精密光學(xué)元件冷加工工程師崗位招聘考試試卷及答案一、填空題（共10題，每題1分）1.精密光學(xué)元件冷加工中，平面研磨常用的磨具類型是______。2.光學(xué)玻璃冷加工的常用切削液主要作用是冷卻和______。3.球面銑磨加工中，影響球面半徑精度的關(guān)鍵參數(shù)是______。4.光學(xué)元件拋光常用的拋光粉有氧化鈰、______等。5.冷加工中，光學(xué)元件的面形精度常用______儀器檢測。</think_never_used_51bce0c785ca2f68081bfa7d91973934>6.超精密車削適用于加工______材料的光學(xué)元件（如鋁、銅）。7.研磨加工的加工余量一般控制在______微米以內(nèi)。8.光學(xué)元件清洗常用的有機(jī)溶劑有乙醇、______等。9.冷加工中，影響表面粗糙度的主要因素是磨粒粒度和______。10.球面研磨的軌跡常用______或8字形。二、單項(xiàng)選擇題（共10題，每題2分）1.下列哪種加工方法屬于精密光學(xué)元件冷加工？（）A.激光切割B.化學(xué)蝕刻C.球面銑磨D.離子注入2.氧化鈰拋光粉主要適用于拋光哪種材料？（）A.光學(xué)玻璃B.金屬C.陶瓷D.塑料3.平面研磨時，工件與磨盤的相對運(yùn)動軌跡應(yīng)避免（）A.圓周運(yùn)動B.8字形C.往復(fù)運(yùn)動D.固定點(diǎn)運(yùn)動4.超精密加工中，機(jī)床的核心要求是（）A.高轉(zhuǎn)速B.高剛性C.低成本D.大行程5.光學(xué)元件的面形精度PV值表示（）A.表面粗糙度B.峰谷高度差C.均方根誤差D.平面度6.下列哪種清洗方法適用于精密光學(xué)元件？（）A.超聲波清洗B.高壓水射流C.砂紙打磨D.酸洗7.球面銑磨加工中，砂輪的粒度一般選擇（）A.粗粒度（如80）B.中粗粒度（如120）C.細(xì)粒度（如320）D.超細(xì)粒度（如1000）8.冷加工中，光學(xué)元件的變形主要由什么引起？（）A.切削力B.溫度變化C.重力D.濕度9.下列哪種拋光方法屬于非接觸式？（）A.機(jī)械拋光B.化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）C.磁流變拋光D.手工拋光10.光學(xué)元件冷加工的最終工序一般是（）A.銑磨B.研磨C.拋光D.清洗三、多項(xiàng)選擇題（共10題，每題2分，多選、少選均不得分）1.精密光學(xué)元件冷加工的主要工序包括（）A.銑磨B.研磨C.拋光D.鍍膜2.影響光學(xué)元件表面粗糙度的因素有（）A.磨粒粒度B.加工壓力C.切削速度D.環(huán)境溫度3.光學(xué)玻璃冷加工常用的切削液類型有（）A.水基切削液B.油基切削液C.酒精溶液D.丙酮4.超精密加工機(jī)床的關(guān)鍵部件包括（）A.高精度主軸B.高分辨率光柵尺C.剛性床身D.普通電機(jī)5.精密光學(xué)元件檢測的主要項(xiàng)目有（）A.面形精度B.表面粗糙度C.尺寸精度D.光學(xué)性能6.球面研磨的常用磨具材料有（）A.鑄鐵B.銅C.樹脂D.陶瓷7.冷加工中，防止光學(xué)元件劃傷的措施有（）A.保持環(huán)境清潔B.使用潔凈切削液C.避免工件碰撞D.粗磨后及時清洗8.化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）的組成部分包括（）A.拋光墊B.拋光液C.工件夾具D.磨粒9.光學(xué)元件清洗的步驟一般包括（）A.預(yù)清洗B.超聲波清洗C.干燥D.鍍膜10.影響研磨效率的因素有（）A.磨粒濃度B.加工壓力C.相對運(yùn)動速度D.磨具硬度四、判斷題（共10題，每題2分，正確打√，錯誤打×）1.氧化鈰拋光粉比氧化鋁拋光粉更適用于光學(xué)玻璃拋光。（）2.平面研磨時，磨盤的轉(zhuǎn)速越高，加工效率越高。（）3.超精密車削可以加工光學(xué)玻璃元件。（）4.光學(xué)元件的面形精度RMS值比PV值更能反映表面質(zhì)量。（）5.超聲波清洗可以有效去除光學(xué)元件表面的微小顆粒。（）6.球面銑磨加工中，砂輪的修整精度不影響工件精度。（）7.研磨加工的余量越大，表面質(zhì)量越好。（）8.磁流變拋光屬于接觸式拋光方法。（）9.光學(xué)元件冷加工中，環(huán)境濕度對加工精度無影響。（）10.拋光液的pH值會影響拋光效果。（）五、簡答題（共4題，每題5分）1.簡述精密光學(xué)元件冷加工中研磨工序的作用。2.說明超精密加工機(jī)床與普通機(jī)床的主要區(qū)別。3.列舉精密光學(xué)元件拋光的常用方法及適用場景。4.簡述精密光學(xué)元件清洗的注意事項(xiàng)。六、討論題（共2題，每題5分）1.討論如何提升精密光學(xué)元件冷加工的面形精度（PV≤λ/10，λ=632.8nm）。2.討論冷加工中光學(xué)元件表面損傷的類型及預(yù)防措施。---答案部分一、填空題答案1.鑄鐵盤2.潤滑3.曲率半徑調(diào)整量4.氧化鋁（或氧化鐵）5.平面干涉儀（或球面干涉儀）6.金屬7.108.丙酮9.加工壓力10.圓周軌跡二、單項(xiàng)選擇題答案1.C2.A3.D4.B5.B6.A7.C8.A9.C10.C三、多項(xiàng)選擇題答案1.ABC2.ABCD3.AB4.ABC5.ABCD6.ABCD7.ABCD8.ABC9.ABC10.ABCD四、判斷題答案1.√2.×3.×4.×5.√6.×7.×8.×9.×10.√五、簡答題答案1.研磨是冷加工關(guān)鍵工序，作用：①去除銑磨表面損傷層（裂紋、凹坑），提升表面質(zhì)量；②修正面形精度（平面度、球面曲率），滿足光學(xué)要求；③控制余量，為拋光做準(zhǔn)備；④降低表面粗糙度至亞微米級；⑤調(diào)整尺寸精度，確保裝配兼容。需匹配合適磨具、磨粒和壓力，避免新?lián)p傷。2.核心區(qū)別：①精度：主軸回轉(zhuǎn)達(dá)納米級，導(dǎo)軌直線度0.1μm/1000mm；②剛性：花崗巖床身、液體靜壓主軸，減少變形；③分辨率：光柵尺1nm，微小位移控制；④環(huán)境：恒溫±0.1℃、無塵防振；⑤驅(qū)動：直線電機(jī)、力矩電機(jī)，無背隙；⑥適用：光學(xué)元件、半導(dǎo)體等，普通機(jī)床無法達(dá)納米精度。3.常用方法及場景：①機(jī)械拋光：鑄鐵盤+氧化鈰，適用于平面/球面玻璃，成本低；②CMP：拋光墊+化學(xué)液，超光滑表面（Ra<1nm），如半導(dǎo)體晶圓；③磁流變拋光：非接觸，適用于復(fù)雜曲面（非球面），精度高；④離子束拋光：高能離子，高精度元件（天文鏡片），無損傷；⑤手工拋光：局部修正，小批量特殊形狀。4.注意事項(xiàng)：①環(huán)境：100級潔凈間，避免二次污染；②試劑：光學(xué)級乙醇、丙酮，無殘留；③方法：預(yù)清洗→超聲波（功率≤100W，時間≤5min），防損傷；④干燥：高純氮?dú)獯蹈?，防水漬；⑤防護(hù)：無塵手套，防指紋；⑥檢測：顯微鏡查顆粒；⑦禁止：砂紙、毛刷接觸，防劃傷。六、討論題答案1.提升面形精度需多環(huán)節(jié)控制：①設(shè)備：超精密機(jī)床，確保主軸、導(dǎo)軌精度；②工藝：銑磨留0.01-0.02mm研磨余量，鑄鐵盤+3000磨粒，壓力≤0.5kg/cm2；③檢測：實(shí)時干涉儀監(jiān)測，調(diào)整參數(shù)；④環(huán)境：恒溫±0.05℃、防振，減少熱變形；⑤材料：低應(yīng)力光學(xué)玻璃，避免內(nèi)部應(yīng)力；⑥操作：8字形軌跡，避免局部過磨；⑦拋光：CMP或磁流變修正，最終達(dá)λ/10以下。2.損傷類型：劃痕（粗磨磨粒大）、