(12)發(fā)明專利(10)授權(quán)公告號(hào)CN114341731B(65)同一申請(qǐng)的已公布的文獻(xiàn)號(hào)(30)優(yōu)先權(quán)數(shù)據(jù)(85)PCT國(guó)際申請(qǐng)進(jìn)入國(guó)家階段日PCT/JP2020/0321822020(87)PCT國(guó)際申請(qǐng)的公布數(shù)據(jù)(73)專利權(quán)人富士膠片株式會(huì)社地址日本國(guó)東京都(74)專利代理機(jī)構(gòu)中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司11021專利代理師朱丹WO2019146778A1,2019.08.01WO2018123836A1,2018.07.05(54)發(fā)明名稱固化膜的制造方法、光固化性樹(shù)脂組合物、層疊體的制造方法及半導(dǎo)體器件的制造方法本發(fā)明提供一種固化膜的制造方法、在上述固化膜的制造方法中使用的光固化性樹(shù)脂組合物、包括上述固化膜的制造方法的層疊體的制造方法及包括上述固化膜的制造方法的電子器件的制造方法，上述固化膜的制造方法包括：第1曝光工序，對(duì)由光固化性樹(shù)脂組合物形成的光固化性膜的一部分進(jìn)行曝光；顯影工序，通過(guò)顯影液對(duì)上述曝光后的上述光固化性膜進(jìn)行顯影而獲得圖案；及第2曝光工序，通過(guò)包含波長(zhǎng)與在上述第1曝光工序中使用的光的波長(zhǎng)不同的光的光對(duì)2第1曝光工序，對(duì)由光固化性樹(shù)脂組合物形成的光固化性膜的一部分進(jìn)行曝光；顯影工序，利用顯影液對(duì)所述曝光后的所述光固化性膜進(jìn)行顯影而獲得圖案；及第2曝光工序，利用包含波長(zhǎng)與在所述第1曝光工序中使用的光的波長(zhǎng)不同的光的光對(duì)所述圖案進(jìn)行曝光，所述光固化性樹(shù)脂組合物包含：選自包括聚酰亞胺及聚苯并噁唑的組中的至少1種樹(shù)脂；對(duì)所述第1曝光工序中的曝光波長(zhǎng)具有靈敏度的感光性化合物A;及感光性化合物B,其對(duì)所述第1曝光工序中的曝光波長(zhǎng)不具有靈敏度且對(duì)所述第2曝光工序中的曝光波長(zhǎng)具有靈敏度；所述感光性化合物A為在所述第1曝光工序中改變所述光固化性膜在所述顯影液中的溶解度的化合物，所述制造方法滿足下述條件1及條件2中的至少一個(gè)：條件1:所述光固化性樹(shù)脂組合物中的所述樹(shù)脂包含在所述第2曝光工序中通過(guò)所述感光性化合物B的感光而與其他基團(tuán)的鍵合反應(yīng)得到促進(jìn)的基團(tuán)；條件2:所述光固化性樹(shù)脂組合物進(jìn)一步包含交聯(lián)劑，所述交聯(lián)劑具有在所述第2曝光工序中通過(guò)所述感光性化合物B的感光而與其他基團(tuán)的鍵合反應(yīng)得到促進(jìn)的基團(tuán)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固化膜的制造方法，其中，所述感光性化合物A為通過(guò)所述第1曝光工序產(chǎn)生自由基的化合物。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的固化膜的制造方法，其中，所述感光性化合物B為通過(guò)所述第2曝光工序產(chǎn)生酸的化合物。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的固化膜的制造方法，其中，所述感光性化合物B為通過(guò)所述第2曝光工序產(chǎn)生自由基的化合物。5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的固化膜的制造方法，其中，所述感光性化合物B為通過(guò)所述第2曝光工序產(chǎn)生堿的化合物。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固化膜的制造方法，其中，所述感光性化合物A為光自由基聚合引發(fā)劑，所述感光性化合物B為光產(chǎn)酸劑。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固化膜的制造方法，其中，所述感光性化合物A及所述感光性化合物B均為光自由基聚合引發(fā)劑。8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的固化膜的制造方法，其中，所述第1曝光工序中的曝光為基于i射線的曝光。9.一種層疊體的制造方法，其包括權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的固化膜的制造方法。10.一種電子器件的制造方法，其包括權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的固化膜的制造方法或權(quán)利要求9所述的層疊體的制造方法。3及半導(dǎo)體器件的制造方法技術(shù)領(lǐng)域[0001]本發(fā)明涉及一種固化膜的制造方法、光固化性樹(shù)脂組合物、層疊體的制造方法及半導(dǎo)體器件的制造方法。背景技術(shù)[0002]聚酰亞胺、聚苯并噁唑等樹(shù)脂的耐熱性及絕緣性等優(yōu)異，因此可用于各種用途。作為上述用途并沒(méi)有特別限定，但若以實(shí)際安裝用半導(dǎo)體器件為例，則可舉出將包含這些樹(shù)脂的固化膜用作絕緣膜或密封材料的材料或保護(hù)膜的情況等。并且，包含這些樹(shù)脂的固化膜也用作撓性基板的基底膜或覆蓋膜等。[0003]例如在上述用途中，聚酰亞胺、聚苯并噁唑等樹(shù)脂以包含這些樹(shù)脂的光固化性樹(shù)脂組合物的方式使用。[0004]例如通過(guò)涂布等將這種光固化性樹(shù)脂組合物適用于基材上，之后根據(jù)需要進(jìn)行曝[0005]能夠通過(guò)公知的涂布方法等適用光固化性樹(shù)脂組合物，因此，可以說(shuō)例如所適用的光固化性樹(shù)脂組合物的形狀、大小、適用位置等設(shè)計(jì)的自由度高等制造上的適應(yīng)性優(yōu)異。從除了聚酰亞胺、聚苯并噁唑等所具有的高性能以外，這種制造上的適應(yīng)性優(yōu)異的觀點(diǎn)考慮，越發(fā)期待包含這些樹(shù)脂的光固化性樹(shù)脂組合物在產(chǎn)業(yè)上的應(yīng)用拓展。[0006]例如，在專利文獻(xiàn)1中記載有一種感光性樹(shù)脂組合物，其特征在于含有堿可溶性聚酰亞胺(a)、含不飽和鍵化合物(b)、熱交聯(lián)性化合物(c)及具有特定結(jié)構(gòu)的光聚合引發(fā)劑[0007]以往技術(shù)文獻(xiàn)[0009]專利文獻(xiàn)1:國(guó)際公開(kāi)第2018/173840號(hào)發(fā)明內(nèi)容[0010]發(fā)明要解決的技術(shù)課題[0011]以往，將包含聚酰亞胺或聚苯并噁唑的光固化性樹(shù)脂組合物適用于基材，進(jìn)行基于曝光顯影的圖案的形成，之后加熱來(lái)獲得固化膜。[0012]在上述固化膜的制造中，期待提供一種可獲得圖案形狀及膜強(qiáng)度優(yōu)異的固化膜的固化膜的制造方法。[0013]本發(fā)明的目的在于提供一種可獲得圖案形狀及膜強(qiáng)度優(yōu)異的固化膜的固化膜的制造方法、在上述固化膜的制造方法中使用的光固化性樹(shù)脂組合物、包括上述固化膜的制造方法的層疊體的制造方法及包括上述固化膜的制造方法的電子器件的制造方法。[0014]用于解決技術(shù)課題的手段4[0016]<1>一種固化膜的制造方法，其包括：[0017]第1曝光工序，對(duì)由光固化性樹(shù)脂組合物形成的光固化性膜的一部分進(jìn)行曝光；[0018]顯影工序，通過(guò)顯影液對(duì)上述曝光后的上述光固化性膜進(jìn)行顯影而獲得圖案；及[0019]第2曝光工序，通過(guò)包含波長(zhǎng)與在上述第1曝光工序中使用的光的波長(zhǎng)不同的光的光對(duì)上述圖案進(jìn)行曝光，[0020]上述光固化性樹(shù)脂組合物包含：[0021]選自包括聚酰亞胺及聚苯并噁唑的組中的至少1種樹(shù)脂；[0022]感光性化合物A,對(duì)上述第1曝光工序中的曝光波長(zhǎng)具有靈敏度；及[0023]感光性化合物B,對(duì)上述第1曝光工序中的曝光波長(zhǎng)不具有靈敏度且對(duì)上述第2曝光工序中的曝光波長(zhǎng)具有靈敏度，[0024]上述感光性化合物A為在上述第1曝光工序中改變上述光固化性膜在上述顯影液中的溶解度的化合物，[0025]上述制造方法滿足下述條件1及條件2中的至少一個(gè)；[0026]條件1:上述光固化性樹(shù)脂組合物中的上述樹(shù)脂包含在上述第2曝光工序中通過(guò)上述感光性化合物B的感光而促進(jìn)與其他基團(tuán)的鍵合反應(yīng)的基團(tuán)；[0027]條件2:上述光固化性樹(shù)脂組合物進(jìn)一步包含具有在上述第2曝光工序中通過(guò)上述感光性化合物B的感光而促進(jìn)與其他基團(tuán)的鍵合反應(yīng)的基團(tuán)的交聯(lián)劑。[0028]<2>如<1>所述的固化膜的制造方法，其中，[0029]上述感光性化合物A為通過(guò)上述第1曝光工序產(chǎn)生自由基的化合物。[0030]<3>如<1>或<2>所述的固化膜的制造方法，其中，[0031]上述感光性化合物B為通過(guò)上述第2曝光工序產(chǎn)生酸的化合物。[0033]上述感光性化合物B為通過(guò)上述第2曝光工序產(chǎn)生自由基的化合物。[0034]<5>如<1>或<2>所述的固化膜的制造方法，其中，[0035]上述感光性化合物B為通過(guò)上述第2曝光工序產(chǎn)生堿的化合物。[0036]<6>如<1>所述的固化膜的制造方法，其中，[0037]上述感光性化合物A為光自由基聚合引發(fā)劑，上述感光性化合物B為光產(chǎn)酸劑。[0038]<7>如<1>所述的固化膜的制造方法，其中，[0039]上述感光性化合物A及上述感光性化合物B均為光自由基聚合引發(fā)劑。[0040]<8>如<1>~<7>中任一項(xiàng)所述的固化膜的制造方法，其中，[0041]上述第1曝光工序中的曝光為基于i射線的曝光。[0042]<9>一種光固化性樹(shù)脂組合物，其用于<1>～<9>中任一項(xiàng)所述的固化膜的制造方法中。[0043]<10>一種光固化性樹(shù)脂組合物，其中，[0044]上述光固化性樹(shù)脂組合物包含：選自包括聚酰亞胺及聚苯并噁唑的組中的至少1種樹(shù)脂、以及極大吸收波長(zhǎng)之差為80nm以上的感光性化合物A及感光性化合物B,[0045]上述感光性化合物A為在下述第1曝光工序中改變上述光固化性膜在上述顯影液中的溶解度的化合物，[0046]上述光固化性樹(shù)脂組合物在滿足下述條件1及條件2中的至少一個(gè)且用于包括如5下工序的固化膜的制造方法中：[0047]第1曝光工序，對(duì)由光固化性樹(shù)脂組合物形成的光固化性膜的一部分進(jìn)行曝光；[0048]顯影工序，通過(guò)顯影液對(duì)上述曝光后的上述光固化性膜進(jìn)行顯影而獲得圖案；及[0049]第2曝光工序，通過(guò)包含波長(zhǎng)與在上述第1曝光工序中使用的光的波長(zhǎng)不同的光的光對(duì)上述圖案進(jìn)行曝光。[0050]條件1:上述光固化性樹(shù)脂組合物中的上述樹(shù)脂包含在上述第2曝光工序中通過(guò)上述感光性化合物B的感光而促進(jìn)與其他基團(tuán)的鍵合反應(yīng)的基團(tuán)；[0051]條件2:上述光固化性樹(shù)脂組合物進(jìn)一步包含具有在上述第2曝光工序中通過(guò)上述感光性化合物B的感光而促進(jìn)與其他基團(tuán)的鍵合反應(yīng)的基團(tuán)的交聯(lián)劑。[0052]<11>一種層疊體的制造方法，其包括<1>～<8>中任一項(xiàng)所述的固化膜的制造方法。[0053]<12>一種電子器件的制造方法，其包括<1>～<8>中任一項(xiàng)所述的固化膜的制造方法或<11>所述的層疊體的制造方法。[0055]根據(jù)本發(fā)明，提供一種可獲得圖案形狀及膜強(qiáng)度優(yōu)異的固化膜的固化膜的制造方法、在上述固化膜的制造方法中使用的光固化性樹(shù)脂組合物、包括上述固化膜的制造方法的層疊體的制造方法及包括上述固化膜的制造方法的電子器件的制造方法。具體實(shí)施方式[0057]在本說(shuō)明書(shū)中利用“~”記號(hào)表示的數(shù)值范圍表示將記載于“～”的前后的數(shù)值分別作為下限值及上限值包括的范圍。[0058]在本說(shuō)明書(shū)中“工序”這一術(shù)語(yǔ)不僅表示獨(dú)立的工序，只要能夠?qū)崿F(xiàn)該工序的所需作用，則也表示包括無(wú)法與其他工序明確區(qū)分的工序。[0059]關(guān)于本說(shuō)明書(shū)中的基團(tuán)(原子團(tuán))的標(biāo)記，未標(biāo)注經(jīng)取代及未經(jīng)取代的標(biāo)記同時(shí)包括不具有取代基的基團(tuán)(原子團(tuán))和具有取代基的基團(tuán)(原子團(tuán))。例如，“烷基”不僅包括不具有取代基的烷基(未經(jīng)取代的烷基),也包括具有取代基的烷基(取代烷基)。[0063]在本說(shuō)明書(shū)中，總固體成分表示從組合物的總成分去除溶劑的成分的總質(zhì)量。并且，在本說(shuō)明書(shū)中，固體成分濃度為除了溶劑以外的其他成分相對(duì)于組合物的總質(zhì)量的質(zhì)量百分率。[0064]在本說(shuō)明書(shū)中，只要沒(méi)有特別說(shuō)明，則重均分子量(Mw)及數(shù)均分子量(Mn)基于凝6膠滲透色譜法(GPC測(cè)定),并定義為聚苯乙烯換算值。在本說(shuō)明書(shū)中，重均分子量(Mw)及數(shù)均分子量(Mn)例如能夠利用HLC-8220GPC(TOSOHCORPORATION制),并使用保護(hù)管柱HZ-L、HZ2000(TOSOHCORPORATION制)作為管柱來(lái)求出。這些分子量只要沒(méi)有特別說(shuō)明，將使用THF(四氫呋喃)作為洗脫液進(jìn)行測(cè)定。并且，只要沒(méi)有特別說(shuō)明，GPC測(cè)定中的檢測(cè)使用UV線(紫外線)的波長(zhǎng)254nm檢測(cè)器。的多層中成為基準(zhǔn)的層的上側(cè)或下側(cè)存在其他層即可。即，在成為基準(zhǔn)的層與上述其他層之間可進(jìn)一步夾有第3層或第3要件，而成為基準(zhǔn)的層與上述其他層無(wú)需接觸。并且，只要沒(méi)有特別說(shuō)明，將對(duì)基材堆疊層的方向稱為“上”,或在存在光固化性[0066]在本說(shuō)明書(shū)中，只要沒(méi)有特別說(shuō)明，作為組合物中包含的各成分，組合物可以包含符合該成分的2種以上的化合物。并且，只要沒(méi)有特別說(shuō)明，組合物中的各成分的含量表示符合該成分的所有化合物的合計(jì)含量。[0067]在本說(shuō)明書(shū)中，只要沒(méi)有特別說(shuō)明，溫度為23℃,氣壓為101,325Pa(1氣壓。[0070]本發(fā)明的固化膜的制造方法的第一方式包括：第1曝光工序，對(duì)由光固化性樹(shù)脂組合物形成的光固化性膜的一部分進(jìn)行曝光；顯影工序，通過(guò)顯影液對(duì)上述曝光后的上述光固化性膜進(jìn)行顯影而獲得圖案；及第2曝光工序，通過(guò)包含波長(zhǎng)與在上述第1曝光工序中使用的光的波長(zhǎng)不同的光的光對(duì)上述圖案進(jìn)行曝光，上述光固化性樹(shù)脂組合物包含選自包括工序中的曝光波長(zhǎng)具有靈敏度的感光性化合物A及對(duì)上述第1曝光工序中的曝光波長(zhǎng)不具有靈敏度而對(duì)上述第2曝光工序中的曝光波長(zhǎng)具有靈敏度的感光性化合物B,上述感光性化合物A為在上述第1曝光工序中改變上述光固化性膜在上述顯影液中的溶解度的化合物，上述制造方法滿足下述條件1及條件2中的至少一個(gè)。[0071]條件1:上述光固化性樹(shù)脂組合物中的上述樹(shù)脂包含在上述第2曝光工序中通過(guò)上述感光性化合物B的感光而促進(jìn)與其他基團(tuán)的鍵合反應(yīng)的基團(tuán)。[0072]條件2:上述光固化性樹(shù)脂組合物進(jìn)一步包含具有在上述第2曝光工序中通過(guò)上述感光性化合物B的感光而促進(jìn)與其他基團(tuán)的鍵合反應(yīng)的基團(tuán)的交聯(lián)劑。[0073]本發(fā)明的固化膜的制造方法的第二方式包括：第1曝光工序，對(duì)由光固化性樹(shù)脂組合物形成的光固化性膜的一部分進(jìn)行曝光；顯影工序，通過(guò)顯影液對(duì)上述曝光后的上述光固化性膜進(jìn)行顯影而獲得圖案；及第2曝光工序，通過(guò)包含波長(zhǎng)與在上述第1曝光工序中使用的光的波長(zhǎng)不同的光的光對(duì)上述圖案進(jìn)行曝光，上述光固化性樹(shù)脂組合物包含選自包括聚酰亞胺及聚苯并噁唑的組中的至少1種樹(shù)脂、以及極大吸收波長(zhǎng)之差為80nm以上的感光性化合物A及感光性化合物B,上述感光性化合物A為在上述第1曝光工序中改變上述光固化性膜在上述顯影液中的溶解度的化合物，上述制造方法滿足上述條件1及條件2中的至少一7[0074]除了感光性化合物A及感光性化合物B不同以外，上述第一方式及第二方式為相同的方式。上述第一方式及第二方式統(tǒng)稱為“本發(fā)明的固化膜的制造方法”。[0076]根據(jù)本發(fā)明的固化膜的制造方法，可獲得圖案形狀及膜強(qiáng)度優(yōu)異的固化膜。[0078]以往，將包含聚酰亞胺或聚苯并噁唑的光固化性樹(shù)脂組合物適用于基材，進(jìn)行基于曝光顯影的圖案的形成，之后加熱來(lái)獲得固化膜。[0079]本發(fā)明人等發(fā)現(xiàn)，在上述加熱及之后的冷卻等中，關(guān)于曝光顯影后的圖案因膨脹、收縮等而導(dǎo)致變形的方面存在改善空間。[0080]本發(fā)明人等深入研究的結(jié)果，發(fā)現(xiàn)通過(guò)對(duì)由上述光固化性樹(shù)脂組合物形成的光固化性膜進(jìn)行上述第1曝光工序及第2曝光工序這2階段的曝光，可獲得上述變形得到抑制的[0081]根據(jù)本發(fā)明的固化膜的制造方法，由于無(wú)需進(jìn)行用于固化的加熱(例如，180℃以上的加熱)而能夠得到固化膜，因此認(rèn)為也能夠?qū)崿F(xiàn)過(guò)程的短時(shí)間化。[0082]并且，認(rèn)為出于通過(guò)上述2階段的曝光而固化膜中的交聯(lián)密度增加等理由，容易獲得膜強(qiáng)度優(yōu)異的固化膜。[0083]并且，認(rèn)為同樣出于上述交聯(lián)密度的增加等理由，容易獲得耐溶劑性優(yōu)異的固化膜。[0084]在此，在專利文獻(xiàn)1中，關(guān)于包括第1曝光工序及第2曝光工序的固化膜的制造方法既未記載也未提示。[0085]以下，對(duì)本發(fā)明的固化膜的制造方法進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。[0086]<第1曝光工序>[0087]本發(fā)明的固化膜的制造方法包括對(duì)由光固化性樹(shù)脂組合物形成的光固化性膜的一部分進(jìn)行曝光的第1曝光工序。[0088]在第1曝光工序中，后述的感光性化合物A感光，上述光固化性膜在顯影液中的溶解度發(fā)生變化。[0089]具體而言，例如感光性化合物A為后述的光聚合引發(fā)劑時(shí)，在光固化性膜中進(jìn)行聚合，第1曝光工序后的光固化性膜在顯影液中的溶解度降低。[0090]并且，例如感光性化合物A為后述的光產(chǎn)酸劑，顯影液為后述的堿顯影液時(shí)，在光固化性膜中產(chǎn)生酸，在顯影液中的溶解度增加。[0091]進(jìn)而，例如感光性化合物A為后述的光產(chǎn)酸劑，顯影液為后述的有機(jī)溶劑時(shí)，在光固化性膜中產(chǎn)生酸，在顯影液中的溶解度降低。[0092]如上所述，在第1曝光工序中，可以通過(guò)感光性化合物A的感光，促進(jìn)特定樹(shù)脂或交聯(lián)劑中包含的交聯(lián)性基團(tuán)與其他基團(tuán)的鍵合反應(yīng)，由此改變光固化性膜在顯影液中的溶解度，也可以利用通過(guò)化學(xué)變化(基于感光性化合物A的感光)產(chǎn)生的生成物，改變光固化性膜在顯影液中的溶解度。[0093]即，本發(fā)明中的光固化性膜可以為正型光固化性膜，也可以為負(fù)型光固化[0094]正型光固化性膜是指通過(guò)顯影液去除在第1曝光工序中被曝光的部分(曝光部)的8光固化性膜，負(fù)型光固化性膜是指通過(guò)顯影液去除在第1曝光工序中未曝光的部分(非曝光部)的光固化性膜。[0095]在本發(fā)明的固化膜的制造方法的第一方式中，第1曝光工序中的曝光波長(zhǎng)只要適當(dāng)設(shè)定為后述的感光性化合物A具有靈敏度且感光性化合物B不具有靈敏度的波長(zhǎng)即可，優(yōu)選為190～1,000nm,更優(yōu)選為240～550nm,進(jìn)一步優(yōu)選為300～380nm。[0096]在本發(fā)明的固化膜的制造方法的第二方式中，第1曝光工序中的曝光波長(zhǎng)只要適當(dāng)設(shè)定為如下波長(zhǎng)即可：后述的位于感光性化合物A的極大吸收波長(zhǎng)附近(例如，位于極大吸收波長(zhǎng)±10nm的范圍內(nèi)的波長(zhǎng)等)且與感光性化合物B的極大吸收波長(zhǎng)的距離充分的波長(zhǎng)(例如，位于極大吸收波長(zhǎng)±20nm的范圍外的波長(zhǎng)等),優(yōu)選為190～1,000nm,更優(yōu)選為240～550nm,進(jìn)一步優(yōu)選為300～380nm。[0097]關(guān)于曝光波長(zhǎng)，若以與光源的關(guān)系說(shuō)明，則可舉出(1)半導(dǎo)體激光(波長(zhǎng)830nm、532nm、488nm、405nm等)、(2)金屬鹵素?zé)簟?3)高壓汞燈、g射線(波長(zhǎng)436nm)、h射線(波長(zhǎng)248nm)、ArF準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)193[0098]并且，從操作性和生產(chǎn)性的觀點(diǎn)考慮，也優(yōu)選高壓汞燈的寬(g、h、i射線3種波長(zhǎng))光源或半導(dǎo)體激光405nm。[0099]為了抑制感光性化合物B的感光，可以在這些光源中使用去除特定波長(zhǎng)的濾光器[0100]作為在第一曝光工序中對(duì)光固化性膜的一部分進(jìn)行曝光的方法，可舉出使用公知的光罩的曝光方法、通過(guò)激光曝光等對(duì)光固化性膜的一部分進(jìn)行曝光的曝光方法等。[0101]在本發(fā)明的固化膜的制造方法的第一方式中，第1曝光工序中的曝光量以感光性化合物A具有靈敏度的波長(zhǎng)下的曝光能量換算計(jì)，優(yōu)選為100～10,000mJ/cm2,更優(yōu)選為200[0102]在本發(fā)明的固化膜的制造方法的第二方式中，第1曝光工序中的曝光量以感光性化合物A的極大吸收波長(zhǎng)下的曝光能量換算計(jì)，優(yōu)選為100～10,000mJ/cm2,更優(yōu)選為200~[0103]<曝光后加熱工序>[0104]本發(fā)明的固化膜的制造方法可以在上述第1曝光工序后、顯影工序前包括加熱曝光后的光固化性膜的工序(曝光后加熱工序)。[0105]曝光后加熱工序中的加熱溫度優(yōu)選為50℃~140℃,更優(yōu)選為60℃~120℃。[0106]曝光后加熱工序中的加熱時(shí)間優(yōu)選為1分鐘～300分鐘，更優(yōu)選為5分鐘~120分[0107]關(guān)于曝光后加熱工序中的升溫速度，從加熱開(kāi)始時(shí)的溫度至最高加熱溫度優(yōu)選為1～12℃/分鐘，更優(yōu)選為2～10℃/分鐘，進(jìn)一步優(yōu)選為3～10℃/分鐘。[0109]作為曝光后加熱工序中的加熱機(jī)構(gòu)，并沒(méi)有特別限定，能夠使用公知的加熱板、烘9的氣氛下進(jìn)行。[0112]本發(fā)明的固化膜的制造方法可以包括由光固化性樹(shù)脂組合物形成光固化性膜的膜形成工序。[0113]第一曝光工序中的上述光固化性膜可以為通過(guò)膜形成工序形成的光固化性膜，也可以為通過(guò)購(gòu)入等方法獲得的光固化性膜。[0114]膜形成工序優(yōu)選在基材上適用光固化性樹(shù)脂組合物來(lái)形成膜(層狀)并獲得光固化性膜的工序。[0116]基材的種類能夠根據(jù)用途而適當(dāng)設(shè)定，但并沒(méi)有特別限制，可舉出硅、氮化硅、多列基材、等離子體顯示面板(PDP)的電極板等。在本發(fā)明中，尤其，優(yōu)選為半導(dǎo)體制作基材，[0117]并且，可以在這些基材的表面上設(shè)置有由六甲基二硅氮烷(HMDS)等形成的密合層或氧化層等層。[0119]作為基材的尺寸，若為圓形形狀，則直徑例如為100～450mm,優(yōu)選為200～450mm。若為矩形形狀，例如短邊的長(zhǎng)度為100～1000mm,優(yōu)選為200～700mm。并且，作為基材，例如使用板狀的基材(基板)。[0120]并且，在樹(shù)脂層的表面或金屬層的表面形成光固化性膜時(shí)，樹(shù)脂層或金屬層成為基材。[0121]作為將光固化性樹(shù)脂組合物適用于基材的方法，優(yōu)選為涂布。的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選為狹縫涂布法。通過(guò)根據(jù)方法調(diào)整適當(dāng)?shù)墓腆w成分濃度或涂布條件，能夠得到所需厚度的光固化性膜。并且，能夠根據(jù)基材的形狀適當(dāng)選擇涂布方法，若為晶片等圓形基材，則優(yōu)選為旋涂法或噴涂法、噴墨法等，若為矩形基材，則優(yōu)選為狹縫涂布法或噴涂法、噴墨法等。在旋涂法的情況下，例如能夠以500～2,000rpm的轉(zhuǎn)速適用10秒～1分鐘左右。[0123]并且，根據(jù)感光性樹(shù)脂組合物的粘度或所設(shè)定的膜厚，也優(yōu)選以300～3,500rpm的轉(zhuǎn)速適用10～180秒。并且，為了獲得均勻的膜厚，也能夠組[0124]并且，也能夠適用在基材上轉(zhuǎn)印通過(guò)上述賦予方法預(yù)先在偽支撐體上賦予而形成的涂膜的方法。[0125]關(guān)于轉(zhuǎn)印方法，在本發(fā)明中，也能夠優(yōu)選地利用日本特開(kāi)2006-023696號(hào)公報(bào)的0023、0036～0051段或日本特開(kāi)2006-047592號(hào)公報(bào)的0096～0108段中記載的制作方法。[0126]并且，也可以進(jìn)行在基材的端部去除多余膜的工序。關(guān)于這種工序的例子，可舉出[0127]并且，也可以采用如下預(yù)濕工序：將樹(shù)脂組合物涂布于基材之前，對(duì)基材涂布各種溶劑以提高基材的潤(rùn)濕性之后，涂布樹(shù)脂組合物。[0129]本發(fā)明的固化膜的制造方法可以包括在膜形成工序(層形成工序)之后干燥所形成的膜(層)以去除溶劑的工序(干燥工序)。[0130]優(yōu)選的干燥溫度為50～150℃,更優(yōu)選為70℃~130℃,進(jìn)一步優(yōu)選為90℃~110固化性樹(shù)脂組合物的溶劑量多時(shí)，也能夠組合真空干燥和加熱干燥。加熱干燥中可使用加[0132]本發(fā)明的固化膜的制造方法包括通過(guò)顯影液對(duì)上述曝光后的上述光固化性膜進(jìn)行顯影而獲得圖案的顯影工序。[0133]通過(guò)進(jìn)行顯影，去除曝光部及非曝光部中的一個(gè)。只要能夠形成所需圖案，則顯影[0134]顯影使用顯影液來(lái)進(jìn)行。作為顯影液，若為負(fù)型顯影，則能夠沒(méi)有特別限制地使用去除未曝光部分(非曝光部)的顯影液，并且，若為正型顯影，則能夠沒(méi)有特別限制地使用去除經(jīng)曝光部分(曝光部)的顯影液。[0135]在本發(fā)明中，將作為顯影液使用堿顯影液的情況稱為堿顯影，將作為顯影液使用包含50質(zhì)量%以上有機(jī)溶劑的顯影液的情況稱為溶劑顯影。[0136]在堿顯影中，作為顯影液，有機(jī)溶劑的含量相對(duì)于顯影液的總質(zhì)量?jī)?yōu)選為10質(zhì)量%以下的顯影液，更優(yōu)選為5質(zhì)量%以下的顯影液，進(jìn)一步優(yōu)選為1質(zhì)量%以下的顯影液，尤其優(yōu)選為不含有機(jī)溶劑的顯影液。[0137]堿顯影中的顯影液更優(yōu)選為pH為10～15的水溶液。[0138]作為堿顯影中的顯影液所包含的堿化合物，例如，可舉出氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳含金屬的堿化合物，更優(yōu)選為銨化合物。更優(yōu)選為TMAH。例如使用TMAH時(shí)，顯影液中的堿性化合物在顯影液總質(zhì)量中的含量?jī)?yōu)選為0.01～10質(zhì)量%,更優(yōu)選為0.1～5質(zhì)量%,進(jìn)一步優(yōu)選為0.3～3質(zhì)量%。[0139]堿化合物可以為僅1種，也可以為2種以上。堿化合物為2種以上時(shí)，優(yōu)選其合計(jì)在上述范圍內(nèi)。[0140]在溶劑顯影中，相對(duì)于顯影液的總質(zhì)量，顯影液更優(yōu)選包含90質(zhì)量%以上有機(jī)溶劑。本發(fā)明中，顯影液優(yōu)選包含ClogP值為-1～5的有機(jī)溶劑，更優(yōu)選包含ClogP值為0～3的有機(jī)溶劑。ClogP值能夠通過(guò)在ChemBioDraw(化學(xué)生物圖)中輸入結(jié)構(gòu)式而作為計(jì)算值求11酯、烷氧基乙酸丁酯(例如，甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-烷氧基丙酸烷基酯類(例：3-烷氧基丙酸甲酯、3-烷氧基丙酸乙酯等(例如，3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-烷氧基丙酸烷基酯類(例：2-烷氧基丙酸甲酯、2-烷氧基酸丙酯等(例如，2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-烷氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-烷氧基-2-甲基丙酸乙酯(例如，2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯等，以及作為環(huán)式萜烯類等，以及作為亞砜類，可優(yōu)選地舉出二甲基亞砜。機(jī)溶劑時(shí)，能夠使用1種有機(jī)溶劑或混合使用2種以上。[0143]顯影液中包含有機(jī)溶劑時(shí)，顯影液優(yōu)選為50質(zhì)量%以上為有機(jī)溶劑，更優(yōu)選為70質(zhì)量%以上為有機(jī)溶劑，進(jìn)一步優(yōu)選為80質(zhì)量%以上為有機(jī)溶劑，尤其優(yōu)選為90質(zhì)量%以上為有機(jī)溶劑。并且，顯影液的100質(zhì)量%可以為有機(jī)溶劑。[0144]顯影液可以進(jìn)一步包含其他成分。[0145]作為其他成分，例如，可舉出公知的表面活性劑和公知的消泡劑等。[0147]只要能夠形成所需圖案，則顯影液的供給方法并沒(méi)有特別限制，有將基材浸漬于顯影液中的方法、用噴嘴在基材上供給顯影液的方法或連續(xù)供給顯影液的方法。噴嘴的種[0148]從顯影液的滲透性、非圖像部的去除性、制造上的效率的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選為將顯影液用直流噴嘴供給的方法或用噴霧噴嘴連續(xù)供給的方法，從顯影液對(duì)圖像部的滲透性的觀點(diǎn)考慮，更優(yōu)選為用噴霧噴嘴供給的方法。[0149]并且，可以采用如下工序：用直流噴嘴連續(xù)供給顯影液之后，旋轉(zhuǎn)基材以從基材上去除顯影液，旋轉(zhuǎn)干燥后再次用直流噴嘴連續(xù)供給之后，旋轉(zhuǎn)基材以從基材上去除顯影液，也可以將該工序重復(fù)多次。[0150]并且，作為顯影工序中的顯影液的供給方法，能夠采用在基材上連續(xù)供給顯影液的工序、將顯影液以大致靜止?fàn)顟B(tài)保持在基材上的工序、利用超聲波等使顯影液在基材上振動(dòng)的工序及將這些組合的工序等。[0151]作為顯影時(shí)間，優(yōu)選為5秒~10分鐘，更優(yōu)選為10秒～5分鐘。顯影時(shí)的顯影液的溫度并沒(méi)有特別限定，通常為10～45℃,優(yōu)選為能夠在20～40℃下進(jìn)行。[0152]在顯影工序中，可以在使用顯影液的處理之后，進(jìn)一步進(jìn)行沖洗。并且，也可以采用在與圖案接觸的顯影液未完全干燥之前供給沖洗液等方法。[0153]溶劑顯影的情況下，優(yōu)選用與顯影液不同的有機(jī)溶劑進(jìn)行沖洗。例如，可舉出丙二醇單甲醚乙酸酯。沖洗時(shí)間優(yōu)選為5秒～5分鐘。并且，也可以在顯影與沖洗之間包括適用顯影液和沖洗液的兩者的工序。上述工序的時(shí)間優(yōu)選為1秒～5分鐘。[0154]堿顯影的情況下，優(yōu)選用純水進(jìn)行沖洗。[0155]沖洗時(shí)間優(yōu)選為10秒～10分鐘，更優(yōu)選為20秒~5分鐘，進(jìn)一步優(yōu)選為5秒～1分鐘。[0156]沖洗時(shí)的沖洗液的溫度并沒(méi)有特別限定，優(yōu)選為10～45℃、更優(yōu)選為能夠在18℃~30℃下進(jìn)行。[0157]作為沖洗液包含有機(jī)溶劑時(shí)的有機(jī)溶劑，作為酯類，例如可優(yōu)選地舉出乙酸乙酯、酸甲酯、烷氧基乙酸乙酯、烷氧基乙酸丁酯(例如，甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-烷氧基丙酸烷基丙酸甲酯、3-烷氧基丙酸乙酯等(例如，3-甲氧基丙酸甲酯、3酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-烷氧基丙酸烷基酯類(例：2-烷氧基丙酸甲酯、2-烷氧基丙酸乙酯、2-烷氧基丙酸丙酯等(例如，2-甲氧基丙酸甲酯、2酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-烷氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-烷氧基-2-甲基丙酸乙酯(例如，2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸庚酮、3-庚酮、N-甲基-2-吡咯烷酮等，以及作為芳香族烴類，例如三乙二醇等，以及作為酰胺類，可優(yōu)選地舉出N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、二甲基甲酰胺等。[0158]沖洗液包含有機(jī)溶劑時(shí)，能夠使用1種有機(jī)溶劑或混合使用2種以上。本發(fā)明中，尤[0159]沖洗液包含有機(jī)溶劑時(shí)，沖洗液優(yōu)選為50質(zhì)量%以上為有機(jī)溶劑，更優(yōu)選為70質(zhì)量%以上為有機(jī)溶劑，進(jìn)一步優(yōu)選為90質(zhì)量%以上為有機(jī)溶劑。并且，沖洗液的100質(zhì)量%可以為有機(jī)溶劑。[0160]沖洗液可以進(jìn)一步包含其他成分。[0161]作為其他成分，例如，可舉出公知的表面活性劑和公知的消泡劑等。[0163]只要能夠形成所需圖案，則沖洗液的供給方法并沒(méi)有特別限制，有將基材浸漬于沖洗液中的方法、在基材上的覆液顯影、用噴淋頭在基材上供給沖洗液的方法、通過(guò)直流噴嘴等方法在基材上連續(xù)供給顯影液的方法。[0164]從沖洗液的滲透性、非圖像部的去除性、制造上的效率的觀點(diǎn)考慮，有用噴淋噴嘴、直流噴嘴、噴霧噴嘴等供給沖洗液的方法，優(yōu)選為用噴霧噴嘴連續(xù)供給的方法，從沖洗液對(duì)圖像部的滲透性的觀點(diǎn)考慮，更優(yōu)選為用噴霧噴嘴供給的方法。噴嘴的種類并沒(méi)有特[0165]即，沖洗工序優(yōu)選為利用直流噴嘴對(duì)上述曝光后的膜供給或連續(xù)供給沖洗液的工序，更優(yōu)選為通過(guò)噴霧噴嘴供給沖洗液的工序。[0166]并且，作為沖洗工序中的沖洗液的供給方法，能夠采用在基材上連續(xù)供給沖洗液的工序、沖洗液以大致靜止?fàn)顟B(tài)保持在基材上的工序、利用超聲波等使沖洗液在基材上振動(dòng)的工序及將這些組合的工序等。[0167]<第2曝光工序>[0168]本發(fā)明的固化膜的制造方法包括通過(guò)包含波長(zhǎng)與在上述第1曝光工序中使用的光的波長(zhǎng)不同的光的光對(duì)上述圖案進(jìn)行曝光的第2曝光工序。[0169]認(rèn)為在第2曝光工序中，感光性化合物B感光，固化膜的膜強(qiáng)度及耐溶劑性提高。[0170]例如認(rèn)為感光性化合物B為光自由基聚合引發(fā)劑時(shí)，交聯(lián)劑、特定樹(shù)脂等中包含的自由基聚合性基團(tuán)進(jìn)行聚合，固化膜的膜強(qiáng)度及耐溶劑性提高。[0171]并且，例如認(rèn)為感光性化合物B為光產(chǎn)酸劑時(shí)，交聯(lián)劑、特定樹(shù)脂等中包含的交聯(lián)性基團(tuán)進(jìn)行聚合，固化膜的膜強(qiáng)度及耐溶劑性提高。[0172]進(jìn)而，例如認(rèn)為感光性化合物B為光產(chǎn)堿劑時(shí)，交聯(lián)劑、特定樹(shù)脂等中包含的交聯(lián)性基團(tuán)進(jìn)行聚合，固化膜的膜強(qiáng)度及耐溶劑性提高。[0173]在本發(fā)明的固化膜的制造方法的第一方式中，第2曝光工序中的曝光光包含感光性化合物B具有靈敏度的波長(zhǎng)的光即可，也可以進(jìn)一步包含感光性化合物A具有靈敏度的波長(zhǎng)的光。[0174]在本發(fā)明的固化膜的制造方法的第二方式中，第2曝光工序中的曝光光包含波長(zhǎng)位于感光性化合物B的極大吸收波長(zhǎng)附近(例如，在感光性化合物B的極大吸收波長(zhǎng)±10nm的范圍內(nèi)的波長(zhǎng)等)的光即可，也可以進(jìn)一步包含波長(zhǎng)位于感光性化合物A的極大吸收波長(zhǎng)附近(例如，在感光性化合物A的極大吸收波長(zhǎng)±10nm的范圍內(nèi)的波長(zhǎng)等)的光。[0176]光固化性膜為負(fù)型光固化性膜時(shí)，從所獲得的固化膜的膜強(qiáng)度及耐溶劑性的觀點(diǎn)考慮，第2曝光工序中的曝光光優(yōu)選進(jìn)一步包含感光性化合物A感光的波長(zhǎng)的光。[0177]例如，感光性化合物A為光自由基聚合引發(fā)劑，感光性化合物B為產(chǎn)酸劑，在第2曝光工序中，除了感光性化合物B以外感光性化合物A也感光時(shí)，不僅是基于酸的交聯(lián)，自由基聚合也會(huì)進(jìn)一步進(jìn)行，因此認(rèn)為所獲得的固化膜的膜強(qiáng)度及耐溶劑性進(jìn)一步提高。[0178]如上所述，通過(guò)第2曝光工序中的曝光光進(jìn)一步包含感光性化合物A感光的波長(zhǎng)的光，有時(shí)可獲得膜強(qiáng)度及耐溶劑性優(yōu)異的固化膜。[0179]在本發(fā)明的固化膜的制造方法的第一方式中，第2曝光工序中的曝光光中包含的感光性化合物B具有靈敏度的波長(zhǎng)的光可以考慮后述的感光性化合物B的靈敏度而適當(dāng)設(shè)定即可，優(yōu)選為190～1,000nm,更優(yōu)選為200～550nm,進(jìn)一步優(yōu)選為200～280nm。[0180]在本發(fā)明的固化膜的制造方法的第一方式中，第2曝光工序中的曝光光可以包含的感光性化合物A具有靈敏度的波長(zhǎng)的光可以考慮后述的感光性化合物A的靈敏度而適當(dāng)設(shè)定即可，優(yōu)選為190～1,000nm,更優(yōu)選為240～550nm,進(jìn)一步優(yōu)選為300～380nm。[0181]在本發(fā)明的固化膜的制造方法的第二方式中，第2曝光工序中的曝光波長(zhǎng)適當(dāng)設(shè)定為后述的位于感光性化合物B的極大吸收波長(zhǎng)附近(例如，位于感光性化合物B的極大吸收波長(zhǎng)±10nm的范圍內(nèi)的波長(zhǎng)等)的波長(zhǎng)即可，優(yōu)選為190～1,000nm,更優(yōu)選為200~550nm,進(jìn)一步優(yōu)選為200～280nm。[0182]在本發(fā)明的固化膜的制造方法的第二方式中，第2曝光工序中的曝光光可以包含后述的波長(zhǎng)位于感光性化合物A的極大吸收波長(zhǎng)附近(例如，位于感光性化合物A的極大吸收波長(zhǎng)±10nm的范圍內(nèi)的波長(zhǎng)等)的光。作為這種光的波長(zhǎng)，可以考慮感光性化合物A的極大吸收波長(zhǎng)而適當(dāng)設(shè)定即可，優(yōu)選為190～1,000nm,更優(yōu)選為240～550nm,進(jìn)一步優(yōu)選為[0183]關(guān)于曝光波長(zhǎng)，若以與光源的關(guān)系說(shuō)明，則可舉出(1)半導(dǎo)體激光(波長(zhǎng)830nm、[0184]為了抑制第2曝光工序中的感光性化合物A的感光，可以在這些光源中使用去除特定波長(zhǎng)的濾光器等，但為了促進(jìn)第2曝光工序中的感光性化合物A的感光，優(yōu)選尤其不使用濾光器等而使用例如包含波長(zhǎng)位于200～600nm的范圍內(nèi)的各種波長(zhǎng)的光的光源即上述高壓汞燈等。[0185]在第2曝光工序中，顯影工序中獲得的圖案的至少一部分被曝光即可，但優(yōu)選上述圖案的全部被曝光。[0186]在本發(fā)明的固化膜的制造方法的第一方式中，第2曝光工序中的曝光量以感光性化合物B具有靈敏度的波長(zhǎng)下的曝光能量換算計(jì)，優(yōu)選為100～20,000mJ/cm2,更優(yōu)選為200~15,000mJ/cm2。[0187]在本發(fā)明的固化膜的制造方法的第二方式中，第2曝光工序中的曝光量以感光性化合物B的極大吸收波長(zhǎng)下的曝光能量換算計(jì)，優(yōu)選為100～20,000mJ/cm2,更優(yōu)選為200~[0188]從所獲得的固化膜的圖案形狀、膜強(qiáng)度及耐溶劑性的觀點(diǎn)考慮，第2曝光工序中的光固化性膜的溫度優(yōu)選為20～170℃,更優(yōu)選為30～150℃,進(jìn)一步優(yōu)選為50～130℃。[0191]從制造方法的短時(shí)間化、省能量化的觀點(diǎn)考慮，本發(fā)明的固化膜的制造方法優(yōu)選不包括對(duì)通過(guò)顯影工序獲得的圖案進(jìn)行加熱的工序(加熱工序)。[0192]具體而言，從改善圖案形狀的觀點(diǎn)考慮，顯影工序之后優(yōu)選不包括在200℃以上加熱圖案的工序，更優(yōu)選不包括在160℃以上加熱圖案的工序。[0193]包括加熱工序時(shí)，從加熱開(kāi)始時(shí)的溫度至最高加熱溫度優(yōu)選以1～12℃/分鐘的升溫速度進(jìn)行，更優(yōu)選為2～10℃/分鐘，進(jìn)一步優(yōu)選為3～10℃/分鐘。通過(guò)將升溫速度設(shè)為1℃/分鐘以上，能夠確保生產(chǎn)性的同時(shí)防止酸或溶劑的過(guò)度揮發(fā)，通過(guò)將升溫速度設(shè)為12℃/分鐘以下，能夠緩和圖案的殘存應(yīng)力。[0194]除此以外，能夠快速加熱的烘箱的情況下，從加熱開(kāi)始時(shí)的溫度至最高加熱溫度，優(yōu)選以1～8℃/秒的升溫速度進(jìn)行，更優(yōu)選為2～7℃/秒，進(jìn)一步優(yōu)選為3～6℃/秒。[0195]包括加熱工序時(shí)，加熱時(shí)間(在最高加熱溫度下的加熱時(shí)間)優(yōu)選為30秒～360分鐘，更優(yōu)選為45秒~300分鐘，進(jìn)一步優(yōu)選為1分~240分鐘。[0196]關(guān)于加熱工序，從防止特定樹(shù)脂分解的方面考慮，優(yōu)選通過(guò)使氮、氦、氬等惰性氣體流過(guò)等，在低氧濃度的環(huán)境下進(jìn)行。氧濃度優(yōu)選為50ppm(體積比)以下，更優(yōu)選為20ppm(體積比)以下。[0197]作為加熱工序中的加熱機(jī)構(gòu)，并沒(méi)有特別限定，例如可舉出加熱板、電熱式烘箱、熱風(fēng)式烘箱等。[0198]<金屬層形成工序>[0199]本發(fā)明的固化膜的制造方法優(yōu)選包括在第2曝光工序后的固化膜的表面形成金屬層的金屬層形成工序。[0201]金屬層的形成方法沒(méi)有特別限定，能夠適用現(xiàn)有的方法。例如，能夠使用日本特開(kāi)2007-157879號(hào)公報(bào)、日本特表2001-521288號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)2004-214501號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)2004-101850號(hào)公報(bào)中記載的方法。例如，可考慮光刻、剝離、電合光刻與電解電鍍的圖案化方法。[0202]作為金屬層的厚度，在最厚的部分，優(yōu)選為0.01～100μm,更優(yōu)選為0.1～50μm,進(jìn)[0204]作為能夠適用通過(guò)本發(fā)明的固化膜的制造方法獲得的固化膜的領(lǐng)域，可舉出半導(dǎo)料(柔性印刷電路板的基底膜或覆蓋膜、層間絕緣膜)或通過(guò)對(duì)如上述實(shí)際安裝用途的絕緣膜進(jìn)行蝕刻而形成圖案的情況等。關(guān)于這些用途，例如，能夠參考Science&Technology“聚酰亞胺材料的基礎(chǔ)和開(kāi)發(fā)”2011年11月發(fā)行、日本聚酰亞胺·芳香族系高分子研究會(huì)/編“最新聚酰亞胺基礎(chǔ)和應(yīng)用”NTS,2010年8月等。[0205]并且，通過(guò)本發(fā)明的固化膜的制造方法獲得的固化膜也能夠用于膠印版面或網(wǎng)版版面等版面的制造、成型部件在蝕刻中的用途、電子尤其在微電子中的保護(hù)漆及介電層的制造等中。[0207]本發(fā)明的層疊體的制造方法優(yōu)選包括本發(fā)明的固化膜的制造方法。[0208]通過(guò)本發(fā)明的層疊體的制造方法獲得的層疊體為包含2層以上固化膜的層疊體，也可以設(shè)為層疊有3～7層的層疊體。[0209]上述層疊體中包含的2層以上的上述固化膜中，至少1個(gè)為通過(guò)本發(fā)明的固化膜的制造方法獲得的固化膜，從改善固化膜的圖案形狀的觀點(diǎn)考慮，上述層疊體中包含的所有固化膜優(yōu)選為通過(guò)本發(fā)明的固化膜的制造方法獲得的固化膜。[0210]上述層疊體包含2層以上的固化膜，優(yōu)選為在任意上述固化膜彼此之間包含金屬層的方式。上述金屬層優(yōu)選通過(guò)上述金屬層形成工序形成。[0211]作為上述層疊體，例如，可將至少包含依次層疊有第一固化膜、金屬層、第二固化膜這3個(gè)層的層結(jié)構(gòu)的層疊體作為優(yōu)選的層疊體舉出。[0212]上述第一固化膜及上述第二固化膜均優(yōu)選為通過(guò)本發(fā)明的固化膜的制造方法獲得的固化膜。用于形成上述第一固化膜的本發(fā)明的光固化性樹(shù)脂組合物和用于形成上述第二固化膜的本發(fā)明的光固化性樹(shù)脂組合物可以為組成相同的組合物，也可以為組成不同的組合物。本發(fā)明的層疊體中的金屬層可優(yōu)選地用作再配線層等金屬配線。[0214]本發(fā)明的層疊體的制造方法優(yōu)選包括層疊工序。[0215]層疊工序?yàn)榘ㄔ俅卧诠袒?樹(shù)脂層)或金屬層的表面依次進(jìn)行(a)膜形成工序?yàn)閮H重復(fù)(a)的膜形成工序的方式。并且，可以在(d)第2曝光工序之后包括(e)金屬層形成工序。層疊工序中可以適當(dāng)?shù)剡M(jìn)一步包括上述干燥工序和加熱工序等是毋庸置疑的。[0216]在層疊工序之后進(jìn)一步進(jìn)行層疊工序時(shí)，可以在上述第1曝光工序之后，在上述第2曝光工序之后或在上述金屬層形成工序之后，進(jìn)一步進(jìn)行表面活化處理工序。作為表面活化處理，可例示等離子體處理。[0217]上述層疊工序優(yōu)選進(jìn)行2～20次，更優(yōu)選進(jìn)行2～5次，進(jìn)一步優(yōu)[0218]例如，如樹(shù)脂層/金屬層/樹(shù)脂層/金屬層/樹(shù)脂層/金屬層，優(yōu)選將樹(shù)脂層設(shè)為2層以上且20層以下的結(jié)構(gòu)，更優(yōu)選設(shè)為3層以上且7層以下的結(jié)構(gòu)，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)為3層以上且5層以下的結(jié)構(gòu)。[0219]本發(fā)明中，尤其在設(shè)置金屬層之后，進(jìn)一步優(yōu)選以覆蓋上述金屬層的方式，形成上述光固化性樹(shù)脂組合物的固化膜(樹(shù)脂層)的方式。具體而言，可舉出以(a)膜形成工序、(b)第1曝光工序、(c)顯影工序、(d)第2曝光工序、(e)金屬層形成工序交替進(jìn)行形成固化膜的上述(a)～(d)的工序和金屬層形成工序，能夠交替層疊固化膜和金[0221]本發(fā)明的層疊體的制造方法可以包括對(duì)上述金屬層及感光性樹(shù)脂組合物層的至少一部分進(jìn)行表面活化處理的表面活化處理工序。[0222]表面活化處理工序通常在金屬層形成工序之后進(jìn)行，但可以在上述曝光顯影工序之后，對(duì)感光性樹(shù)脂組合物層進(jìn)行表面活化處理工序之后進(jìn)行金屬層形成工序。[0223]表面活化處理可以僅對(duì)金屬層的至少一部分進(jìn)行，也可以僅對(duì)曝光后的感光性樹(shù)脂組合物層的至少一部分進(jìn)行，也可以分別對(duì)金屬層及曝光后的感光性樹(shù)脂組合物層這兩者的至少一部分進(jìn)行。表面活化處理優(yōu)選對(duì)金屬層的至少一部分進(jìn)行，優(yōu)選對(duì)金屬層中在表面形成感光性樹(shù)脂組合物層的一部分或全部區(qū)域進(jìn)行表面活化處理。如上所述，通過(guò)對(duì)金屬層的表面進(jìn)行表面活化處理，能夠提高與設(shè)置于其表面的樹(shù)脂層的密合性。[0224]并且，表面活化處理也優(yōu)選對(duì)曝光后的感光性樹(shù)脂組合物層(樹(shù)脂層)的一部分或全部進(jìn)行。如上所述，通過(guò)對(duì)感光性樹(shù)脂組合物層的表面進(jìn)行表面活化處理，能夠提高與設(shè)置于經(jīng)表面活化處理的表面的金屬層或樹(shù)脂層的密合性。0?的蝕刻處理、基于紫外線(UV)臭氧法的表面處理、浸漬于鹽酸水溶液來(lái)去除氧化覆膜之后浸漬于包含具有氨基和硫醇基中的至少1種的化合物的有機(jī)表面處理劑中的處理、使用刷子的機(jī)械性粗面化處理，優(yōu)選為等離子體處理，尤其優(yōu)選為將氧作為原料氣體的氧等離子體處理。電暈放電處理的情況下，能量?jī)?yōu)選為500～200,000J/m2,更優(yōu)選為1000～100,000J/m2,最優(yōu)選為10,000～50,000J/m2。[0227]本發(fā)明也公開(kāi)包括本發(fā)明的固化膜的制造方法或本發(fā)明的層疊體的制造方法的半導(dǎo)體器件的制造方法。作為將本發(fā)明的光固化性樹(shù)脂組合物使用在再配線層用層間絕緣膜的形成中的半導(dǎo)體器件的具體例，能夠參考日本特開(kāi)2016-027357號(hào)公報(bào)的0213～0218段的記載及圖1的記載，并將這些內(nèi)容編入本說(shuō)明書(shū)中。[0228]以下，對(duì)在本發(fā)明的固化膜的制造方法、本發(fā)明的層疊體的制造方法或本發(fā)明的半導(dǎo)體器件的制造方法中使用的光固化性樹(shù)脂組合物的詳細(xì)內(nèi)容進(jìn)行說(shuō)明。[0230]本發(fā)明的光固化性樹(shù)脂組合物為在本發(fā)明的固化膜的制造方法、本發(fā)明的層疊體的制造方法或本發(fā)明的半導(dǎo)體器件的制造方法中使用的光固化性樹(shù)脂組合物。[0231]本發(fā)明的光固化性樹(shù)脂組合物的第一方式包含選自包括聚酰亞胺及聚苯并噁唑的組中的至少1種樹(shù)脂、對(duì)上述第1曝光工序中的曝光波長(zhǎng)具有靈敏度的感光性化合物A及對(duì)上述第1曝光工序中的曝光波長(zhǎng)不具有靈敏度而對(duì)上述第2曝光工序中的曝光波長(zhǎng)具有靈敏度的感光性化合物B,上述感光性化合物A為在上述第1曝光工序中改變上述光固化性膜在上述顯影液中的溶解度的化合物，上述光固化性樹(shù)脂組合物滿足下述條件1及條件2中的至少一個(gè)。[0232]本發(fā)明的光固化性樹(shù)脂組合物的第二方式為如下光固化性樹(shù)脂組合物：包含選自包括聚酰亞胺及聚苯并噁唑的組中的至少1種樹(shù)脂、以及極大吸收波長(zhǎng)之差為80nm以上的感光性化合物A及感光性化合物B,上述感光性化合物A為在下述第1曝光工序中改變上述光固化性膜在上述顯影液中的溶解度的化合物，上述光固化性樹(shù)脂組合物滿足下述條件1及條件2中的至少一個(gè)，供于包括對(duì)由光固化性樹(shù)脂組合物形成的光固化性膜的一部分進(jìn)行曝光的第1曝光工序、通過(guò)顯影液對(duì)上述曝光后的上述光固化性膜進(jìn)行顯影而獲得圖案的顯影工序及通過(guò)包含波長(zhǎng)與在上述第1曝光工序中使用的光的波長(zhǎng)不同的光的光對(duì)上述圖案進(jìn)行曝光的第2曝光工序的固化膜的制造方法中。[0233]條件1:上述光固化性樹(shù)脂組合物中的上述樹(shù)脂包含在上述第2曝光工序中通過(guò)上述感光性化合物B的感光而促進(jìn)與其他基團(tuán)的鍵合反應(yīng)的基團(tuán)；[0234]條件2:上述光固化性樹(shù)脂組合物進(jìn)一步包含具有在上述第2曝光工序中通過(guò)上述感光性化合物B的感光而促進(jìn)與其他基團(tuán)的鍵合反應(yīng)的基團(tuán)的交聯(lián)劑。[0235]本發(fā)明的光固化性樹(shù)脂組合物中的感光性化合物A和感光性化合物B的組合優(yōu)選為下述方式1～方式7中的任一種。[0236]方式1:感光性化合物A為光自由基聚合引發(fā)劑，感光性化合物B為光產(chǎn)酸劑。[0237]方式2:感光性化合物A及感光性化合物B均為光自由基聚合引發(fā)劑。[0238]方式3:感光性化合物A為光自由基聚合引發(fā)劑，感光性化合物B為光產(chǎn)堿劑。[0239]方式4:感光性化合物A為光產(chǎn)酸劑，感光性化合物B為光自由基聚合引發(fā)劑。[0240]方式5:感光性化合物A為光產(chǎn)堿劑，感光性化合物B為光自由基聚合引發(fā)劑。[0241]方式6:感光性化合物A及感光性化合物B均為光產(chǎn)酸劑。[0242]方式7:感光性化合物A及感光性化合物B均為光產(chǎn)堿劑。[0243]這些中，從圖案的解析度的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選為方式1～方式4中的任一種。[0244]從圖案矩形性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選為方式1。[0245]從耐溶劑性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選為方式6。[0246]從所獲得的固化膜的膜強(qiáng)度的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選為方式4。[0247]從能夠進(jìn)行光固化性膜的正型顯影的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選為方式4。[0248]從對(duì)曝光量的穩(wěn)固性(寬容度良好的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選為方式2。[0249]<方式1>[0250]在方式1中，光固化性樹(shù)脂組合物優(yōu)選進(jìn)一步包含后述的自由基交聯(lián)劑及后述的其他交聯(lián)劑。[0251]并且，在方式1中，光固化性樹(shù)脂中包含的特定樹(shù)脂可以具有后述的交聯(lián)性基團(tuán)，也可以不具有后述的交聯(lián)性基團(tuán)。作為上述交聯(lián)性基團(tuán)，可以為后述的自由基聚合性基團(tuán)，也可以為后述的其他交聯(lián)性基團(tuán)。[0252]并且，方式1中的感光性化合物B優(yōu)選為后述的翁鹽化合物或磺酸鹽化合物。[0253]在本發(fā)明的固化膜的制造方法中，使用方式1的光固化性樹(shù)脂組合物時(shí)，在第1曝光工序中的曝光部中促進(jìn)自由基聚合，在第2曝光工序中的曝光部中則促進(jìn)基于酸的交聯(lián)。[0255]在方式2中，光固化性樹(shù)脂組合物優(yōu)選進(jìn)一步包含后述的自由基交聯(lián)劑。[0256]并且，在方式2中，光固化性樹(shù)脂中包含的特定樹(shù)脂可以具有后述的交聯(lián)性基團(tuán)，也可以不具有后述的交聯(lián)性基團(tuán)。作為上述交聯(lián)性基團(tuán)，優(yōu)選為后述的自由基聚合性基團(tuán)。[0257]在本發(fā)明的固化膜的制造方法中，使用方式2的光固化性樹(shù)脂組合物時(shí)，在第1曝光工序中的曝光部中促進(jìn)自由基聚合，在第2曝光工序中的曝光部中也促進(jìn)自由基聚合。[0259]在方式3中，光固化性樹(shù)脂組合物優(yōu)選進(jìn)一步包含后述的自由基交聯(lián)劑及后述的其他交聯(lián)劑。[0260]作為上述其他交聯(lián)劑，優(yōu)選為環(huán)氧化合物。[0261]并且，在方式3中，光固化性樹(shù)脂中包含的特定樹(shù)脂可以具有后述的交聯(lián)性基團(tuán)，也可以不具有后述的交聯(lián)性基團(tuán)。作為上述交聯(lián)性基團(tuán)，優(yōu)選為后述的自由基聚合性基團(tuán)或環(huán)氧基。[0262]在本發(fā)明的固化膜的制造方法中，使用方式3的光固化性樹(shù)脂組合物時(shí)，在第1曝光工序中的曝光部中促進(jìn)自由基聚合，在第2曝光工序中的曝光部中則促進(jìn)基于堿的交聯(lián)。[0264]在方式4中，光固化性樹(shù)脂組合物優(yōu)選進(jìn)一步包含后述的自由基交聯(lián)劑。[0265]并且，在方式4中，光固化性樹(shù)脂中包含的特定樹(shù)脂可以具有后述的交聯(lián)性基團(tuán)，也可以不具有后述的交聯(lián)性基團(tuán)。作為上述交聯(lián)性基團(tuán)，優(yōu)選為后述的自由基聚合性基團(tuán)。[0266]并且，方式4中的感光性化合物A優(yōu)選為后述的醌二疊氮化合物。[0267]在本發(fā)明的固化膜的制造方法中，使用方式4的光固化性樹(shù)脂組合物時(shí)，在第1曝光工序中的曝光部中由于產(chǎn)生酸而改變曝光部在顯影液中的溶解度，在第2曝光工序中的曝光部中則促進(jìn)自由基聚合。[0268]并且，也能夠設(shè)計(jì)成通過(guò)適當(dāng)選擇作為感光性化合物A的光產(chǎn)酸劑及交聯(lián)劑，在第1曝光工序中的曝光部中促進(jìn)基于酸的交聯(lián)，在第2曝光工序中的曝光部中則促進(jìn)自由基聚合。[0270]在方式5中，光固化性樹(shù)脂組合物優(yōu)選進(jìn)一步包含后述的自由基交聯(lián)劑及后述的其他交聯(lián)劑。[0271]并且，在方式5中，光固化性樹(shù)脂中包含的特定樹(shù)脂可以具有后述的交聯(lián)性基團(tuán)，也可以不具有后述的交聯(lián)性基團(tuán)。作為上述交聯(lián)性基團(tuán)，可以為后述的自由基聚合性基團(tuán)，也可以為后述的其他交聯(lián)性基團(tuán)。[0272]在本發(fā)明的固化膜的制造方法中，使用方式5的光固化性樹(shù)脂組合物時(shí)，在第1曝光工序中的曝光部中促進(jìn)基于堿的交聯(lián)，在第2曝光工序中的曝光部中則促進(jìn)自由基聚合。[0273]<方式6、7>[0274]在方式6或方式7中，光固化性樹(shù)脂組合物優(yōu)選進(jìn)一步包含后述的其他交聯(lián)劑。[0275]并且，在方式6或方式7中，光固化性樹(shù)脂中包含的特定樹(shù)脂可以具有后述的交聯(lián)性基團(tuán)，也可以不具有后述的交聯(lián)性基團(tuán)。作為上述交聯(lián)性基團(tuán)，優(yōu)選為后述的其他交聯(lián)性基團(tuán)。[0276]在本發(fā)明的固化膜的制造方法中，使用方式6的光固化性樹(shù)脂組合物時(shí)，在第1曝光工序中的曝光部中促進(jìn)基于酸的交聯(lián)，在第2曝光工序中的曝光部中也促進(jìn)基于酸的交聯(lián)。[0277]在本發(fā)明的固化膜的制造方法中，使用方式7的光固化性樹(shù)脂組合物時(shí)，在第1曝光工序中的曝光部中促進(jìn)基于產(chǎn)生堿的交聯(lián)，在第2曝光工序中的曝光部中也促進(jìn)基于產(chǎn)生堿的交聯(lián)。[0278]以下，對(duì)本發(fā)明的光固化性樹(shù)脂組合物中包含的各成分的詳細(xì)內(nèi)容進(jìn)行說(shuō)明。[0279]<特定樹(shù)脂>[0280]本發(fā)明的光固化性樹(shù)脂組合物包含選自包括聚酰亞胺及聚苯并噁唑的組中的至少1種樹(shù)脂(特定樹(shù)脂)。[0281]本發(fā)明的光固化性樹(shù)脂組合物優(yōu)選包含聚酰亞胺作為特定樹(shù)脂。[0283]本發(fā)明中使用的聚酰亞胺優(yōu)選為可溶于上述顯影液的聚酰亞胺。[0284]顯影液為堿顯影液時(shí)，聚酰亞胺優(yōu)選為堿可溶性聚酰亞胺，顯影液為有機(jī)溶劑時(shí)，聚酰亞胺優(yōu)選為可溶于有機(jī)溶劑的聚酰亞胺。[0285]可溶于顯影液是指在100g的顯影液中，在23℃下溶解0.1g以上的聚酰亞胺，從圖[0292]相對(duì)于聚酰亞胺的總質(zhì)量的氟原子的量?jī)?yōu)選為1～50mol/g,更優(yōu)選為5～30mol/[0293]硅原子-[0296]并且，上述硅原子或上述有機(jī)改[0297]相對(duì)于聚酰亞胺的總質(zhì)量的硅原子的量?jī)?yōu)選為0.01～5mol/g,更優(yōu)選為0.05~[0301]具有聚酰亞胺中的上述乙烯性不飽和鍵的基團(tuán)可以為上述條件1中的在上述第2[0302]并且，具有聚酰亞胺中的上述乙烯性不飽和鍵的基團(tuán)可以為在上述第1曝光工序[0304]上述乙烯性不飽和鍵優(yōu)選具有自由基聚合性。[0305]乙烯性不飽和鍵優(yōu)選包含在后述的由式(4)表示的重復(fù)單元中的R13或后述的由(4)表示的重復(fù)單元中的R132或后述的由式(4)表示的重復(fù)單元中的R1331。[0306]這些之中，乙烯性不飽和鍵優(yōu)選包含在后述的由式(4)表示的重復(fù)單元更優(yōu)選包含在后述的由式(4)表示的重復(fù)單元中的R131作為具有乙烯性不飽和鍵的基團(tuán)。[0307]作為具有乙烯性不飽和鍵的基團(tuán)，可舉出乙烯基、烯丙基、乙烯基苯基等具有直接鍵合于芳香環(huán)的可以被取代的乙烯基的基團(tuán)、(甲基)丙烯酰胺基、(甲基)丙烯酰氧基、由下述式(III)表示的基團(tuán)等。(C=0)NH-、碳原子數(shù)2～30的(聚)氧亞烷基(亞烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為2～12,更優(yōu)選為2~6,尤其優(yōu)選為2或3;重復(fù)數(shù)優(yōu)選為1～12,更優(yōu)選為1～6,尤其優(yōu)選為1～3)或?qū)⑦@些組合2個(gè)以上而成的基團(tuán)。[0312]此外，(聚)氧亞烷基表示氧亞烷基或聚氧亞式(R1)表示的基團(tuán)。氧亞烷基或?qū)⑦@些鍵合2個(gè)以上而成的基團(tuán)，X表示氧原子或硫原子，*表示與其他結(jié)構(gòu)的鍵[0317]在式(R1)～(R3)中，L中的碳原子數(shù)2～12的亞烷基或碳原子數(shù)2～30的(聚)氧亞烷基的優(yōu)選方式與上述R2?1中的碳原子數(shù)2～12的亞烷基或碳原子數(shù)2～30的(聚)氧亞烷基的優(yōu)選方式相同。[0320]由式(R1)表示的結(jié)構(gòu)例如可通過(guò)使酚性羥基等具有羥基的聚酰亞胺與具有異氰酸基及乙烯性不飽和鍵的化合物(例如，甲基丙烯酸2-異氰酸基乙酯等)進(jìn)行反應(yīng)來(lái)獲得。[0321]由式(R2)表示的結(jié)構(gòu)例如可通過(guò)使具有羧基的聚酰亞胺與具有羥基及乙烯性不飽和鍵的化合物(例如，甲基丙烯酸2-羥基乙酯等)進(jìn)行反應(yīng)來(lái)獲得。[0322]由式(R3)表示的結(jié)構(gòu)例如可通過(guò)使酚性羥基等具有羥基的聚酰亞胺與具有環(huán)氧丙基及乙烯性不飽和鍵的化合物(例如，甲基丙烯酸環(huán)氧丙酯等)進(jìn)行反應(yīng)來(lái)獲得。[0323]作為聚亞烷氧基，從溶劑溶解性及耐溶劑性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選為聚乙烯氧基、聚亞丙氧基、聚三亞甲氧基、聚四亞甲氧基或多個(gè)乙烯氧基與多個(gè)亞丙氧基鍵合的基團(tuán)，更優(yōu)選為聚乙烯氧基或聚亞丙氧基，進(jìn)一步優(yōu)選為聚乙烯氧基。在上述多個(gè)乙烯氧基與多個(gè)亞丙氧基鍵合的基團(tuán)中，乙烯氧基與亞丙氧基可無(wú)規(guī)排列，可以形成嵌段來(lái)排列，也可以排列成交替等圖案狀。這些基團(tuán)中的乙烯氧基等重復(fù)數(shù)的優(yōu)選方式如上所述。[0324]在式(III)中，*表示與其他結(jié)構(gòu)的鍵合部位，優(yōu)選為與聚酰亞胺的主鏈的鍵合部[0325]相對(duì)于聚酰亞胺的總質(zhì)量的乙烯性不飽和鍵的量?jī)?yōu)選為0.05～10mol/g,更優(yōu)選為0.1～5mol/g。[0326]并且，從制造適性的觀點(diǎn)考慮，相對(duì)于聚酰亞胺的總質(zhì)量的乙烯性不飽和鍵的量?jī)?yōu)選為0.0001～0.1mol/g,更優(yōu)選為0.0005～0.05mol/g。[0327]-除乙烯性不飽和鍵以外的交聯(lián)性基團(tuán)-[0328]聚酰亞胺可以具有除乙烯性不飽和鍵以外的交聯(lián)性基團(tuán)(其他交聯(lián)性基團(tuán))。[0329]聚酰亞胺中的除上述乙烯性不飽和鍵以外的交聯(lián)性基團(tuán)可以為上述條件1中的在上述第2曝光工序中通過(guò)上述感光性化合物B的感光而促進(jìn)與其他基團(tuán)的鍵合反應(yīng)的基團(tuán)。[0330]并且，聚酰亞胺中的除上述乙烯性不飽和鍵以外的交聯(lián)性基團(tuán)可以為上述第1曝光工序中通過(guò)上述感光性化合物A的感光而促進(jìn)與其他基團(tuán)的鍵合反應(yīng)的基團(tuán)。[0331]作為除乙烯性不飽和鍵以外的交聯(lián)性基團(tuán)，可舉出環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁基等環(huán)狀醚[0332]除乙烯性不飽和鍵以外的交聯(lián)性基團(tuán)例如優(yōu)選包含在后述的由式(4)表示的重復(fù)[0333]相對(duì)于聚酰亞胺的總質(zhì)量的除乙烯性不飽和鍵以外的交聯(lián)性基團(tuán)的量?jī)?yōu)選為0.05～10mol/g,更優(yōu)選為0.1～5mol/g。[0334]并且，從制造適性的觀點(diǎn)考慮，相對(duì)于聚酰亞胺的總質(zhì)量的除乙烯性不飽和鍵以外的交聯(lián)性基團(tuán)的量?jī)?yōu)選為0.0001～0.1mol/g,更優(yōu)選為0.001～0.05mol/g。[0335]-極性轉(zhuǎn)換基-[0336]聚酰亞胺可以具有酸分解性基等極性轉(zhuǎn)換基。作為酸分解性基，只要通過(guò)酸的作[0337]作為酸分解性基的具體例，可舉出叔丁氧基羰基、異丙氧基羰基、四氫吡喃基、四硅基醚基等。從曝光靈敏度的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選為乙氧基乙基或四氫呋喃基。[0339]將聚酰亞胺用于堿顯影時(shí)，從提高顯影性的觀點(diǎn)考慮，聚酰亞胺的酸值優(yōu)選為[0341]并且，在使用以有機(jī)溶劑為主成分的顯影液的顯影(例如，后述的“溶劑顯影”)中使用聚酰亞胺時(shí)，聚酰亞胺的酸值優(yōu)選為2～35mgKOH/g,更優(yōu)選為3～30mgKOH/g,進(jìn)一步優(yōu)[0342]上述酸值通過(guò)公知的方法測(cè)定，例如，通過(guò)記載于JISK0070:1992中的方法測(cè)[0343]并且，作為包含在聚酰亞胺的酸基，從兼顧保存穩(wěn)定性及顯影性的觀點(diǎn)考慮，pKa優(yōu)選為0～10的酸基，更優(yōu)選為3～8的酸基。[0344]pKa是指考慮由酸釋放氫離子的解離反應(yīng)并通過(guò)其負(fù)的常用對(duì)數(shù)pKa表示其平衡常數(shù)Ka。在本說(shuō)明書(shū)中，只要沒(méi)有特別說(shuō)明，則將pKa設(shè)為基于ACD/ChemSketch(注冊(cè)商標(biāo))[0345]并且，酸基例如為磷酸等多元酸的情況下，上述pKa為第一解離常數(shù)。[0346]作為這種酸基，聚酰亞胺優(yōu)選包含選自包括羧基及酚性羥基的組中的至少1種，更優(yōu)選包含酚性羥基。[0347]酚性羥基-[0348]從使基于堿顯影液的顯影速度適當(dāng)?shù)挠^點(diǎn)考慮，聚酰亞胺優(yōu)選具有酚性羥基。[0349]聚酰亞胺可以在主鏈末端具有酚性羥基，也可以在側(cè)鏈具有酚性羥基。[0350]酚性羥基例如優(yōu)選包含在后述的由式(4)表示的重復(fù)單元中的R132或后述的由式[0351]相對(duì)于聚酰亞胺的總質(zhì)量的酚性羥基的量?jī)?yōu)選為0.1～30mol/g,更優(yōu)選為1~[0352]-由式(4)表示的重復(fù)單元-[0353]作為在本發(fā)明中使用的聚酰亞胺，只要為具有酰亞胺環(huán)的高分子化合物，則并沒(méi)有特別限定，優(yōu)選包含由下述式(4)表示的重復(fù)單元，更優(yōu)選包含由式(4)表示的重復(fù)單元且具有交聯(lián)性基團(tuán)的化合物。[0354]作為交聯(lián)性基團(tuán)，可舉出上述的具有乙烯性不飽和鍵的基團(tuán)或除乙烯性不飽和鍵以外的交聯(lián)性基團(tuán)。[0358]聚酰亞胺具有交聯(lián)性基團(tuán)時(shí)，交聯(lián)性基團(tuán)可以位于R131及R132中的至少一個(gè)上，也可以如下述式(4-1)或式(4-2)所示，位于聚酰亞胺的末端。[0359]式(4-1)[0360][化學(xué)式4][0362]在式(4-1)中，R133為具有交聯(lián)性基團(tuán)的基團(tuán)，其他基團(tuán)的含義與式(4)相同。[0363]式(4-2)[0364][化學(xué)式5][0366]R13?及R135中的至少一個(gè)為具有交聯(lián)性基團(tuán)的基團(tuán)，不具有交聯(lián)性基團(tuán)的基團(tuán)時(shí)為有機(jī)基團(tuán)，其他基團(tuán)的含義與式(4)相同。[0368]R131表示2價(jià)有機(jī)基團(tuán)。作為2價(jià)有機(jī)基團(tuán)，可例示包含直鏈或支鏈的脂肪族基、環(huán)狀的脂肪族基及芳香族基的基團(tuán)，優(yōu)選為碳原子數(shù)2～20的直鏈或支鏈的脂肪族基、碳原子數(shù)6～20的環(huán)狀的脂肪族基、碳原子數(shù)6～20的芳香族基或由這些組合構(gòu)成的基團(tuán)，更優(yōu)選為包含碳原子數(shù)6～20的芳香族基的基團(tuán)。作為本發(fā)明的尤其優(yōu)選的實(shí)施方式，可例示由-Ar-L-Ar-表示的基團(tuán)的情況。其中，Ar分別獨(dú)立地為芳香族基，L為可以被氟原子取代的碳原子數(shù)1～10的脂肪族烴基、-0-、-C0-、-S-、-SO?-或-NHCO-、或者由上述的2個(gè)以上的組合構(gòu)成的基團(tuán)。Ar優(yōu)選為亞苯基，L優(yōu)選為可以被氟原子取代的碳原子數(shù)1或2的脂肪族烴基、-0-、-CO-、-S-或SO?-。此處的脂肪族烴基優(yōu)選為亞烷基。[0369]R131優(yōu)選由二胺衍生。作為用于制造聚酰亞胺的二胺，可舉出直鏈或支鏈脂肪族、環(huán)狀脂肪族或芳香族二胺等。二胺可以僅使用1種，也可以使用2種以上。[0370]具體而言，優(yōu)選為包含碳原子數(shù)2～20的直鏈或支鏈的脂肪族基、碳原子數(shù)6～20的環(huán)狀的脂肪族基、碳原子數(shù)6～20的芳香族基或由這些組合構(gòu)成的基團(tuán)的二胺，更優(yōu)選為包含由碳原子數(shù)6～20的芳香族基構(gòu)成的基團(tuán)的二胺。作為包含芳香族基的基團(tuán)的例子，可舉出下述基團(tuán)。下述式中，*分別獨(dú)立地表示與其他結(jié)構(gòu)的鍵合部位。[0371][化學(xué)式6]子取代的碳原子數(shù)1～3的亞烷基、-0-、-C(=0)-、-S-、-SO?-中的基團(tuán)，進(jìn)一步優(yōu)選為選自[0374]式中，R1~R3分別獨(dú)立地表示氫原子或取代基，優(yōu)選為具有氫原子、烴基或交聯(lián)性基團(tuán)的基團(tuán)，更優(yōu)選為氫原子、環(huán)氧丙基或由下述式(E1)表示的基團(tuán)。族烴基，更優(yōu)選為氫原子或甲基。CH?-、-C(=0)0-、-0(C=0)NH-、碳原子數(shù)2～30的(聚)氧亞烷基(亞烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為2～12,更優(yōu)選為2～6,尤其優(yōu)選為2或3;重復(fù)數(shù)優(yōu)選為1～12,更優(yōu)選為1～6,尤其優(yōu)選為1~3)或這些組合2個(gè)以上而成的基團(tuán)，更優(yōu)選為碳原子數(shù)2～12的亞烷基。[0380]在式(E1)中，*表示與其他結(jié)構(gòu)的鍵合部位。[0381]作為二胺，具體而言，可舉出選自1,2-二氨基乙烷、1,2-二氨基丙烷、1,3-二氨基丙烷、1,4-二氨基丁烷及1,6-二氨基己烷；1,2-二氨基環(huán)戊烷或1,3-二氨基環(huán)戊烷、1,2-二氨基環(huán)己烷、1,3-二氨基環(huán)己烷或1,4-二氨基環(huán)己烷、1,2-雙(氨基甲基)環(huán)己烷、1,3-雙(氨基甲基)環(huán)己烷或1,4-雙(氨基甲基)環(huán)己烷、雙-(4-氨基環(huán)己基)甲烷、雙-(3-氨基環(huán)己基)甲烷、4,4'-二氨基-3,3'-二甲基環(huán)己基甲烷及異佛爾酮二胺；間苯二胺或?qū)Ρ蕉?、二氨基甲苯?,4'-二氨基聯(lián)苯或3,3'-二氨基聯(lián)苯、4,4'-二氨基二苯醚、3,3-二氨基二苯醚、4,4'-二氨基二苯基甲烷及3,3'-二氨基二苯基甲烷、4,4'-二氨基二苯基砜及3,3'-二氨基二苯基砜、4,4'-二氨基二苯硫醚及3,3'-二氨基二苯硫醚、4,4'-二氨基二苯甲酮或3,3'-二氨基二苯甲酮、3,3'-二甲基-4,4’-二氨基聯(lián)苯、2,2'-二甲基-4,4'-二氨基聯(lián)苯、3,3'-二甲氧基-4,4'-二氨基聯(lián)苯、2,2-雙(4-氨基苯基)丙烷、2,2-雙(4-氨基苯基)六氟丙烷、2,2-雙(3-羥基-4-氨基苯基)丙烷、2,2-雙(3-羥基-4-氨基苯基)六氟丙烷、2,2-雙(3-氨基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-氨基-4-羥基苯基)六氟丙烷、雙(3-氨基-4-羥基苯基)砜、雙(4-氨基-3-羥基苯基)砜、4,4'-二氨基對(duì)聯(lián)三苯、4,4’-雙(4-氨基苯氧基)聯(lián)苯、雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]砜、雙[4-(3-氨基苯氧基)苯基]砜、雙[4-(2-氨基苯氧基)苯基]砜、1,4-雙(4-氨基苯氧基)苯、9,10-雙(4-氨基苯基)蒽、3,3'-二甲基-4,4'-二氨基二苯基砜、1,3-雙(4-氨基苯氧基)苯、1,3-雙(3-氨基苯氧基)苯、1,3-雙(4-氨基苯基)苯、3,3'-二乙基-4,4'-二氨基二苯基甲烷、3,3'-二甲基-4,4'-二氨基二苯基甲烷、4,4'-二氨基八氟聯(lián)苯、2,2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]六氟丙烷、9,9-雙(4-氨基苯基)-10-氫蒽、3,3',4,4'-四氨基聯(lián)苯、3,3',4,4'-四氨基二苯醚、1,4-二氨基蒽醌、1,5-二氨基蒽醌、3,3-二羥基-4,4'-二氨基聯(lián)苯、9,9'-雙(4-氨基苯基)芴、4,4'-二甲基-3,3'-二氨基二苯基砜、3,3',5,5'-四甲基-4,4'-二氨基二苯基甲烷、2,4-二氨基枯烯及2,5-二氨基枯烯、2,5-二甲基-對(duì)苯二胺、乙酰胍胺、2,3,5,6-四甲基-對(duì)苯二胺、2,4,6-三甲基-