應(yīng)用電位理論指導(dǎo)濕法脫硫生產(chǎn)

石新民

（北京化工實(shí)驗(yàn)廠）

《化肥工業(yè)》編輯部印

目錄

一、濕法脫硫?qū)嵸|(zhì)

二、濕法脫硫氧化復(fù)原反響原理

三、脫硫溶液中各組分的電極電位

四、脫硫各部氧化復(fù)原反響的可能性

五、脫硫溶液綜合電位及系統(tǒng)內(nèi)各部電位值

六、溶液失控對(duì)生產(chǎn)的影響

七、脫硫液較適宜的電位值及控制方法

八、脫硫液電位的測(cè)定

-V濕法脫硫?qū)嵸|(zhì)

目前濕法脫硫多為濕式二元氧化法，即所用脫硫溶液中除堿性物質(zhì)外，還

含有變價(jià)金屬離子和酚能類物質(zhì)，如改進(jìn)ADA法、楮膠法、MSQ法等。各法

間的差異主要是使用不同的氧化劑，復(fù)合催化劑或添加了絡(luò)合劑等。

其脫硫過程的反響機(jī)理可用如下通式表達(dá)：

1、酸性氣體硫化氫被堿性溶液吸收：

H2s+Na2cO3==NaHS+NaHCO3

2、高價(jià)金屬離子將硫氫根氧化析硫而本身被復(fù)原，價(jià)態(tài)變低：

2M+n+S2==2M+n-i+s°I

3、醍態(tài)物質(zhì)再將低價(jià)金屬離子氧化而自身被復(fù)原成酚態(tài)物質(zhì)：

AQ+M+ni==AHQ+M+11

4、酚態(tài)物質(zhì)經(jīng)過再生被空氣氧化為醍態(tài)物質(zhì)：

AHQ+-O==AQ+HO

222

上述各反響在脫硫系統(tǒng)內(nèi)各相應(yīng)部位連續(xù)進(jìn)行，最終到達(dá)氣體脫硫凈化目

的。

從反響機(jī)理可以看?到，濕法脫硫的實(shí)質(zhì)即為酸性氣體硫化氫被堿液吸收和

硫氫根在經(jīng)過一系列氧化復(fù)原反響后最終被氧化為單質(zhì)硫的過程：

H2s+堿一

S°I-HS——M+n-M+n/-AOS-ARS-O2

此關(guān)系說明了吸收和氧化復(fù)原反響全過程。

假設(shè)要使原料氣中硫化氫不斷地被吸收并全部氧化為單質(zhì)硫，除了設(shè)備上

的保證、工藝條件正常以及溶液組分適宜外，同時(shí)溶液要連續(xù)不斷的被充分再

生氧化，確保溶液中有足夠量的醍態(tài)物質(zhì)和高價(jià)金屬離子，才能很好地完成脫

硫任務(wù)。

二、濕法脫硫氧化復(fù)原反響原理

以醒類物作為載氧體為例，其脫硫反響如下：

H2s===2e+2H++S(E°==0.141伏)⑴

Qz)+2H+12c==HzQ“(E°==n伏)(2)

將以上兩式結(jié)合：

H2s+Q==H2Q+S(電位為n—0.141伏)(3)

能斯特方程式：

匚匚,0.059.［氧化態(tài)］/小

E=E十丁叫扃(4)

在一定溫度下，電對(duì)電極電位的大小與標(biāo)準(zhǔn)氧化復(fù)原電位和溶液中氧化

態(tài)、復(fù)原態(tài)的離子活度有關(guān)。上述反響兩電對(duì)的電極電位為：

ES/H2S==E°S/HS+(5)

22。電S］

EQ/H2Q==E°Q/H?Q+當(dāng)”log黨史工(6)

當(dāng)兩電對(duì)的電極電位相差較大時(shí)(EQ/H2Q>ES/H2S)0氧化復(fù)原反響可

以進(jìn)行，并生成單質(zhì)硫。

E（,Q/HQ-E°S/HS二蟹_嗔//￡迎_

222[也5]@

當(dāng)（3）式中反響比率為震得=炭患，1（）（）時(shí)，認(rèn)為反響根本進(jìn)行

完全。

E°Q/H2Q-E°S/H2S==log100=0.059

（）

EQ/H2Q==0.141+0.059=0.2伏。

即所選用催化劑（中間載氣體）理論上其氧化復(fù)原電位E。〉0.2伏，上

述反響才能進(jìn)行。否那么，催化劑雖能被空氣所氧化，但不能被硫化氫復(fù)原（無

法將硫化氫氧化為單質(zhì)硫）。假設(shè)氧化復(fù)原電位太高，E0N0.75伏時(shí)，其氧化

能力過強(qiáng)，不僅能將硫化氫氧化為單質(zhì)硫，而且能進(jìn)一步氧化為S2O3'、SO?'

等。

又由于醍類物質(zhì)直接氧化硫氫根的反響速度慢，而某些高價(jià)金屬離子（如

V+5、Fe+3）氧化硫氫根反響迅速，所以目前濕法脫硫溶液都是由堿、酚醍

類物質(zhì)和含有某些金屬離子的鹽類或含有某些金屬離子的絡(luò)合物組成。

三、脫硫溶液中各組分得電極電位

1、硫化氫的電位：

ES/H2S==E°S/H2S+竺史log[S]〔”十『

假設(shè)脫硫后系統(tǒng)內(nèi)總氣壓為121560Pa（1.35大氣壓），S含量為O.lg/n?

時(shí)。那么H2s分壓為：

PH2S==121560X31/34）*22/==8Pa

代入上式ES/H2s=0.1702-0.059PH+0.13451g8

2、脫硫液中硫化物電極電位：

E（）+0.059]⑸出2。1

ES/HS"~T~

—0.065-0.0295PH-0.02951g

在一定的溫度、PH值、溶液組成的條件下，脫硫液的電位隨硫氫根濃度

的增加而降低。

3、脫硫液中乳酸鹽（絡(luò)合態(tài)）電極電位：

EV+5/V+4==0.719—0.0886PH+0.029510g匕也以

6[V+4]/m?//Z

據(jù)實(shí)測(cè)鈕與電位關(guān)系近似為：

EV+5/V+4==0.666—0.0886PH+0.10921og|VJ7

此電極電對(duì)電位隨溶液中五價(jià)鈕濃度的增加而升高。

4、脫硫液中酚酶類電極電位：

EQ/H2Q==E°Q/H2Q—0.059PH+0.02951g

田2。]

ADA脫硫液電位與ADA關(guān)系近似為：

E==0.9103—0.059PH—0.0295[ADA]g/l

榜膠脫硫液電位與拷膠關(guān)系可近似為：

E==0.8981—0.059PH—0.0295[楮膠]g/1

從以上各式中可以看出溶液電位與溶液中的中間載氣體濃度有關(guān)，當(dāng)溶液

中慈配二磺酸鈉或楮膠含量增加時(shí)，溶液電位有所降低；當(dāng)溶液中氧化態(tài)ADA

及氧化態(tài)榨膠含量增加時(shí)溶液電位也相應(yīng)升高。

5、氧在再生過程中的電極電位：

EO2/H—”叫g(shù)也上

4PO2

假設(shè)再生槽出口氣壓為101325Pa（1大氣壓），其中剩余氧為空氣中的

3/4,那么PO2為15那8Pa°那么：

EO2/H2O==1.218—0.0592PH

溶液電位隨氧氣分壓增加而升高。

6、從以上各公式中可看到電位值和溶液PH值有關(guān)，也和各物的氧化態(tài)、

復(fù)原態(tài)濃度有關(guān)。

四、脫硫各步氧化復(fù)原反響的可能性

將脫硫系統(tǒng)溶液中各電對(duì)以在一定條件下根據(jù)能斯特公式求出電位與PH

關(guān)系，并作圖，可得出各電對(duì)電位線］如圖）。

0.8

外，04PH值確定后，那么某氧化復(fù)原，電對(duì)在25c條件下的電位

值與該電又，態(tài)及復(fù)原態(tài)物質(zhì)濃度有關(guān)：

0.2

.059,[Ox]0.059

E11==-----log---——--------PH

n[Re]n

氧化?！銃?的熱力學(xué)性質(zhì)

氧化2E。伏電動(dòng)勢(shì)表示式E°E00伏

1、Mi?++e-----?*2+

1.51+0.05911g^P

1.511.51

[M/72+]

.(I4

2、H2O2+2H+J；2H2。

1.8+0.02951g風(fēng)2j—o059]

1.80pH1.27

風(fēng)0『

3、Fe3++e——>Fe2+

\Fe3+]

0.7710.771+0.05911g襄J0.771

4、O2+4H++4e——?H2O

1.2291.229+0.010771g—0.0591PH0.699

5、BQ+2e+2H>——>BHQ

().669+().()2951g」即,—0.0591PH

0.6690.169

[BHQ]

6、Fe(SsaL)2+e—?Fe(SsaL)

—約-0.007°

22-

7、NQ+2e+2H+——?NHQ

0.535+00295坨[2Q]—oO591pH

0.535\NHQ\0.005

8、PQ+2e+2FT——>PHQ

0.478+0.02951g-^--0.0591PH

0.478—0.052

[PHQ]

9、2H2Vo/+3H++2e——>

0.73l+0.02951gI"。1—0.0866P/

H.V2O5一+3氏00.719-0.066°

[HV2O-]

10、FeY2+OH——?—0.137+0.05911g約0.01°

FeY(OH)2-4-e

[FeY(O?)2]+o()591Q4_pH)

IFeY2-]

11、V（酒石酸鉀鈉）0.353—

12、AQ+2e+2H+——>AHQ

0.228

0.228+0.02951g[4口—0.0591PH-0.301

0.229[AHQ]

13、S+2H+2e——?2HS-

-0.06[5°I

-O.()65+().O295Ig-^——0.0295PH-0.331

5田sr

14、Fe(ATMP)—-0.106°

15>Fe(HEDP)—-0.026°

16、Fe(HEDP-NTA)—-0.044°

注：。測(cè)定值00PH=9（Ox）/（Re）==l時(shí)的電動(dòng)勢(shì)。

脫硫溶液PH值在3.5?9。假定溶液PH值為9.0,上式為一直線方程以

log需對(duì)E作圖如下:

圖中各直線表示出反響過程中氧化態(tài)、復(fù)原態(tài)物質(zhì)濃度與氧化復(fù)原電對(duì)電

位之間的關(guān)系。

UJ

任何冬［反響的方向都是E。高的電對(duì)中的氧化形與E。低的電對(duì)中的

復(fù)原形相?I其對(duì)應(yīng)的方向進(jìn)行。按此理，氧能對(duì)酚氧化為醒，醒能將低

0.5

價(jià)金屬離一J高價(jià)金屬離子，最后高價(jià)金屬離子再將硫氫根氧化為單質(zhì)

硫。

在E-4關(guān)系圖中可以看到，機(jī)電對(duì)的標(biāo)準(zhǔn)電極電位與某些酚醍物

0

標(biāo)準(zhǔn)電極日:。有的相似，有的還略高些。看來反響難以進(jìn)行或反響順序

似應(yīng)顛倒文:實(shí)不然，實(shí)際脫硫反響進(jìn)行方向應(yīng)以各電對(duì)實(shí)際電位（E）

為準(zhǔn)，BP5t系統(tǒng)中某電對(duì)在任意狀態(tài)（某溫度、PH值、活度一一近似

-05

于濃度）的四七位值為準(zhǔn)。所以當(dāng)上述條件發(fā)生變化時(shí)，各電對(duì)E值也相應(yīng)

發(fā)生變化，同一系統(tǒng)內(nèi)溶液溫度、PH值是相同的（嚴(yán)格講是系統(tǒng)E值的變化

是隨著吸收和再生對(duì)氧化態(tài)。）復(fù)原態(tài)物濃度不斷變E==f（［氧化態(tài)］/［復(fù)原

態(tài)］），按此可推算出不同的E氧化百分率圖。

氧化百分率％

銳與AQ的E氧化百分率示意圖

上圖說明，某一電對(duì)在一定PH值時(shí)，電位E隨氧化態(tài)百分比率變化的趨

勢(shì)。在EQ/HQ與EV+5/V+4隨氧化百分比率變化的示意圖中，該兩曲線的PH

值相同且不變。當(dāng)氧化率==5（）%時(shí)E=E。一（）.0591%PH,曲線的右上方是貧

n

液，左下方是富液。當(dāng)吸收硫化氫后，富液中的高價(jià)鋼氧化硫氫根后被復(fù)原為

低價(jià)車凡，那么EV+5/V+4將降至c點(diǎn)。而酚類物質(zhì)在再生氧化后至氧化低價(jià)機(jī)

之前EQ/HQ處于D點(diǎn)，所以盡管EW+5/V+4AE0Q/HQ,但由于氧化態(tài)與復(fù)原

態(tài)物質(zhì)濃度比值的變化使ED>EC,那么醍就能氧化V+4。隨著此氧化復(fù)原反

響的進(jìn)行，V+5濃度增加。EV+5/V+4沿曲線上升。與此相反，隨醍濃度降低，

EQ/HQ沿曲線下降。當(dāng)兩者升、降至F、G點(diǎn)時(shí)EF==EG,電位到達(dá)平衡。

該氧化復(fù)原反響停止。

在脫硫吸收和再生過程中，溶液內(nèi)各電對(duì)之間的氧化復(fù)原反響不間斷地循

環(huán)進(jìn)行。

五、脫硫溶液綜合電位及系統(tǒng)內(nèi)各部電位值

對(duì)于不同方法的脫硫來說，各種溶液之間其電位值有一定的差異，即使是

同一種方法脫硫，也將因各廠工藝條件、溶液組分濃度不同等而有區(qū)別。

不管應(yīng)用哪種方法脫硫其溶液都是由多種具有氧化復(fù)原性物質(zhì)組成的復(fù)

2-

雜體系（含Q/HQ、V+5/V+4、HS，S2O3>CNS，溶解氧、堿等系其中各

物質(zhì)氧化態(tài)、復(fù)原態(tài)濃度及PH值、溫度、副鹽等都將影響溶液的電位。因影

響因素多，且相互關(guān)聯(lián)，所以無法通過計(jì)算來求出溶液綜合電位值。但假設(shè)生

產(chǎn)裝置合理、溶液組份適宜、生產(chǎn)負(fù)荷穩(wěn)定、再生氧化較充分。那么溶液電位

能穩(wěn)定在某一范圍值內(nèi)。并處于動(dòng)平衡狀態(tài)。其實(shí)際電位值可以通過電位計(jì)很

容易地較準(zhǔn)確測(cè)得。

在生產(chǎn)正常進(jìn)行的過程中，溶液運(yùn)行到系統(tǒng)各部位時(shí)其電位值將隨化學(xué)反

響的發(fā)生呈現(xiàn)出規(guī)律性的變化。如果一脫硫中試裝置，在吸收塔底部溶液電位

值為一400mv左右，反響槽出口為一420mv左右，再生噴射器出口為一250mv

左右，再生槽出口為一160mv左右。

在生產(chǎn)流程中的某一固定部位，如生產(chǎn)情況正常，各有關(guān)條件都穩(wěn)定不變，

那么該處溶液的電位不會(huì)隨時(shí)間的變化而改變（或變化很?。?。反之，如測(cè)得

某一固定部位溶液電位正常不變，那么可推斷生產(chǎn)根本正常，如某廠脫硫裝置，

其吸收塔出口溶液電位值為一350mv左右，反響槽出口為一340mv左右，再生

后溶液為一18（）mv左右。假設(shè)低于一400mv,那么將發(fā)生S2O32-高的問題。

六、溶液電位失控對(duì)生產(chǎn)的影響

當(dāng)吸收與再生不匹配或其他原因造成溶液電位偏低（極少是電位偏高）時(shí)，

那么生產(chǎn)將不同程度地陷入被動(dòng)局面。

一般情況下溶液電位失控常指電位偏低，對(duì)生產(chǎn)有如下危害和影響：

1、隨溶液電位的降低，氣體凈化度將變差，嚴(yán)重時(shí)出口硫化氫超標(biāo)。

2、生成硫代硫酸鈉（及硫氟酸鈉〕的副反響加快，溶液中副鹽量累積快

速增加。

3、原料消耗大大增加，除副鹽的生成消耗堿外，如溶液電位過低，溶液

中四價(jià)釵及硫氫根都很高，易生成硫氧鈕沉淀而使用凡大量損失。

4、析硫不正常，并對(duì)溶硫也有影響，硫回收率低。

5、因硫氫根不能完全被氧化為單質(zhì)硫，致使一局部又以硫化氫的形式逸

出（在反響槽外），污染環(huán)境。

另一種情況是空氣與溶液接觸時(shí)間過長(zhǎng)，氧化過度，使生成硫酸鹽的副反

響加快，不但堿耗增加，而且將因溶液中硫酸鹽積累量過高，而使設(shè)備腐蝕加

劇。

由此圖可知，如PH值不變，隨E增加HS一可氧化為S。、S2O3、SO4o當(dāng)

溶液電位控制在適宜范圍值時(shí)，HS-將絕大局部氧化為S。，在失控時(shí)將發(fā)生較

重副反響；當(dāng)溶液電位值嚴(yán)重失控時(shí)，副反響快，消耗高。溶液組分難以維持,

致使脫硫凈化度大大降低，再生氧化效率下降等，并發(fā)生惡性循環(huán)。

七、脫硫液較適宜的電位值及控制方法

在生產(chǎn)裝置狀態(tài)良好，溶液組分含量適宜時(shí)，根據(jù)能斯特公式可求出脫硫

要到達(dá)某凈化度時(shí)溶液（貧液）所應(yīng)具有的最低電位理論值：

ES/H2S=0.1702—0.059PH一0.02951gPH2S

假設(shè)原料氣壓力為0.2大氣壓，溶液PH值為8.7時(shí)，假設(shè)要求凈化后氣

體中硫化氫在20mg/m3以下，那么溶液電位值應(yīng)為：

PH.S二=（l+0.2）X22.4x0.02/34二勺與8X10-5大氣壓。

1000

-5

ES/H2S==0.1702—0.059X8.7—X10

二二一201mv

即理論上脫硫貧液電位至少要高于一201mv才能保證凈化氣硫化氫含量

低于20mg/m3o

同理，假設(shè)要使凈化后氣中硫化氫含量低于2mg/n13,那么貧液電位應(yīng)高

于一172mv才行。

當(dāng)然不同的生產(chǎn)裝置，不同的工藝條件和溶液組分含量相互有差異，有些

廠之間情況相差較大，所以即使溶液電位控制在某一相同值而凈化后氣體中硫

化氫含量也會(huì)不盡相同，但總趨勢(shì)是一致的。

由于各脫硫裝置或多或少存在某些缺陷，工藝條件不盡合理及溶液組分含

量波動(dòng)等原因。所以在大多數(shù)情況下其凈化度與溶液電位值難以在理論上相吻

合。各廠可在本廠特定條件下通過實(shí)踐找出實(shí)際凈化度和溶液電位之間的關(guān)系

來。

具體方法是當(dāng)設(shè)備裝置較合理、工藝條件較穩(wěn)定、溶液組分含量較適宜時(shí)。

通過對(duì)脫硫效率、副反響速度、原料消耗、硫回收率以及溶液電位測(cè)定來找出

其對(duì)應(yīng)關(guān)系。以脫硫凈化度高、副反響硫代硫酸鹽和硫酸鹽生成率都低、原料

消耗低、硫回收率高時(shí)的電位為本裝置在這個(gè)時(shí)期內(nèi)的最正確電位。當(dāng)然最正

確電位會(huì)隨各因素的變化而有所變化，所以為了有效的指導(dǎo)生產(chǎn)，應(yīng)定期進(jìn)行

分析、驗(yàn)證，并參考最正確電位標(biāo)準(zhǔn)，對(duì)同一裝置而言，一般情況下變化不大。

S

〔100

％NaS233Na2S34.

)

榭^280^120-8（）mv

再

國說90

曲卒液電位值過低時(shí)，液中硫氫根多，在進(jìn)行再生與空氣接觸

大

量

磐

時(shí)>

班浚鹽（硫魁酸鹽）生成，假設(shè)溶液電位過高，那么硫代硫酸

步

鹽80

將

進(jìn)勺硫酸鹽。所以當(dāng)溶液電位失控時(shí)，副反響速度加快，溶液

中副鹽含量金而溶液電位適宜時(shí)，被堿液吸收下來的硫氫根幾乎全部

被氧化生成硫回收效率高，且較少發(fā)生副反響。（總副反響生成率為

6%左右）。h「看出溶液較適宜的電位值約在一160?―180mv左右。這在

某些廠家已20正，而有少數(shù)廠家溶液適宜電位與此相差較遠(yuǎn)。

另應(yīng)注:10為溶液循環(huán)量過小或溶液中各組分濃度過低時(shí)，即使再生較

好、貧液電?（表觀現(xiàn)象）。但由于進(jìn)入吸收塔的五價(jià)釵、氧化態(tài)榨膠等

0

的量有限，小蛇桁液中HS一全部氧化析硫，使過多的剩余HS一被富液泵送入再

生槽，隨即發(fā)生副反響，造成硫代硫酸鈉大量生成。

此時(shí)從溶液電位看不出問題來（因循環(huán)量小所以被再生的液量也小，較易

再生好）。故應(yīng)配合富液電位測(cè)定看此值是否低于正常值。1一般在一350mv

左右）然后再分別加大循環(huán)液量并及時(shí)提高溶液組分含量使生產(chǎn)正常。

只有嚴(yán)格控制溶液電位，才能保證生產(chǎn)正常進(jìn)行。從生產(chǎn)實(shí)際情況看，脫

硫的生產(chǎn)裝置、生產(chǎn)負(fù)荷、工藝條件、溶液組分等都是較穩(wěn)定的，所以日常生

產(chǎn)過程中溶液電位的上下取決于再生氧化效率的上下，而決定再生氧化效率的

關(guān)鍵問題是再生方式，其中以噴射再生效率最高，高塔再生次之，氧化槽再生

效率最低。在再生設(shè)備確定了的前提下，再生空氣量的大小是影響溶液電位的

主要因素。

所以在溶液組分適宜的前提下可以調(diào)節(jié)再生空氣量來使溶液具有適宜的

電位值。

2.53.03.54.04.5

g（氣/液）

1-200E與再生空氣量關(guān)系圖（噴射再生）

止g:液電位與再生空氣量成正比的關(guān)系。對(duì)某一脫硫裝置而言，

吸入耳2-3001再生空氣量，就能確保溶液具有一定的電位值。在此應(yīng)注意

因?yàn)獒埽簜渚哂胁煌脑偕剩諝饫寐什煌?。所以即使再?/p>

空氣害o也』因上述原因而產(chǎn)生不同的效果。另外，不同的噴射再生器之

間，其再生效率也有較大的差異，所以選擇高效噴射器進(jìn)行溶液再生是濕法脫

硫的關(guān)鍵問題。

此圖還說明，在一定范圍內(nèi)溶液電位隨再生空氣量的增加而明顯上升。超

過此范圍后，假設(shè)再加大空氣量，其溶液電位的增長(zhǎng)將趨于平緩。

再生空氣量的調(diào)節(jié)方法，對(duì)于高塔再生或氧化槽再生，可通過空壓機(jī)或鼓

風(fēng)機(jī)出口閥門及放空閥門得開度來調(diào)節(jié)；對(duì)于噴射再生應(yīng)在保證噴頭內(nèi)溶液具

較高壓力前提下，調(diào)節(jié)自吸空氣閥門的開度。以增、減吸入空氣量。較便利的

方法是在噴射器空氣吸入口不裝閥門，僅貼一小塊石棉板，以其遮擋吸氣口面

積大小來調(diào)節(jié)再生空氣量（此法可節(jié)省閥門，而且調(diào)節(jié)方便，空氣阻力?。?/p>

當(dāng)溶液電位接近適宜電位范圍的上限或下限時(shí)，應(yīng)隨時(shí)調(diào)節(jié)再生空氣量，

并配合調(diào)整溶液組分含量等，防止溶液電位大幅度變化和電位嚴(yán)重超標(biāo)。

在用調(diào)節(jié)再生空氣量來控制溶液電位的同時(shí)，還要兼顧再生槽吹風(fēng)強(qiáng)度、

硫泡沫浮選情況以及氣提作用等問題。

另外，當(dāng)發(fā)現(xiàn)調(diào)節(jié)空氣量對(duì)溶液電位變化幅度偏小時(shí)，應(yīng)考慮設(shè)備有無問

題，操作條件有無大變化、溶液組分含量是否適宜等因素，以期到達(dá)更好效果。

八、脫硫液電位的測(cè)定

應(yīng)用高阻抗的電子毫伏計(jì)（一般的酸度計(jì)，各型號(hào)均可用）。配以甘汞參

比電極和伯指示電極，在將這一對(duì)電極插入被測(cè)的脫硫液中時(shí)，參比電極電位

恒定不變，而指示電極的電極電位隨溶液氧化復(fù)原性的上下而變化，此兩電極

的電動(dòng)勢(shì)直接反響出脫硫液的氧化復(fù)原性。

金屬電極與溶液接觸的相界之間所產(chǎn)生的電勢(shì)降為電極電位，此值的上下

向溶液中組成半電