ICS1704020

J04..

中華人民共和國國家標準

GB/T36969—2018

納米技術原子力顯微術測定

納米薄膜厚度的方法

Nanotechnology—Methodforthemeasurementofthenanofilm-thicknessby

atomicforcemicroscopy

2018-12-28發(fā)布2018-12-28實施

國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布

中國國家標準化管理委員會

GB/T36969—2018

目次

前言

…………………………Ⅰ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

術語和定義

3………………1

原理

4………………………1

測試條件

5…………………2

環(huán)境條件

5.1……………2

操作條件

5.2……………2

設備

6………………………2

原子力顯微鏡

6.1………………………2

探針的選擇

6.2…………………………2

儀器的校準

6.3…………………………2

樣品

7………………………2

樣品的制備

7.1…………………………2

樣品的清洗

7.2…………………………2

測試步驟

8…………………2

采集圖像數(shù)據(jù)前的準備

8.1……………2

圖像數(shù)據(jù)的采集

8.2……………………2

數(shù)據(jù)處理與計算

9…………………………3

重復性和再現(xiàn)性

10…………………………4

測試報告

11…………………4

附錄資料性附錄薄膜臺階的制備

A()…………………5

參考文獻

………………………6

GB/T36969—2018

前言

本標準按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標準由中國科學院提出

。

本標準由全國納米技術標準化技術委員會歸口

(SAC/TC279)。

本標準起草單位上海交通大學納米技術及應用國家工程研究中心

:、。

本標準主要起草人李慧琴金承鈺梁齊何丹農韋菲菲

:、、、、。

Ⅰ

GB/T36969—2018

納米技術原子力顯微術測定

納米薄膜厚度的方法

1范圍

本標準規(guī)定了使用原子力顯微術測量納米薄膜厚度的原理測試條件設備樣品測試步

(AFM)、、、、

驟和數(shù)據(jù)處理

。

本標準適用于表面均勻平整的納米范圍厚度的無機材料薄膜較厚的和一些有機薄膜的膜厚測

、。

定也可參照執(zhí)行

。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

原子力顯微鏡測量濺射薄膜表面粗糙度的方法

GB/T31227

測量不確定度評定與表示

JJF1059.1—2012

3術語和定義

下列術語和定義適用于本文件

。

31

.

原子力顯微術atomicforcemicroscopy

通過檢測探針和樣品表面的相互作用力吸引力或排斥力來控制探針和樣品間的距離從而獲得表

()

面形貌的掃描探針顯微鏡技術

。

定義

[GB/T27760—2011,3.1]

32

.

掃描長度scanlength

從開始到結束一次掃描的距離

。

33

.

全幅掃描raster

探針方向上逐步移動時在x方向上反復掃描也指這樣的運動所掃描的區(qū)域

y,。

定義

[GB/T31226—2014,3.1.14]

4原理

首先利用原子力顯微鏡測試得到包含納米薄膜臺階在內的微觀形貌原子力顯微鏡是使

(AFM)