ICS1718001

N05..

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T40293—2021

紅外硫系光學(xué)薄膜折射率測試方法

Testmethodforrefractiveindexofinfraredopticalchalcogenidefilms

2021-08-20發(fā)布2022-03-01實施

國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布

國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

GB/T40293—2021

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識別這些專利的責(zé)任

。。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會提出

。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國光學(xué)和光子學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口

(SAC/TC103)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位寧波大學(xué)湖北新華光信息材料有限公司中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所

:、、、

中國建筑材料科學(xué)研究總院鳳凰光學(xué)股份有限公司蘇州晶鼎鑫光電科技有限公司道明光學(xué)股份有

、、、

限公司

。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人宋寶安戴世勛沈祥徐光以胡向平唐雪瓊張龍祖成奎何曉虎周東平

:、、、、、、、、、、

王宏

。

Ⅰ

GB/T40293—2021

紅外硫系光學(xué)薄膜折射率測試方法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)描述了紅外硫系光學(xué)薄膜以下簡稱薄膜折射率的測試原理測試條件儀器設(shè)備樣品

(“”)、、、、

測試步驟數(shù)據(jù)處理與折射率計算計算精度和測試報告

、、。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于紅外硫系光學(xué)薄膜折射率的測試其他光學(xué)薄膜折射率的測試可參照使用

,。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

玻璃襯底上納米薄膜厚度測量觸針式輪廓儀法

GB/T33826—2017

納米技術(shù)原子力顯微術(shù)測定納米薄膜厚度的方法

GB/T36969—2018

3術(shù)語和定義

下列術(shù)語和定義適用于本文件

。

31

.

折射率refractiveindex

n

光在真空中的傳播速率與在介質(zhì)中的傳播速率之比

。

注改寫定義

:GB/T26332.1—2018,2.2.6。

32

.

光譜透射率spectraltransmittance

Tλ

()

透過的與入射的輻射能通量或光通量的光譜密集度之比

。

注以百分比表示

:。

4原理

原理如圖所示首先將樣品分別放置于分光光度計和傅里葉紅外光譜儀測試臺上使得測試光

1。,,

垂直通過樣品其次設(shè)置光譜測試范圍測得樣品的光譜透射率Tλ再結(jié)合多光束干涉原理得到公

;,,(),

式公式

(1)~(3):

TTndα

M=(,,)…………(1)

TTndα

m=(,,)…………(2)

ndmλ

2=…………(3)

式中

: