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PAGEPAGE4/4煙臺(tái)萬華HCl氧化裝置設(shè)備“三定”管理制度目的為了充分發(fā)揮各崗位操作人員的責(zé)任心、積極性,切實(shí)有效做好設(shè)備維護(hù)保養(yǎng),特制定本管理制度。適用范圍HCl養(yǎng)管理工作。管理規(guī)定3。1HCl任制,并進(jìn)行指導(dǎo)、督促、檢查和考核。3。2機(jī)動(dòng)科定期對(duì)設(shè)備的“三定”管理情況進(jìn)行檢查,對(duì)管理好的設(shè)備責(zé)任人在年終進(jìn)行獎(jiǎng)勵(lì),對(duì)設(shè)備管理不到位的責(zé)任人進(jìn)行考核。3.3操作工管理職責(zé)及要求:自覺遵守定人定機(jī)制度,對(duì)自己所負(fù)責(zé)4)堵漏:防止、堵塞潤(rùn)滑油脂、水等的泄漏。附表1煙臺(tái)萬華HCl氧化裝置設(shè)備維護(hù)“三定”劃分記錄表序號(hào) 名
型號(hào)(規(guī)格)
安裝地點(diǎn)
責(zé)任人 備注1挖掘機(jī)DH225LC-7HCl氧化裝置區(qū)張道勇2裝載機(jī)SEM652BHCl氧化裝置區(qū)傅效光3電焊機(jī)ZX7-400NHCl氧化裝置區(qū)田兆國4電焊機(jī)ZX7-400NHCl氧化裝置區(qū)田兆國5電焊機(jī)ZX7-400NHCl氧化裝置區(qū)田兆國6電焊機(jī)ZX7—400NHCl氧化裝置區(qū)田兆國7電焊機(jī)ZX7—400NHCl氧化裝置區(qū)田兆國8電焊機(jī)ZX7-400NHCl氧化裝置區(qū)田兆國9電焊機(jī)ZX7-400NHCl氧化裝置區(qū)田兆國10電焊機(jī)ZX7-400NHCl氧化裝置區(qū)田兆國11電焊機(jī)ZX7—400NHCl氧化裝置區(qū)田兆國12電焊機(jī)ZX7-400NHCl氧化裝置區(qū)田兆國13電焊機(jī)ZX7—400NHCl氧化裝置區(qū)田兆國14配電箱QH—03-133HCl氧化裝置區(qū)孟慶新15配電箱QH-03—134HCl氧化裝置區(qū)孟慶新16配電箱QH-03—135HCl氧化裝置區(qū)孟慶新17配電箱QH—03-136HCl氧化裝置區(qū)孟慶新18配電箱QH—03-137HCl氧化裝置區(qū)孟慶新19配電箱QH-03-138HCl氧化裝置區(qū)孟慶新20配電箱QH—03-139HCl氧化裝置區(qū)孟慶新21配電箱QH—03—140HCl氧化裝置區(qū)孟慶新22配電箱QH-03—141HCl氧化裝置區(qū)孟慶新23配電箱QH-03—142HCl氧化裝置區(qū)孟慶新24配電箱QH-03-143HCl氧化裝置區(qū)孟慶新25配電箱QH-03-144HCl氧化裝置區(qū)孟慶新26配電箱QH—03—145HCl氧化裝置區(qū)孟慶新27配電箱QH—03—146HCl氧化裝置區(qū)孟慶新28配電箱QH-03—147HCl氧化裝置區(qū)孟慶新29烘干箱HGX—001HCl氧化裝置區(qū)劉長(zhǎng)剛30清洗機(jī)QXJ—004HCl氧化裝置區(qū)劉長(zhǎng)剛31彎曲機(jī)WQJ—001HCl氧化裝置區(qū)劉長(zhǎng)剛32彎曲機(jī)WQJ—002HCl氧化裝置區(qū)劉長(zhǎng)剛33彎曲機(jī)WQJ—003HCl氧化裝置區(qū)劉長(zhǎng)剛34彎曲機(jī)WQJ-004HCl氧化裝置區(qū)劉長(zhǎng)剛35切割機(jī)QGJ-001HCl氧化裝置區(qū)劉長(zhǎng)剛36切割機(jī)QGJ-004HCl氧化裝置區(qū)劉長(zhǎng)剛37切割機(jī)QGJ—004HCl氧化裝置區(qū)劉長(zhǎng)剛38切割機(jī)QGJ-004HCl氧化裝置區(qū)劉長(zhǎng)剛39滾絲機(jī)GSJ—001HCl氧化裝置區(qū)劉長(zhǎng)剛40滾絲機(jī)GSJ—002HCl氧化裝置區(qū)劉長(zhǎng)剛41滾絲機(jī)GSJ-003HCl氧化裝置區(qū)張丙建42滾絲機(jī)GSJ—004HCl氧化裝置區(qū)張丙建43切斷機(jī)QDJ—001HCl氧化裝置區(qū)張丙建44切斷機(jī)QDJ—002HCl氧化裝置區(qū)張丙建45切斷機(jī)QDJ-003HCl氧化裝置區(qū)張丙建46切斷機(jī)QDJ—004HCl氧化裝置區(qū)張丙建47平板夯PBH—001HCl氧化裝置區(qū)張丙建48平板夯PBH-002HCl氧化裝置區(qū)張丙建49平板夯PBH-003HCl氧化裝置區(qū)張丙建50平板夯PBH—004HCl氧化裝置區(qū)張丙建51水準(zhǔn)儀DS
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