全口義齒工藝技術(shù)全口義齒工藝技術(shù)無(wú)牙頜印模和模型要求主講人：解麗華

全口義齒制作

全口義齒最重要的前提條件制取精確的印模保證模型的準(zhǔn)確是用可塑性印模材料取得的無(wú)牙上、下頜牙槽嵴和周?chē)浻步M織的陰模。

一、無(wú)牙頜印模

全口義齒印模與模型1、定義2、印模的常用方法二次印模法又稱(chēng)聯(lián)合印模法：組成：由初印模、初模型和終印模、終模型組成。是在患者口中制取兩次印模后完成工作印模的方法。此種方法操作復(fù)雜，易掌握，所取得的印模較準(zhǔn)確，在臨床中應(yīng)用普遍。一、無(wú)牙頜印模

全口義齒印模與模型1）精確的組織解剖形態(tài)以保證義齒基托與支持組織密合；使用正確的材料和方法；是組織均勻受壓，應(yīng)緩沖壓力。3、印模的要求一、無(wú)牙頜印模

全口義齒印模與模型2）適度的伸展范圍印模范圍的大小，決定全口義齒基托大?。辉诓环恋K黏膜皺襞、系帶以及軟腭等功能活動(dòng)的條件下，應(yīng)充分伸展印模邊緣，以便充分?jǐn)U大基托的接觸面積；無(wú)牙頜單位面積上所承受的咀嚼壓力與接觸面積成反比。3、印模的要求一、無(wú)牙頜印模

全口義齒印模與模型3）反映周?chē)M織的功能形態(tài)要制取功能性印模；取印模時(shí)，在印模材料可塑期內(nèi)進(jìn)行肌肉功能整塑，塑造出印模的唇、頰、舌側(cè)邊緣，與功能運(yùn)動(dòng)時(shí)的黏膜皺襞和系帶相吻合。3、印模的要求一、無(wú)牙頜印模

全口義齒印模與模型是灌注模型材料于無(wú)牙頜印模內(nèi)形成的無(wú)牙頜陽(yáng)模。初模型—初印模灌注石膏。用于制作個(gè)別托盤(pán)。終模型（工作模型）—終印模上灌注石膏或人造石。用于制作暫基托及全口義齒。1、定義二、無(wú)牙頜模型

全口義齒印模與模型1）顯示無(wú)牙頜所有的解剖標(biāo)志及黏膜皺襞的形態(tài)2）模型邊緣側(cè)面厚度3mm。

模型基底最薄處不能少于10mm。

模型后緣應(yīng)在腭小凹后4mm。

下頜模型在磨牙后墊自其前緣起

不少于10mm。2、模型要求二、無(wú)牙頜模型

全口義齒印模與模型1）圍模灌注法

在印模的周緣下約2mm處粘著一條約5mm寬的蠟棍。下頜印模的舌側(cè)邊緣間可用蠟版封閉空隙。3、灌模方法二、無(wú)牙頜模型

全口義齒印模與模型沿蠟棒外面及印模后緣圍繞一層成盒型蠟板，蠟板與蠟棍之間用熔蠟粘著，要求圍板上緣至印模最高處的距離不少于10mm，圍板下緣應(yīng)超過(guò)牙合堤牙合平面。

人造石于印模最高處灌注，通過(guò)輕微振動(dòng)幫助材料流動(dòng)。3、灌模方法二、無(wú)牙頜模型

全口義齒印模與模型2）一般灌注法：灌模前用變色筆在邊緣下2mm處畫(huà)線，并且將顫動(dòng)線和后堤區(qū)重新描畫(huà)清楚，便于灌模時(shí)保持邊緣厚度。灌注操作同上。3、灌模方法二、無(wú)牙頜模型

全口義齒印模與模型精確的印模與模型可使全口義齒基托與口腔黏膜高度密合，伸展合適