計(jì)劃投資約5億元人民幣在泰國(guó)建設(shè)年產(chǎn)3萬(wàn)噸的橡膠助劑生產(chǎn)基地

，預(yù)計(jì)2027年

建成。國(guó)內(nèi)：

珠?；兀?/p>

22萬(wàn)噸/年聚酯樹脂項(xiàng)目2025年上半年投產(chǎn)

，未來(lái)可能延伸至光刻膠

用聚酯基材領(lǐng)域。上?；囟冢?/p>

規(guī)劃建設(shè)高端光刻膠研發(fā)平臺(tái)

，聚焦ArF浸沒式光刻膠

（覆蓋14nm）

及EUV封裝膠研發(fā)

，預(yù)計(jì)2026年啟動(dòng)量產(chǎn)。u彤程新材通過收購(gòu)北旭電子股權(quán)

，成為顯示面板光刻膠國(guó)內(nèi)第一大供應(yīng)商

，在市場(chǎng)份額方面

，產(chǎn)品國(guó)內(nèi)市占率約29%。其中

，公司顯示光刻膠產(chǎn)品在國(guó)內(nèi)最大面板廠B客戶的市場(chǎng)占有率已達(dá)60%左右；在H客戶部分工廠及E客戶的OLED工廠中

，更是實(shí)現(xiàn)了100%的份額覆蓋。整體來(lái)看

，將持續(xù)保持穩(wěn)健增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。憑借在OLED面板用高分辨率光刻膠與低溫光刻膠領(lǐng)域的技術(shù)突破

，成為國(guó)內(nèi)首家實(shí)現(xiàn)該類產(chǎn)品國(guó)產(chǎn)化并成功量產(chǎn)的企業(yè)。u公司在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域也有巨大潛力

，2024上半年公司KrF光刻膠增長(zhǎng)率超過60%

，國(guó)內(nèi)市占率超40%；ArF光刻膠方面

，公司已經(jīng)開始連續(xù)接單量產(chǎn)。2021-2025H1半導(dǎo)體光刻膠及顯示面板光刻膠營(yíng)收（億元）總營(yíng)收

顯示面板光刻膠

半導(dǎo)體光刻膠

總營(yíng)收增長(zhǎng)率32.729.423.2

25.0

17.7%13.4%

11.1%16

57.7%

.1.2

2.41.8

2.6

2.0

3.3

3.0

1.8

2.02.5%22.8%74.7%2021

2022

2023

20242025H12025上半年?duì)I收結(jié)構(gòu)彤程新材：顯示面板光刻膠國(guó)內(nèi)市占率穩(wěn)居第一億歐智庫(kù)：彤程新材市場(chǎng)經(jīng)營(yíng)情況特種橡膠助劑行業(yè)

電子材料行業(yè)全生物降解材料行業(yè)數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，公司官網(wǎng)、億歐智庫(kù)18u半導(dǎo)體光刻膠不同分類對(duì)應(yīng)不同波長(zhǎng)。按曝光波長(zhǎng)可分為G線、

I線、

KrF、ArF、

EUV

，分別對(duì)應(yīng)波長(zhǎng)436nm、365nm、248nm、

193nm、13.5nm

，在半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品升級(jí)過程中的不同技術(shù)要求中

，G線與I線屬于傳統(tǒng)光刻膠

，基于酌醛樹脂體系

，提供成膜性及抗刻蝕性能；

KrF感光能力與透光性提升

，解決248nm波長(zhǎng)下透光性問題并對(duì)光信號(hào)進(jìn)行放大；ArF作為無(wú)苯環(huán)化學(xué)放大型光刻膠

，采用化學(xué)放大機(jī)理

，提升無(wú)苯環(huán)材料抗刻蝕能力；

EUV屬于新材料體系光刻膠

，利用金屬氧化物提高感光速度、抗刻蝕能力。

隨著光刻膠工藝分辨率逐步提升

，不斷促進(jìn)集成電路制程先進(jìn)化。種類適配晶圓尺寸應(yīng)用集成電路制程設(shè)備G線6寸/8寸0.5um以上接近式I線6寸/8寸/12寸0.25-0.5um以上接近式KrF8寸/12寸0.13-0.25um以上掃描投影式ArF

（干式）12寸65-130nm步進(jìn)投影式ArF

（浸沒式）12寸7-65nm浸沒式EUV12寸7nm以下極紫外式億歐智庫(kù)：半導(dǎo)體光刻膠在產(chǎn)品升級(jí)過程中的不同技術(shù)要求

}

感光能力

248nm透光性I線傳統(tǒng)光刻膠

，基于酚醛樹脂體系。

酚醛樹脂作為主體

，提供化學(xué)放大型光刻膠

，解決248nm波長(zhǎng)下透光性問題并對(duì)光信號(hào)進(jìn)行放大。無(wú)苯環(huán)化學(xué)放大型光刻膠

，

丙烯酸類樹脂

，沿用化學(xué)放大機(jī)理提升無(wú)苯環(huán)材料抗刻蝕能力新材料體系光刻膠

，利用金屬氧化物提高感光速度、

抗刻蝕能力;或在聚合物中加入吸色基團(tuán)提升吸收能力;小分子光刻膠材料體系 沉積成底膜旋轉(zhuǎn)涂膠軟烘對(duì)準(zhǔn)與曝光曝光后烘培不合格硅片顯影檢查豎膜烘培顯影返工

↓

例子注入

合格硅片

刻蝕

克股苯環(huán)193nm吸收感光速度放氣控制半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)路線拆解KrFArFEUV成膜性及抗刻蝕性能；

重氮萘醌感光材料

，提供感光性能。億歐智庫(kù)：半導(dǎo)體光刻膠工藝流程示意圖億歐智庫(kù)：半導(dǎo)體光刻技術(shù)關(guān)鍵參數(shù)數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，億歐智庫(kù)等離子體去膠清洗G線19u半導(dǎo)體光刻膠在半導(dǎo)體制造中的工藝環(huán)節(jié)發(fā)揮重要作用，不同技術(shù)路線意味著成熟度不同的制程工藝。

目前

，在半導(dǎo)體光刻工藝中

，曝光光源從

436nm的汞燈G線可見光發(fā)展到365nm的汞燈I線中的紫外光

，再到248nm的氧化氮(KrF)及193nm的氧化氬(ArF)準(zhǔn)分子激光

，

目前發(fā)展到13.5nm的極紫外輻射(EUV)

，曝光光源波長(zhǎng)不斷縮短

，光刻技術(shù)分辨率不斷提升。波長(zhǎng)每縮短一個(gè)數(shù)量級(jí)

，光刻膠的分子設(shè)計(jì)、工藝參數(shù)和配套流程都需重新構(gòu)建

，形成波長(zhǎng)-材料-工藝的強(qiáng)耦合關(guān)系。EUV?

關(guān)鍵特征：

工作原理從光化學(xué)變?yōu)楣馕锢?/p>

（等離子體）

；全新光刻膠體系：

金屬氧簇、

分子玻璃等?

工藝：

真空環(huán)境操作

，對(duì)光源功率、掩模缺陷、

光刻膠靈敏度有極高要求；

面臨隨機(jī)效應(yīng)、

光子噪聲等物理極限挑戰(zhàn)?

應(yīng)用：

革命級(jí)技術(shù)

，單次曝光實(shí)現(xiàn)極細(xì)微圖形成為可能ArF(浸沒式）?

關(guān)鍵特征：

在鏡頭和硅片間加入水

，等效波長(zhǎng)縮短至134nm，光刻膠需具備抗浸漬性

，

防止成分被水浸出?

工藝：

極大地增加了光刻和刻蝕步驟

，成本飆升

，對(duì)光刻膠的穩(wěn)定性和純度要求達(dá)到極致?

應(yīng)用：

通過多重曝光技術(shù)延伸

193nm光刻壽命億歐智庫(kù)：半導(dǎo)體光刻工藝與曝光光源波長(zhǎng)關(guān)系曝光光源波長(zhǎng)不斷縮短

，光刻技術(shù)分辨率不斷提升KrF?

關(guān)鍵特征：

引入化學(xué)放大技術(shù)

（CAR）

，對(duì)抗等離子體刻蝕性要求高?

工藝：

工藝步驟增加

，需要集成抗反射涂層?

應(yīng)用：

開啟了深亞微

米時(shí)代G線?

關(guān)鍵特征：

分辨率低

，對(duì)比度一般?

工藝：

工藝相對(duì)簡(jiǎn)單

，成本低?

應(yīng)用：

用于早期芯片、半導(dǎo)體器件?

關(guān)鍵特征：

光源需在惰性氣體環(huán)境中激發(fā)

，開發(fā)了丙烯酸酯類樹脂以提升透明度，?

工藝：

工藝窗口窄

，對(duì)環(huán)境和工藝控制要求苛刻

，對(duì)缺陷控制要求極高?

應(yīng)用：

推動(dòng)芯片進(jìn)入納米級(jí)?

關(guān)鍵特征：

分辨率稍

高

，但仍有限?

工藝：

光刻工藝簡(jiǎn)單

，產(chǎn)能高?

應(yīng)用：

廣泛應(yīng)用于微

控制器、

電源管理等

成熟制程1995

2000

2005億歐智庫(kù)：半導(dǎo)體光刻膠核心差異不同技術(shù)路線對(duì)于制程工藝的影響100010010數(shù)據(jù)來(lái)源：阿斯麥官網(wǎng)、公開資料

，億歐智庫(kù)I線ArF(干式）193nm的氧化氬(ArF)準(zhǔn)分子激光365nm的錄燈I線中的紫外光436nm的汞燈G線可見光13.5nm的極紫外輻射(EUV)，248nm的氧化氮(KrF)193nm的氧化氬(ArF)浸沒式分辨率/nm201020152020

20251985

199020主要類型細(xì)分類型國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程國(guó)內(nèi)公司國(guó)外公司半導(dǎo)體光刻膠G/I線國(guó)內(nèi)已量產(chǎn)（30%）晶瑞電材、彤程新材東京化學(xué)、陶氏、

日本橡膠、住友化學(xué)KrF部分量產(chǎn)（5%）彤程新材、晶瑞電材、上海新陽(yáng)東京應(yīng)化、信越、陶氏、杜邦A(yù)rF少量認(rèn)證（不足1%）南大光電、彤程新材信越、

日本橡膠、東京應(yīng)化、杜邦EUV國(guó)內(nèi)尚未量產(chǎn)

日本JSRu半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)壁壘較高

，整體國(guó)產(chǎn)化率不足10%

，尤其14nm以下先進(jìn)制程幾乎100%依賴進(jìn)口。

中國(guó)多家企業(yè)實(shí)現(xiàn)了G/I線膠的國(guó)產(chǎn)化替代

，KrF膠已有部分成熟產(chǎn)品。

國(guó)產(chǎn)化PCB光刻膠整體國(guó)產(chǎn)率較高

，但是在干膜光刻膠產(chǎn)品上仍然高度依賴進(jìn)口。u國(guó)產(chǎn)化方面

，不同技術(shù)節(jié)點(diǎn)的國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程明顯階梯式差異。

目前G/I線光刻膠國(guó)產(chǎn)化率較高

，可以達(dá)到30%

，KrF/ArF光刻膠進(jìn)度稍稍落后

，極少數(shù)企業(yè)實(shí)現(xiàn)ArF光刻膠量產(chǎn)；更高端的EUV光刻膠還在研發(fā)階段。億歐智庫(kù)：半導(dǎo)體光刻膠國(guó)產(chǎn)化情況KrF光刻膠KrF光刻膠是第一個(gè)采用化學(xué)放大技術(shù)的光刻膠

，

以聚對(duì)羥基苯乙烯及其衍生

物為成膜樹脂

，

以磺鹽或硫

鹽為光

致產(chǎn)酸劑。

適用于248nm波長(zhǎng)光源

，

主

要應(yīng)用于邏輯電路和3DNAND堆疊架構(gòu)

中。

隨著堆疊層數(shù)的增加

，使用量將大

幅提升。ArF光刻膠ArF光刻膠適用于193nm波長(zhǎng)光源

，

主要用于邏輯芯片和高端存儲(chǔ)芯片的制造。ArF光刻膠可分為干式和浸沒式

，ArF干式主要應(yīng)用于130-65nm光刻工藝

，

而ArF浸沒式主要應(yīng)用于65-7nm光刻

工藝。

南大光電實(shí)現(xiàn)極少量出貨。EUV光刻膠EUV是最新第五代技術(shù)

，被國(guó)外企業(yè)壟斷。

應(yīng)用于7nm以下集成電路

，先進(jìn)邏

輯芯片和存儲(chǔ)DRAM芯片制造要求光刻

膠具有極高的光敏感度和分辨率

，

同時(shí)

還要具備良好的抗刻蝕性能和低線寬粗

糙度。

國(guó)內(nèi)處于研發(fā)階段。G/I線光刻膠G/I線光刻膠屬于第一和第二代光刻膠

技術(shù)

，

以酚醛樹脂為成膜樹脂

，重氮萘

醌化合物為感光材料。

G線光刻膠國(guó)產(chǎn)

化率超過60%

，I線光刻膠用于6英寸及

以下已完成國(guó)產(chǎn)化。

應(yīng)用于汽車電子、MEMS、

平板等領(lǐng)域。半導(dǎo)體光刻膠國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程：

高端產(chǎn)品國(guó)產(chǎn)替代率較低

，國(guó)內(nèi)主要集中中低端產(chǎn)品數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，億歐智庫(kù)21技術(shù)和產(chǎn)能規(guī)模：

產(chǎn)品技術(shù)指標(biāo)一路領(lǐng)跑國(guó)內(nèi)同行業(yè)

，不僅掌握高純產(chǎn)品技術(shù)

，近百款半

導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品；

同時(shí)建成了上下游的全品類產(chǎn)能體系

，總規(guī)模近百萬(wàn)噸。

其中

，

高純硫

酸、

高純雙氧水已布局四個(gè)生產(chǎn)基地

，近三十萬(wàn)噸產(chǎn)能位居本土首位。高效研發(fā)優(yōu)勢(shì)：

主持了國(guó)家、

省、

市科技項(xiàng)目二十余項(xiàng)

，參與起草了多項(xiàng)國(guó)家和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。截至2025上半年

，公司及下屬子公司共擁有專利181項(xiàng)

，其中發(fā)明專利78項(xiàng)。

TP用正性光刻膠技術(shù)、

負(fù)性光刻膠技術(shù)均為自主開發(fā)

，市場(chǎng)率分別為70%、

60%以上?？蛻糍Y源：

核心客戶包括半導(dǎo)體、

顯示面板、

LED、

太陽(yáng)能、

鋰電池五個(gè)領(lǐng)域的主要頭部

公司

，特別是在半導(dǎo)體領(lǐng)域

，產(chǎn)品批量供應(yīng)國(guó)內(nèi)超過二十家行業(yè)頭部半導(dǎo)體芯片制造廠商產(chǎn)品種類：

在半導(dǎo)體和新能源兩個(gè)領(lǐng)域產(chǎn)品線豐富

，

可有效發(fā)揮產(chǎn)品協(xié)同效應(yīng)

，給客戶提

供一攬子解決方案。地域優(yōu)勢(shì)：

在湖北、

四川、

江蘇、

陜西四省擁有八家稀缺化工廠區(qū)。

產(chǎn)能重點(diǎn)布局華東、

華中地區(qū)產(chǎn)業(yè)集群

，

同時(shí)覆蓋全國(guó)主要客戶。產(chǎn)能布局?計(jì)劃2026年將KrF光刻膠產(chǎn)能提升至5000噸

，ArF光刻膠產(chǎn)能擴(kuò)至1000噸

，重點(diǎn)突破

14nm及以下先進(jìn)制程用膠。?與中石化集團(tuán)共建樹脂-配膠一體化平臺(tái)

，

實(shí)現(xiàn)ArF光刻膠用樹脂國(guó)產(chǎn)化

，

降低材料成

本15%以上。?湖北潛江基地規(guī)劃新增5萬(wàn)噸G5級(jí)高純硫酸產(chǎn)能

（2026年投產(chǎn)）

，進(jìn)一步鞏固全球領(lǐng)

先地位。u晶瑞電子材料股份有限公司成立于2001年

，是一家集研發(fā)、生產(chǎn)和銷售于一體的科技型新材料公司

，為國(guó)內(nèi)外新興科技領(lǐng)域提供關(guān)鍵材料和技術(shù)服務(wù)。主要產(chǎn)品包括超凈高純?cè)噭?、光刻膠、功能性材料、鋰電池材料等

，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、面板顯示、

LED等泛半導(dǎo)體領(lǐng)域及鋰電池、太陽(yáng)能光伏等新能源行業(yè)。u公司光刻膠產(chǎn)品主要用于半導(dǎo)體晶圓廠前道工序中光刻和顯影等環(huán)節(jié)

，擁有紫外寬譜系列光刻膠、G線系列光刻膠、

I線系列光刻膠等近百種型號(hào)光刻膠量產(chǎn)供應(yīng)市場(chǎng)。G線光刻膠市占率30%

，I線光刻膠市占率超70%

，紫外寬譜系列光刻膠穩(wěn)居國(guó)內(nèi)市占率第一

，在高端光刻膠方面

，已有多款KrF光刻膠量產(chǎn)；ArF光刻膠已小批量出貨

，同時(shí)多款產(chǎn)品已向客戶送樣并開展驗(yàn)證。2025上半年?duì)I收結(jié)構(gòu) 高純化學(xué)品光刻膠鋰電池材料工業(yè)化學(xué)品其他業(yè)務(wù)

4.2%9.6%13.7%58.7%13.8%高純化學(xué)品：高純雙氧水、高純氨水、高純硫酸、高純鹽酸、高純硝酸、高純NMP等光刻膠：G線光刻膠、I線光刻膠、

KrF光刻膠、ArF光刻膠、蝕刻液、剝離液、顯影液鋰電池材料：

電池級(jí)NMP、鋰電池粘結(jié)劑（SBR、CMCLi、PAA等）工業(yè)化學(xué)品：工業(yè)硫酸、工業(yè)雙氧水等億歐智庫(kù)：

晶瑞電材市場(chǎng)經(jīng)營(yíng)情況核心競(jìng)爭(zhēng)力總營(yíng)收

光刻膠營(yíng)收

總營(yíng)收增長(zhǎng)率18.3

17.5晶瑞電材：

國(guó)內(nèi)極少數(shù)量產(chǎn)覆蓋i線、

KrF、ArF全序列14.410.4%

7.72.0

1.179.3%-4.7%1.4

1.420212022202320242025H113.0-25.6%1.6數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，公司官網(wǎng)、億歐智庫(kù)2021-2025H1光刻膠收入

（億元）22目錄CONTENTS

01

光刻膠材料現(xiàn)狀分析1.1光刻膠背景及定義1.2市場(chǎng)規(guī)模1.3驅(qū)動(dòng)因素1.4行業(yè)壁壘1.5行業(yè)圖譜

02

光刻膠材料分析2.1光刻膠分類2.2PCB光刻膠2.3LCD光刻膠2.4半導(dǎo)體光刻膠03

未來(lái)趨勢(shì)分析3.1市場(chǎng)發(fā)展趨勢(shì)分析3.2技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)分析u中國(guó)光刻膠產(chǎn)業(yè)已形成

“政策-技術(shù)-需求”

的正向循環(huán)：大基金三期明確將18%資金（約288億元）

定向投入光刻膠等半導(dǎo)體材料領(lǐng)域

，EUV光刻膠國(guó)標(biāo)《極紫外(EUV)光刻膠測(cè)試方法》公示

，稅收優(yōu)惠覆蓋光刻膠企業(yè)

，《新材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展指南》共同推動(dòng)國(guó)產(chǎn)化率突破。

國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體制造領(lǐng)域持續(xù)不斷地進(jìn)行大規(guī)模投資

，中國(guó)晶圓廠建設(shè)加速

，驅(qū)動(dòng)我國(guó)光刻膠需求進(jìn)一步復(fù)蘇

，需求快速增長(zhǎng)；AI行業(yè)變革進(jìn)一步拉動(dòng)光刻膠行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模增長(zhǎng)

，5G、AI芯片需求激增

，HBM存儲(chǔ)芯片拉動(dòng)厚膜光刻膠市場(chǎng)增長(zhǎng)32%。u我國(guó)光刻膠市場(chǎng)以日美企業(yè)為主

，高端產(chǎn)品仍需大量進(jìn)口

，隨著光刻膠企業(yè)生產(chǎn)能力的提高

，我國(guó)光刻膠生產(chǎn)結(jié)構(gòu)有望進(jìn)一步優(yōu)化

，打破國(guó)外技術(shù)壟斷

，積極推進(jìn)研發(fā)

，加快國(guó)產(chǎn)化速度。預(yù)計(jì)到2027年

，EUV配套光刻膠國(guó)產(chǎn)化率提升至25%以上。2020202120222023全球及中國(guó)40/45nm產(chǎn)能中國(guó)大陸436

468

458

484111

141

145

16110%

13%21%19%政策、技術(shù)與需求三重驅(qū)動(dòng)

，國(guó)產(chǎn)化進(jìn)一步加強(qiáng)1%94%億歐智庫(kù)：芯片制程產(chǎn)能全球及中國(guó)28nm產(chǎn)能

（等效8寸

，

kwpm)2024E

2025E

2026E（等效8寸

，

kwpm)全球

中國(guó)臺(tái)灣

中國(guó)大陸

韓國(guó)

日本

美國(guó)

歐盟

其他地區(qū)2025-2030年新增晶圓廠21 PCB光刻膠

面板光刻膠

半導(dǎo)體光刻膠

其他 PCB光刻膠

面板光刻膠

半導(dǎo)體光刻膠

其他億歐智庫(kù)：

晶圓代工廠分布24年晶圓代工廠產(chǎn)能份額億歐智庫(kù)：光刻膠產(chǎn)能中國(guó)光刻膠企業(yè)產(chǎn)能2027E92256092477383

121數(shù)據(jù)來(lái)源：中國(guó)產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)、YoleGroup、開源證券、816668459317新加坡-馬來(lái)

…20202021202220232024E2025E2026E2027E25%26%25%24%中國(guó)臺(tái)灣中國(guó)大陸全球光刻膠企業(yè)產(chǎn)能14371286全球1164568231韓國(guó)美國(guó)歐洲中國(guó)大陸日本3%2%1549105423%4783772982309581821858%6%241134467AI助力利用機(jī)器學(xué)習(xí)構(gòu)建“材料-性能”關(guān)聯(lián)模型

，篩選光刻膠配方（樹脂、

感光劑、

溶劑組合）

，徐策其分辨率、蝕刻抗性等核心性能

，減少研發(fā)周期實(shí)時(shí)分析涂布、曝光、顯影過程中的多維度數(shù)據(jù)（如溫度、壓力、能量密度）

，動(dòng)態(tài)優(yōu)化工藝參數(shù)

，實(shí)現(xiàn)光刻膠膜厚均勻性、

圖形轉(zhuǎn)移精度的極致控制

，同時(shí)降低能耗與廢品率結(jié)合計(jì)算機(jī)視覺與AI圖像識(shí)別

，對(duì)光刻膠圖形的線寬、

間距、缺陷（如橋接、針孔）進(jìn)行實(shí)時(shí)檢測(cè)

，秒級(jí)分類缺陷類型并反饋至工藝端

，形成“檢測(cè)-分析-調(diào)整”

的閉環(huán)，將良率提升利用AI模擬光刻過程中的光衍射、化學(xué)放大反應(yīng)（如CAR光刻膠的酸擴(kuò)散）

，優(yōu)化光刻膠與光刻機(jī)的協(xié)同參數(shù)（如焦距、曝光劑量）

，提前預(yù)判工藝窗口

，減少實(shí)際生產(chǎn)中的試錯(cuò)成本案例明賢電子通過AI實(shí)現(xiàn)對(duì)光刻膠配方的智能篩選

，并發(fā)表專利

，加速研發(fā)進(jìn)程

，降低半導(dǎo)體制造成本東方晶源PanGen良率平臺(tái)實(shí)時(shí)分析光刻膠涂布、

曝光、顯影全鏈路數(shù)據(jù)

，提供從"設(shè)計(jì)-掩模-光刻-刻蝕

"

的閉環(huán)控制

，缺陷率降低99%康耐德智能AOI系統(tǒng)基于機(jī)器學(xué)習(xí)的圖像分析算法檢測(cè)光刻膠涂布缺陷(不均勻、氣泡、膠厚不一致)圣泉集團(tuán)通過AI模擬聚合反應(yīng)參數(shù)

，實(shí)現(xiàn)了PPB級(jí)（十億分之一）

線性酚醛樹脂的量產(chǎn)

，替代日本住友電木的同類產(chǎn)品u隨著

AI大模型在材料科學(xué)領(lǐng)域的垂類應(yīng)用深化，光刻膠產(chǎn)業(yè)將迎來(lái)

“設(shè)計(jì)即制造”

的智能時(shí)代。研發(fā)端加速光刻膠配方迭代；生產(chǎn)端動(dòng)態(tài)優(yōu)化工藝參數(shù)

，檢測(cè)端進(jìn)行缺陷智能識(shí)別與閉環(huán)控制

，工藝仿真減少實(shí)際生產(chǎn)中的試錯(cuò)成本。AI助力光刻膠全流程智能化變革億歐智庫(kù)：AI助力光刻膠全流程及相關(guān)案例工藝仿真研發(fā)端生產(chǎn)端檢測(cè)端數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料

，億歐智庫(kù)25u光刻膠領(lǐng)域的材料突破升級(jí)是國(guó)產(chǎn)高端制造實(shí)現(xiàn)彎道超車的核心支撐

，助力國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)突破“卡脖子”

困境

，構(gòu)建全球競(jìng)爭(zhēng)力

，完成從跟跑到并跑、領(lǐng)跑的彎道超車。材料突破升級(jí)既可推動(dòng)高端光刻膠國(guó)產(chǎn)化率快速提升

，逐步打破EUV光刻膠進(jìn)口依賴

，實(shí)現(xiàn)從原材料到終端應(yīng)用的全鏈條自主可控；

同時(shí)通過金屬基、生物基、水基等新型材料體系創(chuàng)新

，突破傳統(tǒng)光刻膠在先進(jìn)制程中的分辨率、

吸收率、缺陷控制等性能瓶頸

，可以滿足新興場(chǎng)景、高性能芯片的定制化需求

，解決傳統(tǒng)產(chǎn)品高VOCs、難降解的環(huán)保痛點(diǎn)。u光刻膠工藝是光刻膠從實(shí)驗(yàn)室配方走向產(chǎn)業(yè)化產(chǎn)品的核心支撐環(huán)節(jié)，是材料驗(yàn)證、性能落地、量產(chǎn)保障和市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力構(gòu)建的關(guān)鍵。工藝的優(yōu)化可以加速技術(shù)落地

，實(shí)現(xiàn)規(guī)?；?、高品質(zhì)、低成本供應(yīng)

，適配多元場(chǎng)景

，推動(dòng)光刻膠產(chǎn)品快速鋪向市場(chǎng)。億歐智庫(kù)：光