(12)發(fā)明專利(10)授權(quán)公告號CN110376231B(65)同一申請的已公布的文獻(xiàn)號(30)優(yōu)先權(quán)數(shù)據(jù)G01N23/207(2006.01)(73)專利權(quán)人馬爾文帕納科公司地址荷蘭阿爾默洛(74)專利代理機(jī)構(gòu)北京安信方達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11262專利代理師胡秋玲鄭霞(54)發(fā)明名稱具有對光束發(fā)散度的混合控制的X射線分析裝置及方法本申請涉及具有對光束發(fā)散度的混合控制的X射線分析裝置及方法。該裝置包括位于X射線源(4)和樣品(6)之間的可調(diào)狹縫(210,210a);和可選地另一狹縫(220)?？刂破?17)被配置成在第一寬度、更大的第二寬度和甚至更大的第三寬度之間控制可調(diào)狹縫的寬度。在第一寬度和第二寬度下：可調(diào)狹縫(210)限制入射光束的發(fā)散度，從而限制樣品的被照射區(qū)域；并且另一狹縫(220)不限制入射光束的發(fā)散度。在第三寬度下：可調(diào)狹縫(210)不限制入射光束的發(fā)散度，并且另一狹縫(220)限制入射光束的發(fā)散度，從而限22X射線源(4),所述X射線源被配置成生成X射線；樣品臺(8),所述樣品臺被配置成支撐樣品(6),所述X射線源和所述樣品臺被布置成使得由所述X射線源生成的X射線限定照射所述樣品的入射光束；可調(diào)狹縫(210),所述可調(diào)狹縫在所述X射線源和所述樣品之間；另一狹縫(220),所述另一狹縫在所述X射線源和所述可調(diào)狹縫之間，或者在所述可調(diào)狹縫和所述樣品之間；以及控制器(17),所述控制器被配置成控制所述可調(diào)狹縫的寬度，其中，所述控制器被配置成在第一寬度、第二寬度和第三寬度之間改變所述可調(diào)狹縫的寬度，所述第三寬度大于所述第二寬度，所述第二寬度大于所述第一寬度，其中在所述第一寬度下：所述可調(diào)狹縫將所述入射光束的發(fā)散度限制在第一發(fā)散角，從而限制所述樣品的被照射區(qū)域，在所述第二寬度下：所述可調(diào)狹縫將所述入射光束的發(fā)散度限制在第二發(fā)散角，從而限制所述樣品的被照射區(qū)域，以及在所述第三寬度下：所述可調(diào)狹縫不限制所述入射光束的發(fā)散度；以及所述另一狹縫將所述入射光束的發(fā)散度限制在第三發(fā)散角，從而限制所述樣品的被照射區(qū)域，其中，所述第三發(fā)散角大于所述第二發(fā)散角，并且所述第二發(fā)散角大于所述第一發(fā)散2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線分析裝置，其中，所述另一狹縫(220)是不可調(diào)狹縫。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線分析裝置，其中，所述另一狹縫是可調(diào)節(jié)的。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的X射線分析裝置，還包括測角儀，其中，所述X射線源被安裝到所述測角儀以便繞所述測角儀的軸可旋轉(zhuǎn)，從而以一個(gè)范圍內(nèi)的不同入射角照射所述樣品。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的X射線分析裝置，其中，所述控制器被配置成控制所述測角儀當(dāng)所述測角儀被設(shè)置為第一入射角時(shí)，所述可調(diào)狹縫被設(shè)置為所述第一寬度；當(dāng)所述測角儀被設(shè)置為第二入射角時(shí)，所述可調(diào)狹縫被設(shè)置為所述第二寬度；以及當(dāng)所述測角儀被設(shè)置為第三入射角時(shí)，所述可調(diào)狹縫被設(shè)置為所述第三寬度，所述第三入射角大于所述第二入射角，并且所述第二入射角大于所述第一入射角。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的X射線分析裝置，其中，所述控制器被配置成控制所述可調(diào)狹縫的寬度，使得在所述測角儀的入射角的范圍內(nèi)，所述入射光束照射所述樣品的恒定區(qū)域。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的X射線分析裝置，還包括X射線檢測器(14),所述X射線檢測器被布置成接收來自所述樣品(6)的X射線，并且被配置成產(chǎn)生測量接收到的X射線的強(qiáng)度的輸出信號，其中，所述控制器被配置成接收來自所述X射線檢測器的輸出信號，并且被配置成通過以下方式來歸一化測量到的強(qiáng)度：當(dāng)所述可調(diào)狹縫被設(shè)置為所述第一寬度或所述第二寬度時(shí)，基于所述可調(diào)狹縫的寬度3當(dāng)所述可調(diào)狹縫被設(shè)置為所述第三寬度時(shí)，基于所述另一狹縫的寬度來執(zhí)行第二歸一化計(jì)算。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的X射線分析裝置，其中，所述X射線分析裝置被配置用于X射線熒光測量。10.一種使用裝置進(jìn)行X射線分析的方法，所述裝置包括：X射線源(4),所述X射線源被配置成生成X射線；樣品臺(8),所述樣品臺被配置成支撐樣品(6),所述X射線源和所述樣品臺被布置成使得由所述X射線源生成的X射線限定照射所述樣品的入射光束；可調(diào)狹縫(210),所述可調(diào)狹縫在所述X射線源和所述樣品之間；另一狹縫(220),所述另一狹縫在所述X射線源和所述可調(diào)狹縫之間，或者在所述可調(diào)狹縫和所述樣品之間；以及控制器(17),所述控制器被配置成控制所述可調(diào)狹縫的寬度，所述方法包括：通過所述控制器將所述可調(diào)狹縫設(shè)置為第一寬度，在所述第一寬度下，所述可調(diào)狹縫將所述入射光束的發(fā)散度限制在第一發(fā)散角，從而限制所述樣品的被照射區(qū)域；通過所述控制器將所述可調(diào)狹縫設(shè)置為第二寬度，在所述第二寬度下，所述可調(diào)狹縫將所述入射光束的發(fā)散度限制在第二發(fā)散角，從而限制所述樣品的被照射區(qū)域；以及通過所述控制器將所述可調(diào)狹縫設(shè)置為第三寬度，在所述第三寬度下，所述可調(diào)狹縫不限制所述入射光束的發(fā)散度，并且所述另一狹縫將所述入射光束的發(fā)散度限制在第三發(fā)散角，從而限制所述樣品的被照射區(qū)域，其中，所述第三寬度大于所述第二寬度，并且所述第二寬度大于所述第一寬度，并且其中，所述第三發(fā)散角大于所述第二發(fā)散角，并且所述第二發(fā)散角大于所述第一發(fā)散11.一種使用裝置進(jìn)行X射線分析的方法，所述裝置包括：X射線源(4),所述X射線源被配置成生成X射線；樣品臺(8),所述樣品臺被配置成支撐樣品(6),所述X射線源和所述樣品臺被布置成使得由所述X射線源生成的X射線限定照射所述樣品的入射光束；可調(diào)狹縫(210),所述可調(diào)狹縫在所述X射線源和所述樣品之間；測角儀，其中，所述X射線源被安裝到所述測角儀以便繞所述測角儀的軸可旋轉(zhuǎn)，從而以一個(gè)范圍內(nèi)的不同入射角照射所述樣品；以及控制器(17),所述控制器被配置成控制所述測角儀和所述可調(diào)狹縫的寬度，所述方法包括：當(dāng)所述測角儀被設(shè)置為第一入射角時(shí)，通過所述控制器將所述可調(diào)狹縫設(shè)置為第一寬度，在所述第一寬度下，所述可調(diào)狹縫將所述入射光束的發(fā)散度限制在第一發(fā)散角，從而限制所述樣品的被照射區(qū)域；當(dāng)所述測角儀被設(shè)置為第二入射角時(shí)，通過所述控制器將所述可調(diào)狹縫設(shè)置為第二寬度，在所述第二寬度下，所述可調(diào)狹縫將所述入射光束的發(fā)散度限制在第二發(fā)散角，從而限制所述樣品的被照射區(qū)域；4當(dāng)所述測角儀被設(shè)置為第三入射角時(shí)，通過所述控制器將所述可調(diào)狹縫設(shè)置為第三寬度，在所述第三寬度下，所述可調(diào)狹縫將所述入射光束的發(fā)散度限制在第三發(fā)散角，從而限當(dāng)所述測角儀被設(shè)置為第四入射角時(shí)，通過所述控制器將所述可調(diào)狹縫設(shè)置為所述第三寬度，其中，所述第三寬度大于所述第二寬度，并且所述第二寬度大于所述第一寬度，其中，所述第三發(fā)散角大于所述第二發(fā)散角，并且所述第二發(fā)散角大于所述第一發(fā)散其中，所述第四入射角大于所述第三入射角，所述第三入射角大于所述第二入射角，并且所述第二入射角大于所述第一入射角。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述控制器控制所述可調(diào)狹縫的寬度，使得在從所述第一入射角到所述第二入射角的入射角的范圍內(nèi)，所述入射光束照射所述樣品的恒定區(qū)域。13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的方法，其中，所述裝置包括位于所述可調(diào)狹縫和所述樣品之間的另一狹縫(220),使得所述入射光束穿過所述另一狹縫，但是所述另一狹縫不限制所述入射光束的發(fā)散度。14.一種計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，具有在其上存儲的計(jì)算機(jī)程序，所述計(jì)算機(jī)程序包括計(jì)算機(jī)程序代碼，所述計(jì)算機(jī)程序被配置成當(dāng)在X射線分析裝置的控制器上運(yùn)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)，使得所述控制器執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求10至13中任一項(xiàng)所述的方法的所有步驟。樣品臺，其被配置成支撐樣品，所述X射線源和所述樣品臺被布置成使得由所述X射線源生成的X射線限定照射所述樣品的入射光束；測角儀，其中所述X射線源被安裝到所述測角儀，從而以一個(gè)范圍內(nèi)的不同入射角照射控制器，其被配置成控制所述測角儀和所述可調(diào)狹縫的寬度，其中，所述控制器被配置成在第一寬度、第二寬度和第三寬度之間改變所述可調(diào)狹縫在所述第一寬度下：所述可調(diào)狹縫將所述入射光束的發(fā)散度限制在第一發(fā)散角，從而限制所述樣品的被照射區(qū)域，在所述第二寬度下：所述可調(diào)狹縫將所述入射光束的發(fā)散度限制在第二發(fā)散角，從而限制所述樣品的被照在所述第三寬度下：所述可調(diào)狹縫將所述入射光束的發(fā)散度限制在第三發(fā)散角，從而限制所述樣品的被照射區(qū)域，其中，所述第三發(fā)散角大于所述第二發(fā)散角，并且所述第二發(fā)散角大于所述第一發(fā)散5所述第四入射角大于所述第三入射角，所述第三入射角大于6發(fā)明領(lǐng)域[0001]本發(fā)明涉及用于X射線分析的裝置和方法。實(shí)施例尤其涉及用于進(jìn)行X射線衍射測量的X射線衍射裝置和方法。[0002]X射線衍射是用于表征材料樣品的分析技術(shù)。X射線衍射一種特定方法是布拉格布倫塔諾(BraggBrentano)法。使用X射線分析物質(zhì)的其他方法包括掠入射X射線衍射射線分析包括X射線熒光。[0003]通常，通過沿著入射光束路徑將來自X射線源的X射線引導(dǎo)到樣品上，并使用X射線[0004]諸如發(fā)散狹縫、防散射狹縫和準(zhǔn)直器(collimator)的X射線光學(xué)器件可以被設(shè)置在入射和/或衍射/散射光束側(cè)。根據(jù)所使用的具體方法來選擇X射線光學(xué)器件。[0005]此外，通常在一批樣品上執(zhí)行X射線測量。為了優(yōu)化結(jié)果的質(zhì)量，可以針對要被分析的樣品的類型來具體地選擇X射線光學(xué)器件。[0006]為了將X射線分析裝備用于不同的應(yīng)用，用戶必須重新配置X射線裝備。這需要專[0007]因此，希望提供一種能夠以最小的手動(dòng)重新配置來針對多個(gè)不同應(yīng)用實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量測量的X射線裝置。[0008]過去，在一些應(yīng)用中使用固定的發(fā)散狹縫。這在樣品上產(chǎn)生被照射區(qū)域，該區(qū)域的大小隨著入射光束角度的增加而減小。[0009]在其他一些應(yīng)用中，使用了可編程(可調(diào)節(jié))發(fā)散狹縫。這可以允許根據(jù)入射光束角度來控制光束發(fā)散度，使得當(dāng)入射光束角度改變時(shí)，樣品的恒定、固定區(qū)域被照亮。通常在可調(diào)發(fā)散狹縫后面(即，可調(diào)發(fā)散狹縫和樣品之間)使用防散射狹縫，因?yàn)榭烧{(diào)狹縫可能產(chǎn)生寄生散射(parasiticscatter)。然而，該防散射狹縫并不限制入射光束的發(fā)散度，換句話說，它并不阻擋或干擾光束本身，它只阻擋[0011]本發(fā)明由權(quán)利要求限定。根據(jù)本發(fā)明的[0013]樣品臺，其被配置成支撐樣品，X射線源和樣品臺被布置成使得由X射線源生成的X射線限定照射樣品的入射光束；[0016]控制器，其被配置成控制可調(diào)狹縫的寬度，[0017]其中，控制器被配置成在第一寬度、第二寬度和第三寬度之間改變可調(diào)狹縫的寬7[0019]可調(diào)狹縫將入射光束的發(fā)散度限制在第一發(fā)散角，從而限制樣品的被照射區(qū)域；并且[0020]另一狹縫優(yōu)選地不限制入射光束的發(fā)散度，[0022]可調(diào)狹縫將入射光束的發(fā)散度限制在第二發(fā)散角，從而限制樣品的被照射區(qū)域；并且[0023]另一狹縫優(yōu)選地不限制入射光束的發(fā)散度，以及[0025]可調(diào)狹縫不限制入射光束的發(fā)散度，并且[0026]另一狹縫將入射光束的發(fā)散度限制在第三發(fā)散角，從而限制樣品的被照射區(qū)域，[0027]其中，第三發(fā)散角大于第二發(fā)散角，并且第二發(fā)散角大于第一發(fā)散角。[0028]本發(fā)明人已經(jīng)認(rèn)識到混合系統(tǒng)將是有利的，其中在某些配置中可調(diào)狹縫限制入射光束的發(fā)散度，并且在某些其他配置中另一狹縫限制入射光束的發(fā)散度。[0029]如果另一狹縫位于可調(diào)狹縫和樣品之間，那么,當(dāng)可調(diào)狹縫限制入射光束的發(fā)散度時(shí)，另一狹縫可以用作防散射狹縫，而不會阻擋或干擾入射光束本身。[0030]相反，如果另一狹縫位于X射線源和可調(diào)狹縫之間，則可調(diào)狹縫可以用作由另一狹縫散射的X射線的防散射狹縫。特別地，當(dāng)另一狹縫限制入射光束的發(fā)散度時(shí)，可調(diào)狹縫可以用作防散射狹縫。[0031]入射光束穿過可調(diào)狹縫和另一狹縫。[0032]當(dāng)設(shè)置為第一寬度和第二寬度時(shí)，可調(diào)狹縫阻擋入射光束的一部分。[0033]當(dāng)設(shè)置為第三寬度時(shí)，可調(diào)狹縫優(yōu)選地在入射光束外部。也就是說，在第三寬度下，可調(diào)狹縫優(yōu)選地不阻擋或干擾入射光束的任何部分。[0034]可調(diào)狹縫可以用作可編程發(fā)散狹縫。如果另一狹縫位于可調(diào)狹縫和樣品之間，那么,當(dāng)可調(diào)狹縫被設(shè)置為第一寬度和第二寬度時(shí)，另一狹縫可以用作防散射狹縫。當(dāng)可調(diào)狹縫被設(shè)置為第三寬度時(shí)，另一狹縫可以用作發(fā)散狹縫。[0035]裝置通常還包括X射線檢測器，其被布置成接收來自樣品的X射線。在各種不同的[0037]如果不可調(diào)的另一狹縫位于可調(diào)狹縫和樣品之間，那么,當(dāng)可調(diào)狹縫被設(shè)置為第一寬度和第二寬度時(shí)，不可調(diào)的另一狹縫可以用作固定的防散射狹縫。當(dāng)可調(diào)狹縫被設(shè)置為第三寬度時(shí)，不可調(diào)的另一狹縫可以用作固定的發(fā)散狹縫。[0038]因?yàn)椴豢烧{(diào)狹縫不需要在可調(diào)狹縫的所有配置中都對光束無阻礙的(beclearof),所以不可調(diào)狹縫可以具有比先前組合可編程發(fā)散狹縫和防散射狹縫的實(shí)例的更窄的寬度。當(dāng)可調(diào)狹縫控制光束發(fā)散度時(shí)，這種更窄的寬度可以允許改善對散射的抑制。[0039]如果不可調(diào)的另一狹縫位于X射線源和可調(diào)狹縫之間，那么,當(dāng)可調(diào)狹縫被設(shè)置為第三寬度時(shí)，可調(diào)狹縫可以用作可調(diào)防散射狹縫。8[0041]X射線分析裝置還可以包括測角儀，其中，X射線源被安裝到測角儀，以便以一個(gè)范圍內(nèi)的不同入射角照射樣品。在一些實(shí)施例中，X射線源可以繞測角儀的軸可旋轉(zhuǎn)?？蛇x地或附加地，可以旋轉(zhuǎn)樣品臺，使得以該范圍內(nèi)的不同入射角照射樣品。[0042]控制器可以被配置成控制測角儀和可調(diào)狹縫，使得：當(dāng)測角儀被設(shè)置為第一入射角時(shí)，可調(diào)狹縫被設(shè)置為第一寬度；當(dāng)測角儀被設(shè)置為第二入射角時(shí)，可調(diào)狹縫被設(shè)置為第二寬度；并且當(dāng)測角儀被設(shè)置為第三入射角時(shí)，可調(diào)狹縫被設(shè)置為第三寬度，第三入射角大于第二入射角，并且第二入射角大于第一入射角。[0043]因此，第三角度是最高入射角，并且第一角度是最低入射角。第二角度在第一角度和第三角度之間。[0044]控制器可以被配置成控制可調(diào)狹縫的寬度，使得在測角儀的入射角的范圍內(nèi)，入射光束照射樣品的恒定區(qū)域。[0045]特別地，控制器可以控制可調(diào)狹縫的寬度，使得入射光束在第一角度和第二角度下照射樣品的恒定區(qū)域。[0046]以這種方式，裝置可以在低角度下在第一模式中操作，并且在高角度下在第二模式中操作。在第一模式中，通過根據(jù)測角儀的角度來控制可調(diào)狹縫的寬度，入射光束照亮樣品的固定長度(即，照射恒定區(qū)域)。在第二模式中，入射光束具有由另一狹縫控制的固定的發(fā)散度。[0047]在第一種模式中，控制器控制可調(diào)狹縫隨著入射光束角度的增加而開口更寬。[0048]裝置可以交替地在兩種不同的模式中操作以用于兩種不同類型的測量。[0049]X射線分析裝置還可以包括X射線檢測器，該X射線檢測器被布置成接收來自樣品的X射線，并且被配置成產(chǎn)生測量接收到的X射線的強(qiáng)度的輸出信號。控制器可選地被配置成接收來自X射線檢測器的輸出信號，并且被配置成通過以下方式來歸一化測量到的強(qiáng)度：當(dāng)可調(diào)狹縫被設(shè)置為第一寬度或第二寬度時(shí)，基于可調(diào)狹縫的寬度來執(zhí)行第一歸一化計(jì)算；以及當(dāng)可調(diào)狹縫被設(shè)置為第三寬度時(shí)，基于另一狹縫的寬度來執(zhí)行第二歸一化計(jì)算。[0050]以這種方式，控制器可以自動(dòng)地校正不同狹縫對檢測到的X射線的強(qiáng)度的影響。[0051]在一些實(shí)施例中，X射線分析裝置可以被配置用于X射線熒光測量。[0052]在一些實(shí)施例中，X射線分析裝置可以是衍射儀。[0053]裝置優(yōu)選地被配置用于粉末衍射測量(diffractometry)。[0054]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種使用裝置進(jìn)行X射線分析的方法，該裝置包[0055]X射線源，其被配置成生成X射線；[0056]樣品臺，其被配置成支撐樣品，X射線源和樣品臺被布置成使得由X射線源生成的X射線限定照射樣品的入射光束；[0057]可調(diào)狹縫，其在X射線源和樣品之間；[0058]另一狹縫，其在X射線源和可調(diào)狹縫之間，或者在可調(diào)狹縫和樣品之間；以及[0059]控制器，其被配置成控制可調(diào)狹縫的寬度，[0060]該方法包括：[0061]通過控制器將可調(diào)狹縫設(shè)置為第一寬度，在該第一寬度下，可調(diào)狹縫將入射光束的發(fā)散度限制在第一發(fā)散角，從而限制樣品的被照射區(qū)域，并且另一狹縫優(yōu)選地不限制入9射光束的發(fā)散度；[0062]通過控制器將可調(diào)狹縫設(shè)置為第二寬度，在該第二寬度下，可調(diào)狹縫將入射光束的發(fā)散度限制在第二發(fā)散角，從而限制樣品的被照射區(qū)域，并且另一狹縫優(yōu)選地不限制入[0063]通過控制器將可調(diào)狹縫設(shè)置為第三寬度，在該第三寬度下，可調(diào)狹縫不限制入射光束的發(fā)散度，并且另一狹縫將入射光束的發(fā)散度限制在第三發(fā)散角，從而限制樣品的被照射區(qū)域，[0066]另一狹縫可以是不可調(diào)狹縫。[0067]可選地，當(dāng)入射光束以第一入射角照射樣品時(shí)，控制器將可調(diào)狹縫設(shè)置為第一寬度；當(dāng)入射光束以第二入射角照射樣品時(shí)，控制器將可調(diào)狹縫設(shè)置為第二寬度；并且當(dāng)入射光束以第三入射角照射樣品時(shí)，控制器將可調(diào)狹縫設(shè)置為第三寬度，其中，第三入射角大于第二入射角，并且第二入射角大于第一入射角。[0068]控制器可以控制可調(diào)狹縫的寬度，使得在入射角的范圍內(nèi)，入射光束照射樣品的恒定區(qū)域。[0069]方法還可以包括：檢測由樣品散射、衍射或發(fā)射的次級光束中的X射線；測量次級光束中的X射線的強(qiáng)度；以及歸一化測量到的強(qiáng)度以產(chǎn)生歸一化的強(qiáng)度，包括：當(dāng)可調(diào)狹縫被設(shè)置為第一寬度或第二寬度時(shí)，基于可調(diào)狹縫的寬度來執(zhí)行第一歸一化計(jì)算；以及當(dāng)可調(diào)狹縫被設(shè)置為第三寬度時(shí)，基于另一狹縫的寬度來執(zhí)行第二歸一化計(jì)算。[0070]根據(jù)本發(fā)明的又一方面，提供了一種使用裝置進(jìn)行X射線分析的方法，該裝置包[0072]樣品臺，其被配置成支撐樣品，X射線源和樣品臺被布置成使得由X射線源生成的X射線限定照射樣品的入射光束；[0074]測角儀，其中，X射線源被安裝到測角儀以便繞測角儀的軸可旋轉(zhuǎn)，從而以一個(gè)范圍內(nèi)的不同入射角照射樣品；以及[0075]控制器，其被配置成控制測角儀和可調(diào)狹縫的[0077]當(dāng)測角儀被設(shè)置為第一入射角時(shí)，通過控制器將可調(diào)狹縫設(shè)置為第一寬度，在該第一寬度下，可調(diào)狹縫將入射光束的發(fā)散度限制在第一發(fā)散角，從而限制樣品的被照射區(qū)[0078]當(dāng)測角儀被設(shè)置為第二入射角時(shí)，通過控制器將可調(diào)狹縫設(shè)置為第二寬度，在該第二寬度下，可調(diào)狹縫將入射光束的發(fā)散度限制在第二發(fā)散角，從而限制樣品的被照射區(qū)[0079]當(dāng)測角儀被設(shè)置為第三入射角時(shí)，通過控制器將可調(diào)狹縫設(shè)置為第三寬度，在該第三寬度下，可調(diào)狹縫將入射光束的發(fā)散度限制在第三發(fā)散角，從而限制樣品的被照射區(qū)[0080]當(dāng)測角儀被設(shè)置為第四入射角時(shí)，通過控制器將可調(diào)狹縫設(shè)置為第三寬度，[0081]其中，第三寬度大于第二寬度，并且第二寬度大于第一寬度，[0082]其中，第三發(fā)散角大于第二發(fā)散角，并且第二發(fā)散角大于第一發(fā)散角，并且[0083]其中，第四入射角大于第三入射角，第三入射角大于第二入射角，并且第二入射角大于第一入射角。[0084]根據(jù)該方面，在第一入射角和第二入射角下將可調(diào)狹縫分別調(diào)節(jié)到第一寬度和不同的第二寬度。在第三入射角和第四入射角下，將可調(diào)狹縫的寬度固定在第三寬度。以這種方式，可調(diào)狹縫可以執(zhí)行固定狹縫和可調(diào)狹縫兩者的功能。在一些實(shí)施例中，這可以減少對另一狹縫的需求。在第三入射角和第四入射角下，可調(diào)狹縫被控制以將入射光束的發(fā)散度限制在固定的發(fā)散角，即，第三發(fā)散角。[0085]控制器可以控制可調(diào)狹縫的寬度，使得在從第一入射角到第二入射角的入射角的范圍內(nèi)，入射光束照射樣品的恒定區(qū)域。[0086]以這種方式，可調(diào)狹縫被控制來在低入射角下在樣品上提供恒定的照射區(qū)域，并在更高的入射角下提供恒定的發(fā)散度。[0087]裝置可選地包括另一狹縫。另一狹縫可以是不可調(diào)狹縫。[0088]另一狹縫可以位于可調(diào)狹縫和樣品之間，使得入射光束穿過另一狹縫，但是另一狹縫不限制入射光束的發(fā)散度。[0089]另一狹縫優(yōu)選地用作防散射狹縫。特別地，它可以被配置成阻擋由可調(diào)狹縫生成的散射。[0090]還提供了一種包括計(jì)算機(jī)程序代碼的計(jì)算機(jī)程序，該計(jì)算機(jī)程序被配置成當(dāng)在X射線分析裝置的控制器上運(yùn)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)，使得所述控制器執(zhí)行如以上概括的方法中的所有步驟?？梢栽诜桥R時(shí)計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)上包括計(jì)算機(jī)程序。[0091]根據(jù)本發(fā)明的又一方面，提供了一種X射線分析裝置，包括：[0092]X射線源，其被配置成生成X射線；[0093]樣品臺，其被配置成支撐樣品，X射線源和樣品臺被布置成使得由X射線源生成的X射線限定照射樣品的入射光束；[0094]可調(diào)狹縫，其在X射線源和樣品之間；[0095]測角儀，其中，X射線源被安裝到測角儀，以便以一個(gè)范圍內(nèi)的不同入射角照射樣[0096]控制器，其被配置成控制測角儀和可調(diào)狹縫的寬度，[0097]其中，控制器被配置成在第一寬度、第二寬度和第三寬度之間改變可調(diào)狹縫的寬度，第三寬度大于第二寬度，第二寬度大于第一寬度，其中[0098]在第一寬度下：[0099]可調(diào)狹縫將入射光束的發(fā)散度限制在第一發(fā)散角，從而限制樣品的被照射區(qū)域，[0100]在第二寬度下：[0101]可調(diào)狹縫將入射光束的發(fā)散度限制在第二發(fā)散角，從而限制樣品的被照射區(qū)域，[0102]在第三寬度下：[0103]可調(diào)狹縫將入射光束的發(fā)散度限制在第三發(fā)散角，從而限制樣品的被照射區(qū)域，11[0104]其中，第三發(fā)散角大于第二發(fā)散角，并且第二發(fā)散角大于第一發(fā)散角，[0105]其中，控制器被配置成控制測角儀和可調(diào)狹縫，使得：[0106]當(dāng)測角儀被設(shè)置為第一入射角時(shí)，可調(diào)狹縫被設(shè)置為第一寬度；[0107]當(dāng)測角儀被設(shè)置為第二入射角時(shí)，可調(diào)狹縫被設(shè)置為第二寬度；[0108]當(dāng)測角儀被設(shè)置為第三入射角時(shí)，可調(diào)狹縫被設(shè)置為第三寬度；以及[0109]當(dāng)測角儀被設(shè)置為第四入射角時(shí)，可調(diào)狹縫被設(shè)置為第三寬度，[0110]第四入射角大于第三入射角，第三入射角大于第二入射角，并且第二入射角大于第一入射角。[0111]X射線分析裝置還可以包括X射線檢測器，該X射線檢測器被布置成接收來自樣品的X射線，并且被配置成產(chǎn)生測量接收到的X射線的強(qiáng)度的輸出信號?？刂破骺蛇x地被配置成接收來自X射線檢測器的輸出信號，并且被配置成通過以下方式來歸一化測量到的強(qiáng)度：當(dāng)可調(diào)狹縫被設(shè)置為第一寬度、第二寬度、或第三寬度時(shí)，基于可調(diào)狹縫的寬度來執(zhí)行歸一化計(jì)算。附圖說明[0112]現(xiàn)在將參考附圖通過示例的方式來描述本發(fā)明的實(shí)施例，在附圖中：[0113]圖1是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的X射線衍射裝置的橫截面?zhèn)纫晥D的示意圖；[0114]圖2是示出了圖1的X射線衍射裝置中的光束形成的簡化示意圖，其中可編程發(fā)散狹縫被設(shè)置為第一寬度；[0115]圖3是示出了圖1的X射線衍射裝置中的光束形成的簡化示意圖，其中可編程發(fā)散狹縫被設(shè)置為第二寬度；[0116]圖4是示出了圖1的X射線衍射裝置中的光束形成的簡化示意圖，其中可編程發(fā)散狹縫被設(shè)置為第三寬度；[0117]圖5示出了通過結(jié)合入射角改變光束發(fā)散度來用入射光束照射樣品的恒定區(qū)域的過程；[0118]圖6是示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于進(jìn)行X射線測量的方法的流程圖；[0119]圖6A是作為圖6示出的方法的變型的方法的流程圖；以及[0120]圖7是根據(jù)圖1的可替代實(shí)施例的X射線衍射裝置的示意圖。[0121]應(yīng)當(dāng)注意的是，這些圖是示意性的，并且沒有按比例繪制。為了附圖中的清晰和方便，這些附圖的部件的相對尺寸和比例在尺寸上被放大或縮小。詳細(xì)描述[0122]圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例的X射線衍射儀的示意圖。[0123]參考圖1,X射線裝置2包括X射線源(X射線管4),該X射線源被布置成生成X射線并將它們引導(dǎo)向由樣品臺8支撐的樣品6。在X射線管4和樣品臺8之間的X射線光束12的路徑上提供了平坦型梯度多層結(jié)構(gòu)(flatgradedmultilayer)10.如EP2896960中所述，通過提供平坦型梯度多層結(jié)構(gòu)，可以將X射線裝置用于布拉格布倫塔諾和SAXS測量。[0124]X射線管4具有線焦點(diǎn)，這產(chǎn)生了入射到平坦型梯度多層結(jié)構(gòu)上并最終入射到樣品6上的發(fā)散X射線光束12。樣品6衍射入射的X射線光束12。具有X射線檢測區(qū)15的X射線檢測器14被布置成檢測來自樣品的X射線，這些X射線沿著衍射的X射線光束路徑朝著X射線檢測區(qū)15被衍射。將X射線檢測器14和X射線管安裝在測角儀(未示出)上。通過繞軸旋轉(zhuǎn)X射線管來改變?nèi)肷鋁射線光束的角度θ.繞同一軸旋轉(zhuǎn)X射線檢測器，以檢測由樣品衍射的相對于入射X射線光束成20角度的X射線。將用于一個(gè)或更多個(gè)準(zhǔn)直器的第一支撐部件16設(shè)置在樣品臺8和X射線檢測器14之間。通過選擇如何讀出檢測區(qū)15的有效(active)區(qū)域，可以在2D模[0125]X射線裝置還包括控制器17,用于控制各種部件的位置和配置?？刂破?7與第一致動(dòng)器21進(jìn)行通信。第一致動(dòng)器21被布置成改變第一支撐部件16的位置，以移動(dòng)一個(gè)或更多個(gè)準(zhǔn)直器。[0126]在圖1示出的實(shí)施例中，第一支撐部件16支撐第一準(zhǔn)直器18和第二準(zhǔn)直器(未示出)。第一準(zhǔn)直器18允許具有在第一角度范圍內(nèi)的角發(fā)散度的光束穿過它。第二準(zhǔn)直器的角發(fā)散度大于第一準(zhǔn)直器18的角發(fā)散度，因此允許更寬的光束穿過它。[0127]通過提供其中控制器17使第一支撐部件16在第一配置和第二配置之間移動(dòng)的布置，可以以方便的方式來重新配置X射線裝置。通過在第一配置和第二配置之間移動(dòng)第一支撐部件16,第一準(zhǔn)直器18被替換為第二準(zhǔn)直器。此外，通過提供其中第一支撐部件16被布置成軸向地移動(dòng)的布置，可以改變第一支撐部件的配置而不妨礙檢測器的角度范圍20。[0128]同時(shí)，通過提供其中第一支撐部件16被布置成相對于X射線檢測器14在橫向(軸向方向)上穿過光束路徑移動(dòng)的布置，提供了緊湊的布置。[0129]可編程防散射狹縫11被設(shè)置在從樣品6到檢測器14的檢測區(qū)15的次級X射線光束路徑中?？刂破?7被配置成控制可編程防散射狹縫的開口的尺寸，使得可以根據(jù)正在進(jìn)行的測量類型而改變狹縫的尺寸。[0130]光束掩模(beammask)部件22被設(shè)置在入射光束側(cè)。在該實(shí)施例中，光束掩模部件包括第一掩模輪(maskwheel)。在從第一掩模輪朝向樣品的方向上，在第一掩模輪之后設(shè)置光束調(diào)節(jié)單元23和第二掩模輪25.光束調(diào)節(jié)單元23包括平坦型梯度多層結(jié)構(gòu)10和固定到平坦型梯度多層結(jié)構(gòu)10的索勒狹縫(Sollerslit)準(zhǔn)直器。平坦型梯度多層結(jié)構(gòu)10反射入[0131]在一個(gè)實(shí)施例中，光束掩模部件22包括掩模輪。圖1的布置還包括第二掩模輪25。每個(gè)掩模輪包括主體，并且具有在主體中形成的多個(gè)掩模。每個(gè)掩模輪繞其中心可旋轉(zhuǎn)。第一掩模輪至少包括第一狹縫掩模和開口光束掩模。第一狹縫掩模用于限制光束的尺寸(可能與其他部件結(jié)合)。開口光束掩模是個(gè)大開口，其大小被調(diào)整成允許X射線光束不間斷地穿過。第一掩模輪可以另外包括一個(gè)或多個(gè)另一狹縫掩模和/或衰減器。控制器17可以被配置成控制光束掩模部件的位置。[0132]通過提供這種布置，可以方便地重新配置入射光束路徑中的光束光學(xué)器件。因此，X射線裝置可以用于多種不同的應(yīng)用，因?yàn)榭梢蕴峁┤肷浜脱苌涔馐鈱W(xué)器件的不同組合，而不需要專家用戶進(jìn)行大量的工作來重新配置該裝置。[0133]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，X射線分析裝置包括在X射線管4和樣品6之間的入射光束路徑中的可調(diào)狹縫210;以及在可調(diào)狹縫210和樣品6之間的入射光束路徑中的不可調(diào)的另一狹縫220。在控制器17的控制下(如圖1中虛線所示),可調(diào)狹縫210可以用作可編程發(fā)散狹縫。不可調(diào)狹縫220可以用作防散射狹縫(尤其是與可調(diào)狹縫210結(jié)合),和/或它可以用作固定的發(fā)散狹縫。[0134]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，圖2-圖4中的橫截面圖提供了狹縫210和220的操作原理的示意圖。圖2示出了當(dāng)控制器17已經(jīng)將可調(diào)狹縫210設(shè)置為第一寬度時(shí)的可調(diào)狹縫210?？烧{(diào)狹縫210由兩個(gè)彼此相對的遮光板(blade)211和212形成?？烧{(diào)狹縫的寬度由這兩個(gè)遮光板之間的間距限定。當(dāng)可調(diào)狹縫210為第一寬度時(shí)，可調(diào)狹縫將入射光束的發(fā)散度限制在第一光束的被允許穿過兩個(gè)遮光板之間的間隙的剩余部分12a的發(fā)散度。通過以這種方式限制發(fā)散度，可調(diào)狹縫限制了樣品6的被入射光束照射的區(qū)域。[0135]當(dāng)可調(diào)狹縫210為第一寬度時(shí)，不可調(diào)狹縫220不干擾入射光束的剩余部分12a。在該實(shí)施例中，不可調(diào)狹縫220包括實(shí)心板材料中的開口。固定的狹縫的寬度由開口的相對兩側(cè)之間的間隔限定。在圖2示出的配置中(即，可調(diào)狹縫210被設(shè)置為第一寬度時(shí)),入射光束的剩余部分12a穿過開口，而開口的相對兩側(cè)不干擾或阻擋入射光束的剩余部分12a。然而，不可調(diào)狹縫220在該配置中仍然可用作防散射狹縫。來自可調(diào)狹縫210的寄生散射可以被實(shí)心板的兩個(gè)相對側(cè)阻擋。這在圖2中由散射的光線124(用虛線箭頭表示)示出，散射的光線124被不可調(diào)狹縫220阻擋，從而被阻止到達(dá)樣品。[0136]圖3示出了當(dāng)控制器17已經(jīng)將可調(diào)狹縫210設(shè)置為第二寬度(比第一寬度大)時(shí)的可調(diào)狹縫210。在第二寬度下，可調(diào)狹縫210將入射光束的發(fā)散度限制在第二發(fā)散角α2,該第二發(fā)散角α?大于第一發(fā)散角α?相對遮光板211和212阻擋光束的一部分122b來實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)。光束的剩余部分12b穿過可調(diào)狹縫210以照射樣品6。再次，通過限制入射光束的發(fā)散度，可調(diào)狹縫210限制樣品6的被照射區(qū)域。[0137]當(dāng)可調(diào)狹縫210為第二寬度時(shí)，不可調(diào)狹縫220仍然不干擾入射光束的剩余部分擋由可調(diào)狹縫210生成的寄生散射的光線124,不可調(diào)狹縫220可以再次用作防散射狹縫。[0138]圖4示出了當(dāng)控制器17已經(jīng)將可調(diào)狹縫210設(shè)置為第三寬度(比第一寬度和第二寬度大)時(shí)的可調(diào)狹縫210。在該第三寬度下，可調(diào)狹縫210不干擾或阻擋入射光束的任何部分，因此不限制其發(fā)散度。然而，如圖所示，不可調(diào)狹縫220現(xiàn)在阻擋光束的一部分122c,從而將入射光束的發(fā)散度限制在第三發(fā)散角a?,該第三發(fā)散角a?大于第一發(fā)散角α?和第二發(fā)散角α?。因此，當(dāng)可調(diào)狹縫210為第三寬度時(shí)，不可調(diào)狹縫220限制樣品的被照射區(qū)域域被入射光束的剩余部分12c照射。由于在該配置中可調(diào)狹縫210不干擾光束，因此它不會生成任何寄生散射。[0139]注意，圖2-圖4示出了簡化的、夸大的幾何形狀，并不打算成為比例圖，它們僅打算解釋兩個(gè)狹縫210和220的操作原理。此外，為了解釋簡單，圖2-圖4示出了在所有三種情況下入射光束垂直向下被引導(dǎo)到樣品上。實(shí)際上，更有可能的是，對樣品的入射角會改變，并且根據(jù)入射角通過改變可調(diào)狹縫210的寬度，入射光束發(fā)散度將受到控制。圖5中示出了這種情況。[0140]在一些實(shí)施例中，裝置還包括測角儀(未示出),并且X射線管4(和入射光束X射線光學(xué)器件)被安裝到測角儀以便繞測角儀的軸可旋轉(zhuǎn)。樣品被放置在樣品臺8上，以便與測角儀的軸對齊。X射線檢測器14(和次級光束X射線光學(xué)器件)也被安裝到測角儀，使得它們繞其軸可旋轉(zhuǎn)。在一個(gè)實(shí)施例中，控制器控制相互結(jié)合的測角儀和可調(diào)狹縫210,使得可調(diào)狹縫210隨著入射角的增加而開口更寬。[0141]圖5中示出了特別優(yōu)選的示例。當(dāng)測角儀被設(shè)置為第一入射角θ?時(shí)，狹縫210設(shè)置為第一寬度，從而產(chǎn)生具有第一發(fā)散角α?的入射光束12a。另一方面，當(dāng)測角儀被設(shè)置為第二、更高的入射角θ?時(shí)(如由X射線管4的第二位置以虛線所示),控制器將可調(diào)狹縫210設(shè)置為第二寬度，以便產(chǎn)生具有第二、更寬發(fā)散角α?的入射光束12210的寬度，從而控制光束的發(fā)散角α,使得在兩個(gè)入射角下照射樣品的相同的、恒定的區(qū)域。盡管圖5僅針對兩個(gè)入射角示出了這一點(diǎn)，但是對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說明顯的是，可調(diào)狹縫210可以被控制以在連續(xù)的入射角的范圍內(nèi)提供該恒定的照射區(qū)域。[0142]在第三、更高的入射角(圖5中未示出)下，可調(diào)狹縫210被設(shè)置為第三寬度，使得相對的遮光板211和212完全移到入射光束之外，并且不可調(diào)狹縫220接管可調(diào)狹縫210以確定光束發(fā)散度。一旦不可調(diào)狹縫220接管，光束的發(fā)散度就固定了。這對于在更高入射角的范圍內(nèi)的測量可能是有利的。[0143]典型地，為了進(jìn)行X射線分析，在入射角θ(以及由檢測器14檢測的次級光束的相應(yīng)角度)的范圍內(nèi)掃描樣品6。由于狹縫210和220通過阻擋光束的一部分來控制光束的發(fā)散度，因此落在樣品上的總輻射量隨著不同的入射角發(fā)生變化，即使通過控制可調(diào)狹縫210可以在特定的角度范圍內(nèi)保持照射區(qū)域恒定。這導(dǎo)致由X射線檢測器14接收的X射線的總強(qiáng)度發(fā)生變化。為了使其能夠?qū)Υ诉M(jìn)行補(bǔ)償，控制器可以從X射線檢測器14接收輸出信號，測量由檢測器14接收到的X射線的強(qiáng)度?？刂破骺梢员慌渲贸筛鶕?jù)針對其測量強(qiáng)度的入射角來歸一化測量到的強(qiáng)度。特別地，控制器17可以被配置成當(dāng)可調(diào)狹縫控制光束發(fā)散度時(shí)根據(jù)可調(diào)狹縫210的寬度來歸一化測量到的強(qiáng)度，并且當(dāng)另一狹縫控制光束發(fā)散度時(shí)根據(jù)另一狹縫220的寬度來歸一化測量到的強(qiáng)度。以這種方式，控制器可以自動(dòng)地補(bǔ)償由混合發(fā)散度控制系統(tǒng)引起的測量到的X射線強(qiáng)度的變化。[0144]注意，在一些實(shí)施例中，補(bǔ)償不需要由控制器17來執(zhí)行。它可以由獨(dú)立于控制器17的另一處理器(未示出)的硬件、軟件或固件來執(zhí)行。在這種情況下，該另一處理器優(yōu)選地接收關(guān)于狹縫210和220的配置的信息，以及待被歸一化的測量到的強(qiáng)度。[0145]圖6示出了使用如上所述的X射線分析裝置，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例可以被執(zhí)行的X射線分析的方法。[0146]當(dāng)該方法開始時(shí)，在步驟610中設(shè)置要被測量的第一入射角。接下來，在步驟620中，控制器17根據(jù)入射角θ來設(shè)置可調(diào)狹縫210的寬度。這可以對應(yīng)于上文先前描述的第一線檢測器14來測量次級光束的強(qiáng)度。在步驟640中，基于可調(diào)狹縫210的寬度，(使用控制器17或另一處理器)將測量到的強(qiáng)度歸一化，以對光束的被阻擋部分122a的缺失進(jìn)行補(bǔ)償。[0147]在步驟650中，方法檢查是否已經(jīng)達(dá)到閾值入射角。該閾值角度對應(yīng)于在該處不可調(diào)狹縫220接管可調(diào)狹縫210來控制光束發(fā)散度的點(diǎn)。如果還沒有達(dá)到閾值角度，方法返回到步驟610,并且控制器17控制測角儀移動(dòng)到下一個(gè)入射角。這可能是上述第二入射角θ?。640中，基于可調(diào)狹縫210的寬度將測量到的強(qiáng)度歸一化，以對光束的被阻擋部分122b的缺失進(jìn)行補(bǔ)償。[0148]當(dāng)達(dá)到閾值入射角時(shí)，方法進(jìn)行到步驟660,并且控制器17控制測角儀移動(dòng)到下一個(gè)入射角。方法現(xiàn)在處于恒定角發(fā)散度模式，其中入射光束的發(fā)散度由不可調(diào)狹縫220控制?？烧{(diào)狹縫210的遮光板不再干擾入射光束。因此，不再需要根據(jù)入射角來設(shè)置可調(diào)狹縫210的寬度。方法直接進(jìn)行到步驟670,在步驟670中測量次級光束強(qiáng)度。除了控制入射光束的發(fā)散度的方式之外，該步驟基本上與步驟630相同。在步驟680中，基于不可調(diào)狹縫220的(固定的)寬度，(使用控制器17或另一處理器)將測量到的強(qiáng)度歸一化，以便對光束的被阻擋部分122c的缺失進(jìn)行補(bǔ)償。[0149]在步驟690中，方法檢查是否還有其他入射角要掃描。如果是，方法返回到步驟660并重復(fù)步驟670和680。當(dāng)不再有入射角要被掃描時(shí)，方法終止。[0150]使用這種方法可以允許在寬角度范圍內(nèi)并使用不同類型的發(fā)散度控制自動(dòng)地進(jìn)行掃描，其中入射光束發(fā)散度(從而樣品的被照射區(qū)域)被控制以給出最佳測量結(jié)果。結(jié)果會被自動(dòng)地歸一化，因此不同發(fā)散度控制模式的使用對用戶來說是透明的。這可能有助于避免需要專家用戶對結(jié)果進(jìn)行復(fù)雜的后處理。[0151]注意，如在同一掃描中在同一樣品上使用多種發(fā)散度控制模式一樣，(如上所述),根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的裝置可以用于在不同模式中執(zhí)行不同的掃描。例如，裝置可以被編程為使用不可調(diào)狹縫220來執(zhí)行一種類型的掃描，以控制入射光束的發(fā)散度。裝置可以被編程為使用可調(diào)狹縫210來執(zhí)行另一種類型的掃描。可以在可調(diào)狹縫210在入射角的范圍內(nèi)被設(shè)置為恒定寬度(因此恒定發(fā)散度)的情況下，或者在可調(diào)狹縫210的寬度(因此發(fā)散度)根據(jù)入射角變化的情況下執(zhí)行后一種類型的掃描。[0152]圖6A是示出圖6的方法的變型的流程圖。在該變型中，可調(diào)狹縫210的寬度在一些入射角下是變化的，并且在其他角下保持恒定。特別地，它在較低角度下是變化的，并且在較高角度下保持恒定。如果需要的話，可以僅用可調(diào)狹縫210來執(zhí)行該實(shí)施例的方法。換句[0153]圖6A的方法中的步驟610至650與圖6的步驟610至650相同。在該實(shí)施例中，閾值入射角仍然是在該處測量切換到恒定角發(fā)散度模式的角。然而，與圖6的方法不同，在該恒定發(fā)散度模式中，可調(diào)狹縫210將仍然負(fù)責(zé)控制光束的發(fā)散度。一旦達(dá)到閾值入射角，方法進(jìn)行到步驟665,并且控制器17控制測角儀移動(dòng)到下一個(gè)入射角。在本實(shí)施例中，假設(shè)可調(diào)狹縫的寬度將保持固定在步驟620的最后迭代中設(shè)定的最終寬度；因此，在步驟665之后，不需被設(shè)置為預(yù)定的不同的固定寬度。在步驟675中，測量次級光束強(qiáng)度。在步驟685中，基于可調(diào)狹縫210的寬度，(使用控制器17或另一處理器)將測量到的強(qiáng)度歸一化，以對光束的被阻擋部分122b的缺失進(jìn)行補(bǔ)償。在步驟690中，方法檢查是否還有其他入射角要掃描。如果是，方法返回到步驟665并重復(fù)步驟675和685。當(dāng)不再有另外的入射角要被掃描時(shí)，方法終止。[0154]圖7是示出根據(jù)另一示例性實(shí)施例的X射線衍射儀的示意圖。這是圖1示出的實(shí)施例的變型。除了下面描述的不同之處，該實(shí)施例與圖1的實(shí)施例相同。重復(fù)對共同特征的描述。[0155]在圖1中，另一狹縫(不可調(diào)狹縫220)位于可調(diào)狹縫210和樣品6之間的光束路徑中。這允許不可調(diào)狹縫220用作防散射狹縫，阻擋由可調(diào)狹縫210生成的散射。特別地，當(dāng)可調(diào)狹縫被設(shè)置為第一寬度或第二寬度時(shí)，它允許不可調(diào)狹縫220阻擋來自可調(diào)狹縫210的散射，其中可調(diào)狹縫限制入射光束的發(fā)散度。由于可調(diào)狹縫210通常在低入射角下以其第一寬度和第二寬度被使用，這可以允許圖1的裝置提供對在低入射角下的寄生散射的良好控制。[0156]相比之下，在圖7中，可調(diào)狹縫和另一(不可調(diào))縫210a位于X射線管4和樣品6之間的入射光束路徑中；并且另一狹縫(不可調(diào)狹縫220)位于X射線管4和可調(diào)狹縫210a之間的入射光束路徑中。類似于圖1的實(shí)施例，控制器17控制可調(diào)狹縫210a。[0157]圖7的裝置可以以與圖1相似的方式運(yùn)行。當(dāng)可調(diào)狹縫210a被設(shè)置為第一寬度和第二寬度時(shí)，可調(diào)狹縫210a限制光束發(fā)散度。當(dāng)可調(diào)狹縫210a被設(shè)置為第三寬度時(shí)，另一狹縫擋來自不可調(diào)狹縫220的寄生散射。特別地，當(dāng)可調(diào)狹縫210a被設(shè)置為第三寬度時(shí)，其可以用作防散射狹縫，其中不可調(diào)狹縫220限制入射光束的發(fā)散度。由于可調(diào)狹縫210a通常在高入射角處下以其第三寬度被使用(如上已經(jīng)討論的),這可以允許圖7的裝置提供對在高入射角下的寄生散射的良好控制。[0158]因此，可以根據(jù)在特定應(yīng)用場景中控制在低入射角下的寄生散射更重要還是控制在高入射角下的寄生散射更重要來選擇圖1或圖7的裝置?？蛇x地或附加地，選擇可以取決于光束路徑中的其他光學(xué)元件是否影響寄生散射。[0159]在一個(gè)實(shí)施例中，控制器17預(yù)先配置有與不同類型的X射線測量的部件配置相關(guān)位分析模式、反射計(jì)模式等中進(jìn)行測量。對于每種類型的X射線測量，可以有特定的相關(guān)聯(lián)的部件配置(包括應(yīng)該如何用可調(diào)狹縫以及可選地另一狹縫來控制入射光束發(fā)散度的定義)。用戶選擇測量模式，并且控制器通過確定哪個(gè)配置與選擇的測量模式相關(guān)聯(lián)來確定哪個(gè)配置是合適的?？刂破魅缓笙蛞粋€(gè)或更多個(gè)致動(dòng)器發(fā)送控制信號，使得致動(dòng)器將部件移動(dòng)到該配置。在某些測量模式中，可能使用多種配置。例如，當(dāng)使用布拉格布倫塔諾幾何形狀時(shí)，可以以固定的照明長度或以固定的發(fā)散度或兩者的混合(例如，在不同的入射角下)來執(zhí)行測量?？梢蕴崾居脩暨x擇期望的測量類型，或者控制器可以基于其他條件進(jìn)行選擇，并相應(yīng)地配置可調(diào)狹縫(以及可選地另一狹縫)。[0160]在另一實(shí)施例中，控制器被預(yù)先配置為基于要被分析的樣品的類型來選擇部件配置。例如，用戶可以輸入標(biāo)識待被分析樣品的類型的信息?？刂破鲗⒃撔畔⑴c數(shù)據(jù)庫進(jìn)行比較，以確定最合適的部件配置。數(shù)據(jù)庫提供關(guān)于對于不同材料需要何種掃描類型以及對于該掃描的適當(dāng)部件配置的信息。[0161]在實(shí)施例中，在一批測量期間改變部件配置。在該實(shí)施例中，樣品保持器包括多個(gè)容器。每個(gè)容器裝有不同的樣品。樣品可以是不同的材料。在測量期間，樣品保持器被控制以將單個(gè)容器定位在入射的X射線光束路徑中?？刂破骺刂茦悠繁３制饕砸苿?dòng)容器，以便將被布置在X射線光束路徑中的容器更換為另一個(gè)容器。以這種方式，在沒有用戶干預(yù)的情況下，對一批樣品執(zhí)行X射線測量。控制器還被配置成改變部件配置，使得可以在一批測量期[0162]本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解，可以提供上面討論的實(shí)施例的變型。例如，在替代實(shí)施例[0163]