硅半導(dǎo)體表面雜質(zhì)清洗化學(xué)知識簡介教學(xué)課件_第1頁
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第三章硅半導(dǎo)體表面雜質(zhì)清洗的化學(xué)知識簡介處x掌大學(xué)海棠2019.3.19《半導(dǎo)體工藝化學(xué)》天津科學(xué)技術(shù)出版社,1983《半導(dǎo)體制造工藝》張淵機(jī)械工業(yè)出版社對硅片表面清洗的化學(xué)知識做了簡要介紹者在學(xué)習(xí)和應(yīng)用時(shí),進(jìn)一步查閱相關(guān)書籍,核對相關(guān)數(shù)據(jù)和知識1純水簡介1.1純水的概念1.2水電阻率的影響因素2離子交換法制備純2.1離子交換樹脂2.2離子交換法的裝置2.3離子交換法的原埋2.4離子交換法的其它知識2.5電滲析法和反滲透法簡介3硅表面雜質(zhì)類型和清洗步驟3.1硅表面沾污的雜質(zhì)類型3.2RCA清洗法4有機(jī)雜質(zhì)的去除4.1有機(jī)溶劑溶除4.2堿和肥皂去油污4.3合成洗滌劑去油污5無機(jī)雜質(zhì)的去除5.1無機(jī)形52氧化劑5.3絡(luò)合劑6清洗中的安全問題7銅布線層CMP后的清洗簡介(微所在研項(xiàng)目)8清洗新研究的查閱純水簡介1.1純水的概為什么使用超純水?白來水、蒸餾水中含有很多雜質(zhì)。使用這種水去清洗硅片、材料和器皿會在清洗時(shí)把表面沾污什么是超純水?純水,又叫去離子25℃電陽率大于5Mg·cm(5兆歐·厘米=5×10g

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