ICS1704020

J04..

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T36969—2018

納米技術(shù)原子力顯微術(shù)測(cè)定

納米薄膜厚度的方法

Nanotechnology—Methodforthemeasurementofthenanofilm-thicknessby

atomicforcemicroscopy

2018-12-28發(fā)布2018-12-28實(shí)施

國家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T36969—2018

目次

前言

…………………………Ⅰ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

術(shù)語和定義

3………………1

原理

4………………………1

測(cè)試條件

5…………………2

環(huán)境條件

5.1……………2

操作條件

5.2……………2

設(shè)備

6………………………2

原子力顯微鏡

6.1………………………2

探針的選擇

6.2…………………………2

儀器的校準(zhǔn)

6.3…………………………2

樣品

7………………………2

樣品的制備

7.1…………………………2

樣品的清洗

7.2…………………………2

測(cè)試步驟

8…………………2

采集圖像數(shù)據(jù)前的準(zhǔn)備

8.1……………2

圖像數(shù)據(jù)的采集

8.2……………………2

數(shù)據(jù)處理與計(jì)算

9…………………………3

重復(fù)性和再現(xiàn)性

10…………………………4

測(cè)試報(bào)告

11…………………4

附錄資料性附錄薄膜臺(tái)階的制備

A()…………………5

參考文獻(xiàn)

………………………6

GB/T36969—2018

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國科學(xué)院提出

。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國納米技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

(SAC/TC279)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位上海交通大學(xué)納米技術(shù)及應(yīng)用國家工程研究中心

:、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人李慧琴金承鈺梁齊何丹農(nóng)韋菲菲

:、、、、。

Ⅰ

GB/T36969—2018

納米技術(shù)原子力顯微術(shù)測(cè)定

納米薄膜厚度的方法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用原子力顯微術(shù)測(cè)量納米薄膜厚度的原理測(cè)試條件設(shè)備樣品測(cè)試步

(AFM)、、、、

驟和數(shù)據(jù)處理

。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于表面均勻平整的納米范圍厚度的無機(jī)材料薄膜較厚的和一些有機(jī)薄膜的膜厚測(cè)

、。

定也可參照?qǐng)?zhí)行

。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

原子力顯微鏡測(cè)量濺射薄膜表面粗糙度的方法

GB/T31227

測(cè)量不確定度評(píng)定與表示

JJF1059.1—2012

3術(shù)語和定義

下列術(shù)語和定義適用于本文件

。

31

.

原子力顯微術(shù)atomicforcemicroscopy

通過檢測(cè)探針和樣品表面的相互作用力吸引力或排斥力來控制探針和樣品間的距離從而獲得表

()

面形貌的掃描探針顯微鏡技術(shù)

。

定義

[GB/T27760—2011,3.1]

32

.

掃描長度scanlength

從開始到結(jié)束一次掃描的距離

。

33

.

全幅掃描raster

探針方向上逐步移動(dòng)時(shí)在x方向上反復(fù)掃描也指這樣的運(yùn)動(dòng)所掃描的區(qū)域

y,。

定義

[GB/T31226—2014,3.1.14]

4原理

首先利用原子力顯微鏡測(cè)試得到包含納米薄膜臺(tái)階在內(nèi)的微觀形貌原子力顯微鏡是使

(AFM)