太陽(yáng)能電池的主要技術(shù)路線分析太陽(yáng)能電池的主要技術(shù)路線太陽(yáng)能電池是實(shí)現(xiàn)光能向電能轉(zhuǎn)化的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。根據(jù)所用材料的不同，太陽(yáng)能電池可分為三大類(lèi)：第一類(lèi)為晶體硅太陽(yáng)能電池，包括單晶硅和多晶硅，其研發(fā)及市場(chǎng)應(yīng)用較為深入，光電轉(zhuǎn)化效率高，占據(jù)了目前電池片主要市場(chǎng)份額；第二類(lèi)為薄膜太陽(yáng)能電池，包括硅基薄膜、化合物類(lèi)以及有機(jī)類(lèi)，但由于原材料稀缺或含毒性、轉(zhuǎn)換效率低、穩(wěn)定性差等缺點(diǎn)，市場(chǎng)應(yīng)用較少；第三類(lèi)為新型太陽(yáng)能電池，新型太陽(yáng)能電池以價(jià)格昂貴的稀土為原料且主要用于航空航天領(lǐng)域，現(xiàn)階段暫不在市場(chǎng)推廣之列。為進(jìn)一步提高光電轉(zhuǎn)換效率和降低制造成本，主流太陽(yáng)能電池技術(shù)晶體硅電池的新興技術(shù)不斷涌現(xiàn)，發(fā)展前景廣闊。根據(jù)硅襯底不同，晶體硅電池分為P型電池和N型電池。P型電池的PERC技術(shù)是當(dāng)前晶體硅電池的主流技術(shù)，N型技術(shù)是下一代晶體硅電池技術(shù)，具有制程短、轉(zhuǎn)換效率高、抗衰減、溫度系數(shù)低等特點(diǎn)，有利于提高光伏發(fā)電量、降低發(fā)電成本。N型技術(shù)中，異質(zhì)結(jié)（HJT）技術(shù)是一種將薄膜電池技術(shù)和晶體硅電池技術(shù)結(jié)合發(fā)展起來(lái)的一種高效電池技術(shù)，與同質(zhì)結(jié)相比有更寬的禁帶寬度和電池效率提升潛力，性能優(yōu)勢(shì)明顯，是公認(rèn)的未來(lái)主流發(fā)展方向。異質(zhì)結(jié)電池生產(chǎn)需大量應(yīng)用濺射靶材，是未來(lái)太陽(yáng)能電池領(lǐng)域?yàn)R射靶材市場(chǎng)需求的主要增長(zhǎng)點(diǎn)。濺射靶材上游分析2021年國(guó)內(nèi)共生產(chǎn)高純鋁14．6萬(wàn)噸，同比增長(zhǎng)9．77%，根據(jù)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)，2016年中國(guó)的高純鋁產(chǎn)量為11．8萬(wàn)噸，2020年增至13．3萬(wàn)噸，年均復(fù)合增長(zhǎng)率為3．0%。2021年全球經(jīng)濟(jì)復(fù)蘇疊加新能源汽車(chē)需求爆發(fā)，下游需求旺盛，高純鋁產(chǎn)量再創(chuàng)新高。預(yù)計(jì)2022年高純鋁產(chǎn)量將繼續(xù)保持增長(zhǎng)，將達(dá)15．4萬(wàn)噸。以純銅或銅合金制成各種形狀包括棒、線、板、帶、條、管、箔等統(tǒng)稱銅材。近年來(lái)中國(guó)銅材產(chǎn)量整體保持增長(zhǎng)趨勢(shì)，2022年9月中國(guó)銅材產(chǎn)量222．1萬(wàn)噸，同比增長(zhǎng)9．5%；1-9月累計(jì)產(chǎn)量1636．6萬(wàn)噸，同比下降0．5%。濺射靶材行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀近年來(lái)我國(guó)對(duì)濺射靶材行業(yè)重視程度不斷提升，各類(lèi)政策出臺(tái)推動(dòng)行業(yè)積極發(fā)展。例如2019年《十四五規(guī)劃和2035年遠(yuǎn)景目標(biāo)剛要》提出集成電路攻關(guān)方面，以重點(diǎn)裝備和高純靶材等關(guān)鍵材料為研發(fā)方向。2021年3月，財(cái)政部、海關(guān)總署等聯(lián)合發(fā)布《關(guān)于支持集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)發(fā)展進(jìn)口稅收政策的通知》，明確對(duì)于國(guó)內(nèi)靶材企業(yè)進(jìn)口國(guó)內(nèi)不能生產(chǎn)、性能不滿足需求的自用生產(chǎn)性原材料及消耗品免征進(jìn)口關(guān)稅。在國(guó)內(nèi)良好的政策環(huán)境和各細(xì)分市場(chǎng)廣闊的市場(chǎng)空間下，國(guó)內(nèi)濺射靶材企業(yè)市占率提升空間大，機(jī)會(huì)逐步開(kāi)啟。隨著政策利好、以及在技術(shù)創(chuàng)新推動(dòng)下芯片、光伏高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)需求不斷釋放，我國(guó)濺射靶材行業(yè)規(guī)模不斷擴(kuò)大。數(shù)據(jù)顯示，2021年我國(guó)濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模達(dá)375．8億元，同比增長(zhǎng)9．7%。預(yù)計(jì)2022年我國(guó)濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到410億元。其中高性能濺射靶材市場(chǎng)在國(guó)家戰(zhàn)略政策支持以及下游眾多應(yīng)用領(lǐng)域需求的支撐下，行業(yè)技術(shù)不斷突破，產(chǎn)品性能不斷提升，帶動(dòng)市場(chǎng)規(guī)模不斷擴(kuò)大。數(shù)據(jù)顯示，2021年我國(guó)高性能濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模由2016年的98．9億元增長(zhǎng)至241．8億元，預(yù)計(jì)2022年市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)288．1億元。ITO靶材市場(chǎng)容量也在不斷擴(kuò)張。有數(shù)據(jù)顯示，2019-2021年，我國(guó)ITO靶材市場(chǎng)容量從639噸增長(zhǎng)到1002噸，年復(fù)合增長(zhǎng)率為25．22%。預(yù)計(jì)2022年我國(guó)ITO靶材市場(chǎng)容量能達(dá)到1067噸。濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈中國(guó)濺射靶材上游為各種原材料，包括金屬、合金、陶瓷化合物；中游主要為靶材制造、濺射鍍膜；下游廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、平面顯示、信息存儲(chǔ)、太陽(yáng)能電池、智能玻璃等。中國(guó)濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈上游金屬上市企業(yè)包括新疆眾和、天山鋁業(yè)、銅陵有色、安寧股份、中環(huán)股份等，合金企業(yè)包括江贛鋒鋰業(yè)、興業(yè)礦業(yè)、浙富控股、廈門(mén)鉤業(yè)、寒銳鉆業(yè)等。中游的濺射靶材企業(yè)主要為日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、有研新材、金鉬股份、新疆眾和、隆華科技、江豐電子、康達(dá)新材、阿石創(chuàng)、超卓航科等。下游集成電路企業(yè)包括中芯國(guó)際、長(zhǎng)電科技、韋爾股份、通富微電、華天科技等，太陽(yáng)能電池企業(yè)包括通威股份、隆基綠能、天合光能、晶科能源、TCL中環(huán)等。記錄媒體靶材應(yīng)用場(chǎng)景數(shù)據(jù)存儲(chǔ)可分為光存儲(chǔ)、磁存儲(chǔ)與半導(dǎo)體存儲(chǔ)，近年來(lái)半導(dǎo)體存儲(chǔ)發(fā)展迅速。從數(shù)據(jù)存儲(chǔ)量來(lái)看，目前磁記錄仍然占據(jù)主導(dǎo)記錄。按記錄媒體的機(jī)械形狀和驅(qū)動(dòng)方式的不同，磁記錄可分為磁鼓、磁帶（錄音機(jī)、錄像機(jī)、數(shù)據(jù)記錄）、磁盤(pán)（硬盤(pán)、軟盤(pán)）、磁卡等，其中，高密度硬盤(pán)領(lǐng)域的磁性薄膜幾乎都是以濺射法制作的，這些磁記錄薄膜材料有很高的記錄密度。因此也要求濺射靶材具有高純度、低氣體含量、細(xì)晶微結(jié)構(gòu)、均勻的金相、高磁穿透和使用率、優(yōu)異的電性與機(jī)械特性等特點(diǎn)。磁記錄靶材常用材料為鈷（3N）/鎳/鐵合金/鉻/碲、硒（4N）/稀土-遷移金屬（3N）等，主要包括鉻靶、鎳靶、鈷靶。濺射靶材種類(lèi)和規(guī)格按材質(zhì)可分為金屬靶材（純金屬鋁、鈦、銅、鉭等）、合金靶材（鎳鉻合金、鎳鈷合金等）、陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）。按下游終端應(yīng)用可分為半導(dǎo)體靶材、平板顯示靶材、太陽(yáng)能電池靶材、記錄存儲(chǔ)靶材等，四大板塊約合占比97%。按形狀分類(lèi)可分為長(zhǎng)靶、方靶、圓靶和管靶。其中常見(jiàn)的靶材多為方靶、圓靶，均為實(shí)心靶材。近年來(lái)，空心圓管型濺射靶材由于具有較高的回收利用率，也在國(guó)內(nèi)外得到了一定推廣。在鍍膜作業(yè)中，圓環(huán)形的永磁體在靶材的表面產(chǎn)生的磁場(chǎng)為環(huán)形，會(huì)發(fā)生不均勻沖蝕現(xiàn)象，濺射的薄膜厚度均勻性不佳，靶材的使用效率大約只有20%～30%。目前，為了提高靶材的利用率，國(guó)內(nèi)外都在推廣可圍繞固定的條狀磁鐵組件旋轉(zhuǎn)的空心圓管型濺射靶材，此種靶材由于靶面360°都可被均勻刻蝕，因而利用率可由通常的20%～30%提高到75%～80%。不同應(yīng)用領(lǐng)域?qū)τ跒R射靶材的材料和性能要求存在一定差異。如半導(dǎo)體芯片對(duì)于靶材的純度和精度要求最高，技術(shù)難度也最高，通常為圓靶；而面板則要求材料面積大、均勻性好，技術(shù)難度不如芯片但要求也很高，形狀常為長(zhǎng)靶。濺射靶材中游分析（一）濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模在經(jīng)濟(jì)快速發(fā)展以及技術(shù)創(chuàng)新推動(dòng)下，我國(guó)芯片、光伏高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)獲得快速發(fā)展，隨著市場(chǎng)需求不斷釋放，濺射靶材行業(yè)規(guī)模將進(jìn)一步擴(kuò)大。在應(yīng)用需求帶動(dòng)下，我國(guó)濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模不斷擴(kuò)大。2021年我國(guó)濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模達(dá)375．8億元，同比增長(zhǎng)9．7％。（二）高性能濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模中國(guó)高性能濺射靶材行業(yè)在國(guó)家戰(zhàn)略政策支持以及下游眾多應(yīng)用領(lǐng)域需求的支撐下，行業(yè)技術(shù)不斷突破，產(chǎn)品性能不斷提升，帶動(dòng)高性能濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模不斷擴(kuò)大。中國(guó)高性能濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模由2016年的98．9億元增長(zhǎng)至2020年的201．5億元，年均復(fù)合增長(zhǎng)率為19．47%，預(yù)計(jì)2022年市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)288．1億元。（三）ITO靶材市場(chǎng)規(guī)模中國(guó)已成為世界上最大的銦靶材需求國(guó)。2019年至2021年，我國(guó)ITO靶材市場(chǎng)容量從639噸增長(zhǎng)到1002噸，年復(fù)合增長(zhǎng)率為25．22%。未來(lái)2-3年內(nèi)，雖然國(guó)內(nèi)平面顯示行業(yè)的固定資產(chǎn)投資增速將有所放緩，但由于平面顯示行業(yè)存量需求及太陽(yáng)能光伏電池的增量需求，國(guó)內(nèi)ITO靶材市場(chǎng)容量仍將保持一定幅度的