EBL基本組成及工作原理演示文稿現(xiàn)在是1頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日EBL=ElectronBeamLithography=電子束光刻現(xiàn)在是2頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日現(xiàn)在是3頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日一、電子束曝光系統(tǒng)結(jié)構(gòu)現(xiàn)在是4頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日現(xiàn)在是5頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日column現(xiàn)在是6頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日電子源的分類

直熱式W，2700K熱發(fā)射電子源旁熱式LaB6，1800K電子源

熱場(chǎng)發(fā)射ZrO/W，1800K場(chǎng)發(fā)射電子源

冷場(chǎng)發(fā)射現(xiàn)在是7頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日四種電子源對(duì)比電子源三個(gè)關(guān)鍵參數(shù)：有效源尺寸，亮度，電子能量分布熱發(fā)射源能量分布大，聚焦斑束大，產(chǎn)生嚴(yán)重相差。冷場(chǎng)致發(fā)射穩(wěn)定性差，對(duì)真空要求高。故EBL系統(tǒng)選用熱場(chǎng)致發(fā)射源?，F(xiàn)在是8頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日旁熱式&熱場(chǎng)致電子源結(jié)構(gòu)示意圖陽(yáng)地超高電場(chǎng)陰陰陽(yáng)現(xiàn)在是9頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日EBL中電子源結(jié)構(gòu)示意圖現(xiàn)在是10頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日幾個(gè)牌子的EBL性能參數(shù)現(xiàn)在是11頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日二次電子探測(cè)器Detector現(xiàn)在是12頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日Illustrationswithdifferentsignalsources現(xiàn)在是13頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日現(xiàn)在是14頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日ImagingbymeansofSE2detector:>5mmWDImagingbymeansofInlensdetector:<=10mmWD(dependingonhighvoltagesetting)ImagingbymeansofBSEdetector:8-10mm(OptimumoftheBSelectrondetection)現(xiàn)在是15頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日InfluenceofAccelerationVoltage現(xiàn)在是16頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日InfluenceofBeamCurrent現(xiàn)在是17頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日InfluenceofWorkingDistance現(xiàn)在是18頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日二、坐標(biāo)系的對(duì)準(zhǔn)現(xiàn)在是19頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日建立坐標(biāo)系現(xiàn)在是20頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日寫場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)現(xiàn)在是21頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日三、曝光現(xiàn)在是22頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日掃描模式現(xiàn)在是23頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日Exposureparameter現(xiàn)在是24頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日Areadose現(xiàn)在是25頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日Linedose現(xiàn)在是26頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日Dotdoes現(xiàn)在是27頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日Areamode現(xiàn)在是28頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日現(xiàn)在是29頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日Linemode現(xiàn)在是30頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日Circlemode現(xiàn)在是31頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日ExposurestrategiesUsedbyRaith現(xiàn)在是32頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日四、臨近效應(yīng)現(xiàn)在是33頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日VisualizationofEnergyDepositionGrid(EDG)現(xiàn)在是34頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日高能電子打斷PMMA內(nèi)高分子鏈?zhǔn)疽鈭D現(xiàn)在是35頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日前散射和背散射隨PMMA厚度的變化關(guān)系現(xiàn)在是36頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日MonteCarloSimulations現(xiàn)在是37頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日Energydeposition現(xiàn)在是38頁(yè)\一共有42頁(yè)\編輯于星期日ProximityfunctiontrajectoriesenergydepositionenergydistributiondoubleGaussianProximityfunctionproximityfunctionhasthesame

shapeasenergydistribution

withrespecttolateraldistancesbut:nodirectrelationbetween

energyandPE!(it’sjustamodel)現(xiàn)在是39