標準解讀

《GB/T 44937.2-2025 集成電路 電磁發(fā)射測量 第2部分:輻射發(fā)射測量 TEM小室和寬帶TEM小室法》是一項國家標準,該標準詳細規(guī)定了使用TEM(Transverse Electromagnetic)小室及寬帶TEM小室對集成電路的輻射發(fā)射進行測量的方法。其主要目的是為了提供一種標準化的測試手段來評估集成電路在正常工作狀態(tài)下對外部環(huán)境產(chǎn)生的電磁干擾水平,從而幫助制造商確保產(chǎn)品符合相關(guān)電磁兼容性要求。

標準首先定義了一些基本術(shù)語和概念,比如什么是TEM小室、寬帶TEM小室以及它們各自的特點與適用范圍。接著介紹了測試前準備工作,包括但不限于測試環(huán)境的選擇、設(shè)備校準等步驟,以保證測試結(jié)果的準確性和可重復(fù)性。對于測試過程,則詳述了如何設(shè)置被測件、如何連接測試儀器、具體的測量程序等內(nèi)容,并且還提供了關(guān)于數(shù)據(jù)處理與分析的方法指導(dǎo),以便于從原始測量數(shù)據(jù)中提取出有用信息。


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....

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  • 即將實施
  • 暫未開始實施
  • 2025-12-31 頒布
  • 2026-07-01 實施
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文檔簡介

ICS31200

CCSL.56

中華人民共和國國家標準

GB/T449372—2025/IEC61967-22005

.:

集成電路電磁發(fā)射測量

第2部分輻射發(fā)射測量TEM小室和

:

寬帶TEM小室法

Integratedcircuits—Measurementofelectromagneticemissions—

Part2Measurementofradiatedemissions—TEMcelland

:

widebandTEMcellmethod

IEC61967-22005Interatedcircuits—Measurementofelectromanetic

(:,gg

emissions150kHzto1GHz—Part2Measurementofradiatedemissions—

:

TEMCellandwidebandTEMCellmethodIDT

,)

2025-12-31發(fā)布2026-07-01實施

國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布

國家標準化管理委員會

GB/T449372—2025/IEC61967-22005

.:

目次

前言

…………………………Ⅲ

引言

…………………………Ⅳ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

術(shù)語和定義

3………………1

概述

4………………………2

試驗條件

5…………………2

通則

5.1…………………2

供電電壓

5.2……………2

頻率范圍

5.3……………2

試驗設(shè)備

6…………………2

通則

6.1…………………2

屏蔽

6.2…………………2

射頻測量儀器

6.3………………………2

前置放大器

6.4…………………………2

小室

6.5TEM……………2

寬帶小室

6.6TEM(GTEM)……………3

終端

6.750Ω……………3

系統(tǒng)增益

6.8……………3

試驗布置

7…………………3

通則

7.1…………………3

試驗配置

7.2……………3

試驗

7.3PCB……………4

試驗程序

8…………………5

通則

8.1…………………5

測量環(huán)境噪聲

8.2………………………6

檢查工作狀態(tài)

8.3DUT………………6

測量發(fā)射

8.4DUT……………………6

試驗報告

9…………………6

通則

9.1…………………6

測量條件

9.2……………6

發(fā)射參考電平

10IC………………………6

附錄資料性校準和布置驗證表示例

A()………………7

附錄資料性小室和寬帶小室描述

B()TEMTEM……………………8

小室

B.1TEM……………8

GB/T449372—2025/IEC61967-22005

.:

寬帶小室

B.2TEM……………………8

附錄資料性根據(jù)測得的數(shù)據(jù)計算偶極矩

C()…………9

概述

C.1…………………9

偶極矩的計算

C.2………………………9

附錄資料性發(fā)射數(shù)據(jù)規(guī)范

D()…………10

概述

D.1…………………10

發(fā)射電平規(guī)范

D.2………………………10

結(jié)果表述方式

D.3………………………10

示例

D.4…………………11

參考文獻

……………………12

GB/T449372—2025/IEC61967-22005

.:

前言

本文件按照標準化工作導(dǎo)則第部分標準化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)定

GB/T1.1—2020《1:》

起草

。

本文件是集成電路電磁發(fā)射測量的第部分已經(jīng)發(fā)布了以下

GB/T44937《》2。GB/T44937

部分

:

第部分通用條件和定義

———1:;

第部分輻射發(fā)射測量小室和寬帶小室法

———2:TEMTEM;

第部分輻射發(fā)射測量表面掃描法

———3:;

第部分傳導(dǎo)發(fā)射測量直接耦合法

———4:1Ω/150Ω;

第部分傳導(dǎo)發(fā)射測量工作臺法拉第籠法

———5:;

第部分傳導(dǎo)發(fā)射測量磁場探頭法

———6:;

第部分輻射發(fā)射測量帶狀線法

———8:IC。

本文件等同采用集成電路電磁發(fā)射測量第部分輻射

IEC61967-2:2005《150kHz~1GHz2:

發(fā)射測量小室和寬帶小室法

TEMTEM》。

本文件做了下列最小限度的編輯性改動

:

為與現(xiàn)有標準協(xié)調(diào)將標準名稱改為集成電路電磁發(fā)射測量第部分輻射發(fā)射測量

———,《2:

小室和寬帶小室法

TEMTEM》。

請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機構(gòu)不承擔識別專利的責任

。。

本文件由中華人民共和國工業(yè)和信息化部提出

。

本文件由全國集成電路標準化技術(shù)委員會歸口

(SAC/TC599)。

本文件起草單位中國電子技術(shù)標準化研究院浙江諾益科技有限公司中國汽車工程研究院股份

:、、

有限公司海研芯青島微電子有限公司廈門海諾達科學儀器有限公司中山大學蘇州泰思特電子科

、()、、、

技有限公司北京智芯微電子科技有限公司天津先進技術(shù)研究院工業(yè)和信息化部電子第五研究所

、、、、

北京國家新能源汽車技術(shù)創(chuàng)新中心有限公司中汽研新能源汽車檢驗中心天津有限公司中國家用電

、()、

器研究院南京信息工程大學廣州賽寶計量檢測中心服務(wù)有限公司海軍電磁兼容研究檢測中心中國

、、、、

合格評定國家認可中心福州物聯(lián)網(wǎng)開放實驗室有限公司極氪汽車寧波杭州灣新區(qū)有限公司中國

、、()、

北方車輛研究所中國信息通信研究院合興汽車電子太倉有限公司深圳市必聯(lián)電子有限公司中航

、、()、、

光電科技股份有限公司柳州汽車檢測有限公司重慶新民康科技優(yōu)先公司攏澤上海技術(shù)有限公司

、、、()。

本文件主要起草人鄭益民崔強付君黃雪梅吳建飛方文嘯朱賽張治中胡小軍李煥然

:、、、、、、、、、、

符榮杰王新才梁吉明褚瑞李齊菅端端張潔譚澤強亓新陳彥張勇劉佳賴秋輝朱崇銘

、、、、、、、、、、、、、、

趙驥王紫任李旺劉海濤郭輝張吉宇陳小勇鮑宇航

、、、、、、、。

GB/T449372—2025/IEC61967-22005

.:

引言

為規(guī)范集成電路電磁發(fā)射測量以及為集成電路制造商和檢測機構(gòu)提供不同的電磁發(fā)射測量方

,

法集成電路電磁發(fā)射測量規(guī)定了集成電路電磁發(fā)射測量的通用條件定義和不同測

,GB/T44937《》、

量方法的試驗程序和試驗要求擬由個部分構(gòu)成

,9。

第部分通用條件和定義目的在于規(guī)定集成電路電磁發(fā)射測量的通用條件和定義

———1:。。

第部分通用條件和定義近場掃描數(shù)據(jù)交換格式目的在于規(guī)定近場掃描數(shù)據(jù)交換

———1-1:。

格式

。

第部分輻射發(fā)射測量小室和寬帶小室法目的在于規(guī)定小室和寬帶

———2:TEMTEM。TEM

小室法的試驗程序和試驗要求

TEM。

第部分輻射發(fā)射測量表面掃描法目的在于規(guī)定表面掃描法的試驗程序和試驗要求

———3:。。

第部分傳導(dǎo)發(fā)射測量直接耦合法目的在于規(guī)定直接耦合法的

———4:1Ω/150Ω。1Ω/150Ω

試驗程序和試驗要求

第部分傳導(dǎo)發(fā)射測量直接耦合法應(yīng)用指南目的在于給出直

———4-1:1Ω/150Ω。1Ω/150Ω

接耦合法應(yīng)用指導(dǎo)

。

第部分傳導(dǎo)發(fā)射測量工作臺法拉第籠法目的在于規(guī)定工作臺法拉第籠法的試驗程序

———5:。

和試驗要求

第部分傳導(dǎo)發(fā)射測量磁場探頭法目的在于規(guī)定磁場探頭法的試驗程序和試驗要求

———6:。。

第部分輻射發(fā)射測量帶狀線法目的在于規(guī)定帶狀線法的試驗程序和試驗要求

———8:IC。IC。

GB/T449372—2025/IEC61967-22005

.:

集成電路電磁發(fā)射測量

第2部分輻射發(fā)射測量TEM小室和

:

寬帶TEM小室法

1范圍

本文件描述了一種測量集成電路電磁輻射的方法受試需安裝在一塊試驗印制電路板

(IC)。ICIC

上該固定在橫電磁波小室或者吉赫茲橫電磁波小室頂部或底部切割出

(PCB),PCB(TEM)(GTEM)

的一個匹配端口稱為殼體端口上該不像通常用法位于小室內(nèi)而是作為小室壁面的一部分

()。PCB,。

本方法適用于任何修改后增加了殼體端口的小室或小室見附錄但是被測的射頻

TEMGTEM(B)。,

電壓將會受到很多因素的影響影響被測電壓的主要因素是芯板和試驗小室殼體

(RF)。RFICPCB()

之間的距離

。

本方法使用小室芯板與地平面距離為和小室芯板與匹配端口區(qū)域

1GHzTEM(45mm)GTEM(

地平面平均距離為進行試驗其他小室或許不用產(chǎn)生同樣的頻譜輸出但只要頻率和靈敏度

45mm)。,

特性允許也能用作比較測量使用對于地平面與芯板間距不同的小室或小室產(chǎn)生的測

,。TEMGTEM

量數(shù)據(jù)在應(yīng)用修正系數(shù)后再進行比較

,。

試驗控制著工作的相對于小室的幾何位置和方向避免了在小室內(nèi)的任何電纜連接

ICPCBIC,IC

這些線纜布置于背面位于小室外部小室的一個端口端接負載小室

(PCB,)。TEM50Ω50Ω。TEM

的另一個端口或小室的唯一一個端口連接到頻譜分析儀或接收機的輸入端用以

50ΩGTEM50Ω,,

測量

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