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1、關(guān)于菲涅耳衍射，下列說法錯(cuò)誤的是[B]

A衍射條紋明顯；

B衍射圖樣不改變結(jié)構(gòu)，只改變尺寸大?。?/p>

C衍射圖樣的結(jié)構(gòu)隨著d的增加而改變(d是光屏到光闌之間的距離);

D觀察面上的相位變化不是線性的：

2、本課程的內(nèi)容包括兩個(gè)部分，下列不屬于第一部分納米表征技術(shù)的是[D]

A高數(shù)值孔徑成像；

B近場光學(xué)顯微；

C遠(yuǎn)場光學(xué)表征技術(shù)；

D透射光譜測量；

3、關(guān)于在軸平面上圓孔的菲涅耳衍射圖樣的光強(qiáng)分布，下列說法錯(cuò)誤的是[D]

A光強(qiáng)隨著菲涅耳數(shù)N周期性地變化：

B光強(qiáng)分布沿Z軸出現(xiàn)一系列非周期性的亮點(diǎn)和暗點(diǎn)；

C兩個(gè)相鄰的亮點(diǎn)或暗點(diǎn)之間的間距隨著Z的增大而增大；

D可以在光軸上檢測到一個(gè)被稱為泊松亮斑的亮點(diǎn)。

4、下列不是入射在透鏡上的光場發(fā)生的物理變化的是[D]

A場的相位變化；

B場的能量損失；正版高清；精品；加油努力正版高清；精品；加油努力

C場的振幅變化；

D場的頻率變化；

5、為了獲得圓形透鏡的衍射光場表達(dá)式，需要引入三個(gè)重要參數(shù)，下列哪個(gè)不屬于引入的參數(shù)?[A]

A角向光學(xué)坐標(biāo)；

B徑向光學(xué)坐標(biāo)；

C軸向光學(xué)坐標(biāo)；

D菲涅耳數(shù)；

6、關(guān)于單個(gè)透鏡過焦點(diǎn)的軸向光強(qiáng)分布，下列說法錯(cuò)誤的是[D1

A用sinc函數(shù)描述軸向光強(qiáng)；

B在z=f時(shí)，光強(qiáng)相對于焦平面是對稱的；

C衍射斑的軸向尺寸大約是橫向尺寸的三倍；

D沿著光軸方向的光強(qiáng)為零；

7、下列哪個(gè)效應(yīng)不屬于在高數(shù)值孔徑物鏡聚焦下需要考慮的?[C]

A切趾效應(yīng)；

B退偏效應(yīng)；

C色散效應(yīng)；

D像差效應(yīng)；

8、透鏡成像的分辨率R與數(shù)值孔徑NA的關(guān)系是[B]

ARe=NA;

BR1/NA;

CReNA^2;1

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DR∞<1/NA”2;

9、應(yīng)該用下列哪種理論解釋退偏效應(yīng)?[

C]A德拜成像理論；

B夫瑯禾費(fèi)衍射理論；

C矢量德拜理論；

D理查德-沃爾夫矢量衍射理論；

10、在德拜近似下，獲得的德拜積分表示為立體角內(nèi)不同傳播方向的的疊加?[A

1A平面波；

B球面波；

C柱面波；

D方波；

11、在計(jì)算高數(shù)值孔徑物鏡的衍射圖樣時(shí)，如果觀測點(diǎn)離原點(diǎn)不遠(yuǎn)，可采用德拜近似。下列不屬于德拜

近似的是[D]

Ar-f=s·R

Bds=f'dΩ

C

cos(n,r)≈1Dr>f

12、如果瞳函數(shù)和切趾函數(shù)滿足關(guān)系P(θ)=P(r),則該物鏡滿足的設(shè)計(jì)條件是[

B]A正弦條件；

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B赫歇爾條件；

C均勻投影條件；

D亥姆霍茲條件；

13、對于x-方向線偏振光入射，高數(shù)值孔徑物鏡聚焦區(qū)域的衍射場在x、y和z方向上仍有三個(gè)電場分量

，這種現(xiàn)象就是高數(shù)值孔徑物鏡的什么效應(yīng)?[C]

A切趾效應(yīng)；

B色散效應(yīng)；

C退偏效應(yīng)；

D像差效應(yīng)；

14、對于x-方向線偏振光入射，高數(shù)值孔徑物鏡聚焦區(qū)域的衍射場表達(dá)式中，與y-方向電場分量相關(guān)的

是[C]

A第一類零階貝塞爾函數(shù)：

B第一類一階貝塞爾函數(shù)：

C第一類二階貝塞爾函數(shù)；

D第一類三階貝塞爾函數(shù)；

15、在矢量德拜理論中，為了描述物鏡折射后的電場，引入了兩對單位矢量，分別為i和j,ap

和aφ。經(jīng)物鏡折射之后，其中哪一個(gè)單位矢量不改變其方向[D]

ABCD

2

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ij

apaφ

16、緊聚焦矢量光場計(jì)算中應(yīng)用最廣泛和最有效的計(jì)算工

具是[C]A惠更斯-菲尼爾原理；

B德拜理論；

C理查德-沃爾夫矢量衍射理論；

D快速傅里葉變換；

17、下列哪種衍射理論可以用來計(jì)算緊聚焦徑向偏振光的焦場分布

?[D]A惠更斯-菲涅耳原理；

B德拜理論；

C矢量德拜理論；

D理查德-沃爾夫矢量衍射理論；

18、徑向偏振光聚焦比空間均勻偏振光有更小的焦斑，是因?yàn)?/p>

：[D1A有徑向電場分量；

B使用了高數(shù)值孔徑物鏡聚焦；

C沒有角向電場分量；

D產(chǎn)生了強(qiáng)的局域的縱向電場分量；

、下列不是常見的瞳切趾函數(shù)

19正版高清；精品；加油努力

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的是[A]A艾里-高斯光束：

B貝塞爾-高斯光束：

C拉蓋爾-高斯光束：

D高斯光束；

20、關(guān)于瞳填充因子，下列說法錯(cuò)誤的

是：[D]A瞳填充因子是焦場計(jì)算中的

一個(gè)重要參數(shù)；

B瞳填充因子是入瞳半徑與光束半徑的比值；

C瞳填充因子大于等于1;

D瞳填充因子可以小于1;

1、在近場光學(xué)顯微技術(shù)中，光學(xué)圖像的分辨率由什么決

定?[B]A光波的波長

B孔徑的大小

C物鏡數(shù)值孔徑的大小

D探測光強(qiáng)度

9、關(guān)于Kretschmann配置激發(fā)表面等離子體波，下列說法錯(cuò)誤的是[C]

A利用倏逝波耦合來激發(fā)表面等離子共振；

B通過該結(jié)構(gòu)的棱鏡，將激光束耦合到金屬層-電介質(zhì)界面，形成等離子體表面極化激元模式：

C待測物質(zhì)放置在棱鏡與金屬薄膜之間：

D對入射角度和涂層厚度有嚴(yán)格的要求：

3

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10、下列不屬于近場掃描光學(xué)顯微鏡的主要功能模塊的是[D]

A納米探針；

B控制探針和樣品距離的反饋系統(tǒng)；

C光學(xué)相關(guān)的樣品信息；

D能量探測系統(tǒng)；

11、在近場掃描光學(xué)顯微術(shù)中，關(guān)于探針尖端與樣品之間的距離控制，下列說法錯(cuò)誤的是[D]

A可以利用光學(xué)反饋進(jìn)行距離控制：

B常用的尖端定位機(jī)制是監(jiān)測尖端振動振幅和非光學(xué)音叉技術(shù)：

C剪切力音叉反饋和彎曲光纖光反饋，這兩種技術(shù)均采用了剪切力反饋法；

D距離控制采用音叉力傳感器，這種捕獲模式配置的靈敏度和剪切力模式下的靈敏度相當(dāng)；

12、如果要利用近場掃描光學(xué)顯微術(shù)(NSOM)研究樣品的熒光特性，可以采用[A]

A照明模式下的有孔探測NSOM;

B收集模式下的有孔探測NSOM;

C照明和收集模式同時(shí)的有孔探測NSOM;

D采集配置下的無孔探測NSOM;

13、關(guān)于用近場掃描光學(xué)顯微術(shù)進(jìn)行波導(dǎo)表征，下列說法錯(cuò)誤的是[D]

A可以利用收集模式近場掃描式光學(xué)顯微鏡實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)中的多模干涉；

B可以實(shí)現(xiàn)對波導(dǎo)內(nèi)部導(dǎo)模的無損檢測：

C可以提供波導(dǎo)散射的近場表征，實(shí)現(xiàn)局域缺陷的檢測；

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D只能用于簡單波導(dǎo)器件的定量表征：

14、采用敲擊模式音叉近場掃描光學(xué)顯微鏡(TMTF-NSOM)系統(tǒng)，對樣品表面的倏逝場光強(qiáng)進(jìn)行了探測。下

列不是該方法的優(yōu)點(diǎn)的是[A1

A檢測速度快；

B高空間分辨率；

C高靈敏度；

D優(yōu)異的穩(wěn)定性；

15、下列關(guān)于近場掃描光學(xué)顯微鏡的說法錯(cuò)誤的是[D]

A由于近場掃描光學(xué)顯微鏡克服了衍射極限，因此有可能探測納米區(qū)域的局域光學(xué)相互作用；

B近場光學(xué)技術(shù)提供了更高的精度和分辨率，也使其成為納米級光學(xué)加工和光學(xué)制造的潛在候選技術(shù)；

C要了解組分不均勻性和缺陷分布對光學(xué)性質(zhì)的影響，NSOM是非常方便和有效的方法；

DNSOM不能用于聚合物分散-液晶薄膜中液晶液滴形狀和分子結(jié)構(gòu)的表征；

16、下列哪種材料不能作為無孔近場掃描光學(xué)顯微鏡的探針?[

A]A有機(jī)聚合物尖端；

B極尖銳的電介質(zhì)；

C極尖銳的半導(dǎo)體；

D金屬尖端；

17、某顯微鏡實(shí)驗(yàn)裝置中，包括三個(gè)不同尺度的顯微鏡：掃描隧道顯微鏡、掃描等離子體近場顯微鏡和

光學(xué)顯微鏡，這個(gè)顯微鏡是[B]

A掃描隧道顯微鏡；

B掃描等離子體近場顯微鏡；4

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C掃描干涉無孔顯微鏡；

D掃描近場橢偏顯微鏡；

18、關(guān)于掃描近場橢偏顯微鏡，下列說法錯(cuò)誤的是[B]

A這種無孔光學(xué)近場掃描顯微鏡是商用的原子力顯微鏡和橢圓偏振儀相結(jié)合而成的；

B這種顯微鏡的光學(xué)分辨率達(dá)到了1nm左右；

C可以觀察到透明薄膜中光學(xué)不均勻性；

D實(shí)驗(yàn)技術(shù)簡單，該顯微鏡可以用來測量薄膜的局域折射率、吸收和厚度；

19、下列不是無孔近場光學(xué)顯微術(shù)的優(yōu)點(diǎn)的是[

B]A高的空間分辨率；

B低光通量；

C可使用商業(yè)探針；

D可同時(shí)研究樣品表面的光學(xué)特性和非光學(xué)特性；

20、下列哪種光學(xué)顯微技術(shù)的空間分辨率最高?[D

]A固體浸沒透鏡顯微鏡；

B表面等離子體顯微鏡；

C掃描等離子體近場顯微鏡(SPNM);

D掃描干涉無孔顯微鏡(SIAM);

下列無孔近場掃描光學(xué)顯微術(shù)中，使用的是虛擬探針的是[C]

A.掃描干涉無孔顯微鏡；

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B.掃描等離子體近場顯微鏡；

C.用徑向偏振倏逝貝塞爾光束作為光源的近場掃描光學(xué)顯微鏡；

D.掃描近場橢偏顯微鏡。

1、下列哪項(xiàng)不屬于共聚焦顯微成像系統(tǒng)的必要組成部分?

CA光學(xué)顯微鏡

B光源

C照明針孔

D探測針孔

2、要解決共聚焦顯微成像系統(tǒng)圖像采集速度慢的問題，下列哪項(xiàng)中的方法是無效的?D

A采用線/狹縫掃描

B采用轉(zhuǎn)盤掃描

C減小積分時(shí)間

D采用雙光子熒光技術(shù)

3、下列哪項(xiàng)不屬于共聚焦熒光顯微鏡的應(yīng)用范疇?D

A多種蛋白質(zhì)分子的共定位

B藥物分子進(jìn)入細(xì)胞的動態(tài)過程監(jiān)測

C線粒體膜電位的測量

D細(xì)胞膜厚度的測量

4、在白光千涉儀中，對樣品光束和參考光束采用共光路設(shè)計(jì)的顯微物鏡結(jié)構(gòu)是B

AMichelson結(jié)構(gòu)

BMirau結(jié)構(gòu)5

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CLinnik結(jié)構(gòu)

D共聚焦結(jié)構(gòu)

5、關(guān)于Linnik型白光干涉儀，下列說法正確的是C

A不適用于低倍物鏡

B不適用于高倍物鏡

C對兩物鏡的一致性要求高

D結(jié)構(gòu)緊湊，抗干擾能力強(qiáng)

6、與采用單色光的激光干涉儀相比，白光干涉儀具有哪些特點(diǎn)?D

A采用高時(shí)間相干性的白光光源

B獲得干涉條紋更加容易

C具有更高的測量精度

D適于測量粗糙表面和不連續(xù)表面

7、根據(jù)工作原理，橢偏儀可以分為消光式橢偏儀和A

A光度式橢偏儀

B光譜型橢偏儀

C成像橢偏儀

D相位調(diào)制型橢偏儀

8、在消光式橢偏儀中，如果起偏器方位角P是90°,補(bǔ)償器方位角C為45°,樣品的橢偏參量為(45°,

90°),那么發(fā)生消光時(shí)，檢偏器方位角A=正版高清；精品；加油努力C正版高清；精品；加油努力

A-90°

B-45°

C45°

D90°

9、關(guān)于光度式橢偏儀，下列哪個(gè)選項(xiàng)的說法是錯(cuò)誤的?C

A光度式橢偏儀包括旋轉(zhuǎn)偏振器件型和調(diào)制器件型橢偏儀

B光度式橢偏儀通過傅里葉分析求解橢偏參量

C旋轉(zhuǎn)偏振器件型橢偏儀構(gòu)造簡單，沒有色差

D相位調(diào)制型橢偏儀測量速度快，適用于在線監(jiān)測

10、采用一半鍍膜的0/π相位板對線偏振光進(jìn)行調(diào)制，可以獲得怎樣的光斑?A

A橫向一維超分辨光斑

B橫向二維環(huán)形空心光斑

C三維空心光斑

D軸向中空光斑

11、在門控連續(xù)STED(gCW-STED)技術(shù)中，關(guān)于門控時(shí)間Tg,不正確的說法是：B

A如Tg過小，自發(fā)熒光仍然較強(qiáng)，導(dǎo)致分辨率降低

B如Tg過大，樣品發(fā)生嚴(yán)重的光漂白

CTg過大會導(dǎo)致信號強(qiáng)度減弱，使信噪比降低

DTg一般選擇為激發(fā)態(tài)壽命的一半

12、下列表述中哪一項(xiàng)不是基于STED思想的光刻技術(shù)具有的特點(diǎn)?B

A具有亞衍射極限分辨率6

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B具有高速刻寫的能力

C具有三維刻寫的能力

D對光敏樹脂材料具有較高的要求

13、關(guān)于白光干涉儀中零光程差位置的確定，下列哪些選項(xiàng)中的說法是正確的?ABCD

A當(dāng)干涉儀兩臂平衡時(shí)，零光程差位置對應(yīng)于光強(qiáng)最強(qiáng)點(diǎn)

B常用提取包絡(luò)峰值位置的方法確定零光程差位置

C常用的算法包括直接求解法、加權(quán)平均法、包絡(luò)曲線擬合法等

D在移相法中，可以利用基于偏振器件的消色差移相器消除色差

14、利用白光干涉儀測量膜厚時(shí)，可以如何降低色散的影響?BD

A增加光源帶寬

B降低光源帶寬

C選擇高數(shù)值孔徑的物鏡

D選擇低數(shù)值孔徑的物鏡

15、橢偏儀具有的主要特點(diǎn)有哪些?ABCD

A靈敏度高達(dá)0.1nm

B能同時(shí)測量膜厚和光學(xué)常數(shù)

C能夠測量多層膜

D能夠用于在線監(jiān)測和實(shí)時(shí)測量

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16、關(guān)于穆勒矩陣橢偏儀和常規(guī)橢偏儀的區(qū)別，下列哪個(gè)選項(xiàng)是正確的?ABC

A穆勒矩陣橢偏儀可以獲得更豐富的測量信息

B穆勒矩陣橢偏儀能夠測量各向異性樣品

C穆勒矩陣橢偏儀能夠測量退偏效應(yīng)

D穆勒矩陣橢偏儀能夠?qū)悠繁砻孢M(jìn)行成像

17、降低STED技術(shù)中的光漂白現(xiàn)象，可以采用哪些方法?ABCD

A采用連續(xù)STED激光，降低峰值強(qiáng)度

B選擇具有短三重態(tài)壽命的熒光分子

C采用RESCue-STED技術(shù)

D采用protected-STED技術(shù)

1、假設(shè)空間中有一束沿著x軸傳播的光，以下說法正確的是：A

A若光場為TM模式，則磁場只存在y分量

B若光場為TM模式，則電場只存在x分量

C若光場為TE模式，則磁場只存在y分量

D若光場為TE模式，則電場只存在x分量

2、關(guān)于單界面處的表面等離激元，以下說法正確的是B

A只有TE偏振的光場才能夠激發(fā)表面等離激元

B只有TM偏振的光場才能夠激發(fā)表面等離激元

C表面等離激元可存在于相同介電常數(shù)實(shí)部的兩種材料界面

D導(dǎo)體與絕緣體之間的界面無法產(chǎn)生表面等離激元

3、關(guān)于理想金屬與空氣界面處表面等離激元的色散關(guān)系，以下說法正確的是：C

7

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A表面等離激元的色散曲線位于空氣中光線(lightline)的左側(cè)

B束縛模式與輻射模式之間不存在頻率間隙區(qū)域

C表面等離子體是表面等離激元在波矢趨于無窮大時(shí)的極限形式

D在高頻區(qū)域，表面等離激元的傳播常數(shù)趨于0

4、以下不屬于表面等離激元激發(fā)方式的是D

A棱鏡耦合

B光柵耦合

C緊聚焦光場激發(fā)

D光纖耦合

5、對于金膜/棱鏡構(gòu)成的Kretschmann結(jié)構(gòu)，以下說法錯(cuò)誤的是：C

A屬于衰減全內(nèi)反射的一種

B激發(fā)表面等離激元時(shí)反射能量最弱

C通過調(diào)整入射角度，能夠在棱鏡/金屬界面激發(fā)表面等離激元

D表面等離激元會泄露回棱鏡

6、有關(guān)PSTM和STM技術(shù)，以下說法錯(cuò)誤的是：C

A采集時(shí)都需將探針靠近樣品表面

B采集時(shí)都需要使用反饋技術(shù)控制探針與樣品的距離

CSTM收集的是電流，而PSTM收集的是光子

D分辨率都可達(dá)到亞波長量級正版高清；精品；加油努力正版高清；精品；加油努力

7、以下不屬于反饋技術(shù)的是：D

A剪切力反饋

B利用收集的光場強(qiáng)度作為反饋信號

C非接觸模式的原子力顯微術(shù)

D端面耦合

8、當(dāng)一束平面波照射金屬納米顆粒時(shí)，以下說法錯(cuò)誤的是：C

A顆粒的內(nèi)部和外部近場區(qū)域均會獲得場增強(qiáng)效應(yīng)

B局域表面等離子體本質(zhì)上是一種非傳播激發(fā)

C局域表面等離子體的激發(fā)需要相位匹配技術(shù)

D當(dāng)顆粒尺寸遠(yuǎn)小于光波長時(shí)，可用準(zhǔn)靜態(tài)近似分析粒子與電磁場之間的作用

9、當(dāng)制備金顆粒溶液時(shí)，不會觀察到的現(xiàn)象是：D

A金顆粒的尺寸變化會改變?nèi)芤旱念伾?/p>

B金顆粒的形貌變化會改變?nèi)芤旱念伾?/p>

C金顆粒外層包裹介質(zhì)材料時(shí)會改變?nèi)芤旱念伾?/p>

D溶液的顏色取決于光源的位置

10、金屬薄膜上制備的介質(zhì)納米結(jié)構(gòu)能夠?qū)崿F(xiàn)對SPP相速度的空間調(diào)控√

11、圓形金屬亞波長溝槽結(jié)構(gòu)用于SPP的聚焦時(shí)依賴的是共振激發(fā)機(jī)制×

12、在研究金屬薄膜上刻蝕的亞波長尺寸小孔的散射特性時(shí)，可采用惠更斯菲涅爾原理×

13、當(dāng)光場穿過不透明薄膜上的圓孔時(shí)，以下說法錯(cuò)誤的是：C

A當(dāng)孔徑的尺寸大于入射波長時(shí)，可用標(biāo)量衍射理論分析散射場

B當(dāng)孔徑的尺寸小于入射波長時(shí)，散射場由近場效應(yīng)主導(dǎo)8

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C當(dāng)薄膜的厚度小于半波長時(shí)，會引入傳播模式

D亞波長孔徑可以等效為電偶極子和磁偶極子

14、關(guān)于拉曼散射，以下說法錯(cuò)誤的是：A

A當(dāng)分子處于激發(fā)態(tài)時(shí)，光子將發(fā)生斯托克斯散

射B相較于拉曼光譜，熒光光譜通常很寬

C共振拉曼散射的效率低于熒光躍遷

D相較于熒光過程，拉曼散射截面要小10個(gè)數(shù)量級

15、關(guān)于表面增強(qiáng)拉曼散射(SERS),以下說法錯(cuò)誤的是：

DASERS的增強(qiáng)機(jī)制包括化學(xué)貢獻(xiàn)和電磁場增強(qiáng)貢獻(xiàn)

B電磁場增強(qiáng)的物理基礎(chǔ)是局域表面等離子體和避雷針效應(yīng)

C電磁場對于SERS的貢獻(xiàn)正比于場增強(qiáng)因子的四次方

D避雷針效應(yīng)有著很強(qiáng)的頻率依賴特性

16、單顆粒光譜技術(shù)的原理是粒子偶極共振頻率隨環(huán)境之間的變化關(guān)系√

17、單顆粒光譜技術(shù)包括：

EA全內(nèi)反射顯微術(shù)

B近場光學(xué)顯微術(shù)

C暗場光學(xué)顯微術(shù)

D光熱成像

術(shù)E以上全

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是

18、超透鏡可增強(qiáng)倏逝場，從而獲得突破衍射極限的成像

19、銀不是一種合適的超透鏡材料×

20、SPP在光刻中的優(yōu)勢在于其短波長特性

1、下列屬于光束截面上偏振態(tài)分布非均勻分布的光場是[C]

A線偏振光

B圓偏振光1

C徑向偏振光

D橢圓偏振光

2、在光場的龐加萊球表述中，龐加萊球的北極點(diǎn)對應(yīng)于[A

A右旋圓偏振光；

B左旋圓偏振光；

C右旋橢圓偏振光；

D左旋橢圓偏振光；

3、下列屬于局域線偏振矢量光場的是[C]

A龐加萊光束：

B雜化偏振矢量光場；

C徑向偏振光；

D渦旋橢圓偏振光；

9

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4、下列矢量光場不具有偏振奇點(diǎn)的是[A]

A徑向變化矢量光場；

B徑向偏振光；

C角向偏振光；

D高階柱狀矢量光場；

5、下列屬于矢量光場主動生成技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)的是[A]

A生成效率高；

B缺乏靈活性；

C生成效率低；

D靈活性高；

6、下列不屬于矢量光場主動生成技術(shù)的是[D]

A雙折射選模；

B二向色性選模；

C腔內(nèi)干涉法；

D腔外干涉法；

7、下列屬于矢量光場被動生成技術(shù)的缺點(diǎn)的是[C1

A生成效率高；

B缺乏靈活性；

C生成效率低；

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D靈活性高；

8、下列不屬于矢量光場被動生成技術(shù)的是[A]

A光子晶體輸出耦合器；

B偏振轉(zhuǎn)換器；

C腔外干涉法；

D基于4F系統(tǒng)和波前重構(gòu)技術(shù)；

9、光場的空域調(diào)控有幾個(gè)自由參數(shù)?答[D]

A1個(gè)；

B2個(gè)；

C3個(gè)；

D4個(gè)；

10、計(jì)算矢量光場的緊聚焦特性，需要用以下哪個(gè)理論?[D]

A瑞利-索墨菲矢量衍射理論；

B德拜理論；

C傅里葉光學(xué)；

D理查德-沃爾夫矢量衍射理論；

11、下列哪些光束緊聚焦后能產(chǎn)生很強(qiáng)的縱向場?[C]

A線偏振光；

B角向偏振光；

C在線偏振光束中加入π-相位板；

D高階柱狀矢量光場；10

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12、下列不屬于直接法探測縱向電場的是[C]

A刀口法測量“近場”;

B用掃描近場光學(xué)顯微鏡測量光強(qiáng)分布：

C單分子熒光成像：

D光刻膠記錄焦場分布；

13、緊聚焦的單脈沖角向偏振光燒蝕熔融石英，其燒蝕圖樣是[A]

A單環(huán)形；

B點(diǎn)：

C徑向刻跡；

D同心環(huán)；

14、下列不能獲得“針形”焦場的是[C]

A徑向偏振光過通過二元光學(xué)元件緊聚焦；

B聚焦偏振態(tài)分布為r3的徑向變化矢量光場；

C緊聚焦高階柱狀矢量光場；

D角向偏振光通過多環(huán)帶螺旋相位全息圖后緊聚焦：

15、緊聚焦下列哪種矢量光場可以獲得平頂焦場分布?[D]

A徑向偏振光；

B角向偏振光；

C高階柱狀矢量光場；

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D一般矢量光場(初相位角為某值)

16、下列可獲得三維光學(xué)圍欄的是[A]

A緊聚焦雙模矢量光場；

B緊聚焦徑向變化矢量光場；

C緊聚焦徑向偏振光；

D緊聚焦角向偏振光；

17、下列哪種聚焦的徑向變化矢量光場不能獲得縱向雙焦點(diǎn)[D

]A偏振態(tài)分布為r的徑向變化矢量光場：

B偏振態(tài)分布為r2的徑向變化矢量光場；

C偏振態(tài)分布為r'的徑向變化矢量光場；

D偏振態(tài)分布為r3的徑向變化矢量光場；

18、聚焦徑向偏振飛秒脈沖激光燒蝕熔融石英表面，在多脈沖燒蝕下，形成的裂紋圖樣是[

A]A同心環(huán)形裂紋：

B徑向分布的裂紋：

C單環(huán)形裂紋；

D一個(gè)燒蝕坑；

19、在激光鉆孔過程中，哪個(gè)因素對材料去除效率起的作用最小?[B

]A側(cè)壁的多次反射；

B激光波長；

C波導(dǎo)效應(yīng)；

D孔底對光輻射的吸收；11

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20、下列不是2018年度獲得諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)的科學(xué)家是[A

]AStevenChu;

BA.Ashkin;

CG.Mourou;

DD.Strickland;

21、在柱狀矢量光場捕獲碳納米管實(shí)驗(yàn)中，實(shí)驗(yàn)測得的不同偏振態(tài)下偏振不對稱性參數(shù)最大的是[C

1A徑向偏振光；

B角向偏振光；

C線偏振光；

D一般矢量光場；

22、在相同條件下，緊聚焦下列哪種光場獲得的焦斑尺寸最大?[A

]A線偏振光；

B圓偏振光；

C徑向偏振光；

D徑向偏振光的縱向場分量；

23、對單個(gè)亞波長尺寸的金納米凸點(diǎn)進(jìn)行二次諧波圖像測量，用哪兩種光束組合能推斷出納米結(jié)構(gòu)的形貌?

[C]

A線偏振光和徑向偏振光；

B線偏振光和角向偏振光；

C徑向偏振光和角向偏振光；正版高清；精品；加油努力正版高清；精品；加油努力

Dx-方向線偏振光和y-方向線偏振光；

24、下列哪種矢量光場與各向同性的非線性克爾介質(zhì)相互作用，能實(shí)現(xiàn)徑向變化的非線性偏振旋轉(zhuǎn)?

[C]

A徑向偏振光；

B角向偏振光；

C橢圓偏振矢量光場；

D徑向變化的局域線偏振矢量光場；

25、下列哪個(gè)選項(xiàng)不屬于矢量光場在非線性光學(xué)中的應(yīng)用?[D]

A非線性偏振旋轉(zhuǎn)：

B光場塌縮與成絲：

C光限幅器；

D緊聚焦徑向偏振光獲得超衍射極限焦斑；

1、光場的自由度包括：E

A振幅

B共有相位

C偏振橢球率

D偏振取向角

E以上全是

2、關(guān)于渦旋光場，以下說法錯(cuò)誤的是：C

A渦旋光場在強(qiáng)度上呈甜甜圈形的中空分布

12

B渦旋光場中心的黑斑尺寸取決于拓?fù)浜?/p>

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C不存在分?jǐn)?shù)階的渦旋光場

D光學(xué)角動量可分為軌道角動量和自旋角動量

3、關(guān)于徑向偏振光，以下說法錯(cuò)誤的是：B

A徑向偏振屬于圓柱矢量光場

B徑向偏振光可通過多模光纖的耦合產(chǎn)生

C徑向偏振光的中心黑斑由偏振奇點(diǎn)引起

D徑向偏振對應(yīng)于光纖的TM01模式

4、當(dāng)入射場的模式與天線的輻射模式一致時(shí)，天線的接收效率最高

5、有關(guān)光學(xué)天線的輻射模式，以下說法錯(cuò)誤的是：C

A牛眼天線的輻射模式為徑向偏振

B螺旋天線的輻射模式為圓偏振

C天線輻射模式與饋入點(diǎn)的位置無關(guān)

D螺旋天線輻射模式的手性取決于螺旋手性

6、在基于螺旋天線的自旋光子輻射實(shí)驗(yàn)中，采用徑向偏振光的原因?yàn)椋篈

A緊聚焦的徑向偏振有著很強(qiáng)的縱向場

B緊聚焦的徑向偏振有著很強(qiáng)的橫向場

C緊聚焦的徑向偏振與量子點(diǎn)相互作用，能夠產(chǎn)生橫向振動的電偶極子

D徑向偏振為軸對稱光束，能夠提升耦合效率

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7、對于螺距為SPP波長的阿基米德螺旋式光學(xué)天線，以下說法正確的是：A

A若螺旋為左手性，則會將右旋圓偏振光聚焦為實(shí)心的SPP焦場

B若螺旋為右手性，則會將右旋圓偏振光聚焦為實(shí)心的SPP焦場

C若螺旋為右手性，則會將左旋圓偏振光聚焦為空心的SPP焦場

DSPP焦場的拓?fù)浜蓴?shù)與螺旋結(jié)構(gòu)的幾何拓?fù)浜蓴?shù)相等

8、相較于電場縱向分量，近場掃描光學(xué)顯微鏡對于電場橫向分量的收集效率更高

9、當(dāng)采用阿基米德螺旋式光學(xué)天線作為圓偏振檢偏器時(shí)，探測器的尺寸與消光比成正比×

10、全息超表面的設(shè)計(jì)可以采用渦旋光場與高斯光場的干涉圖樣√

11、當(dāng)采用全息超表面探測光學(xué)軌道角動量時(shí)，以下說法錯(cuò)誤的是：C

A通過設(shè)計(jì)超表面的干涉圖樣，可將渦旋光場耦合為特定方向傳播的SPP

BSPP的傳播方向取決于光場拓?fù)浜膳c結(jié)構(gòu)拓?fù)浜芍?/p>

C系統(tǒng)的總角動量與SPP的偏轉(zhuǎn)角度成反比

D硅基探測器可用于SPP傳播方向的測定

12、當(dāng)圓偏振渦旋光場照射牛眼天線時(shí)，SPP的強(qiáng)度分布與光場的自旋角動量有關(guān)√

13、穩(wěn)定的光學(xué)俘獲需要梯度力大于散射力

14、顆粒在光場中的動力學(xué)行為與光場的偏振態(tài)無關(guān)×

15、金屬微納結(jié)構(gòu)能夠產(chǎn)生極強(qiáng)的局域場，從而增大光學(xué)俘獲效率√

16、圓二色信號指的是能夠手性材料對不同旋向圓偏振光的吸收差異√

17、由非手性微納體構(gòu)成的陣列結(jié)構(gòu)不存在圓二色性√

18、光場的超手性所要滿足的條件為：D

A增強(qiáng)的電場和磁場

13

B電場和磁場擁有平行分量

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C電場與磁場平行分量的相位差為90度

D以上全是

19、當(dāng)光從外部和內(nèi)部照射時(shí)，萊克格斯杯能夠呈現(xiàn)出不同的顏色，因?yàn)椴牧现械慕饘兕w粒發(fā)生了米氏共

振×

20、結(jié)構(gòu)色取決于器件的反射譜√

1、環(huán)形諧振腔支持?jǐn)y帶軌道角動量的回音壁模式√

2、介質(zhì)腔和金屬腔中的共振場增強(qiáng)的標(biāo)度律不同√

3、異常透射現(xiàn)象的產(chǎn)生與表面模式的貢獻(xiàn)無關(guān)×

4、SPP傳感的原理是SPP色散關(guān)系隨環(huán)境折射率的變化關(guān)系√

5、可采用干涉探測的方式增大光纖SPP傳感的靈敏度√

6、圓偏振光激發(fā)溝槽式螺旋天線時(shí)，SPP的耦合效率最高為50%√

7、對于腔場中的SERS來說，介質(zhì)腔的輻射阻尼大于吸收阻尼，且模式振幅正比于品質(zhì)因子×

8、在全邦加球光場的橫截面上能夠找到邦加球上的任意一種偏振態(tài)√

9、螺旋天線的螺距對于出射輻射場沒有影響×

10、當(dāng)金屬波導(dǎo)的橫截面積小于波長的平方時(shí)，橫向模式的約束性能夠突破衍射極限√

11、手性物質(zhì)對于不同手性的圓偏振光場的光學(xué)響應(yīng)相同×

12、緊聚焦的單脈沖徑向偏振光燒蝕熔融石英，其燒蝕圖樣是B

A單環(huán)形；B點(diǎn)；C徑向刻跡；D同心環(huán)；

13、關(guān)于0CT技術(shù)，下列說法不正確的是D正版高清；精品；加油努力正版高清；精品；加油努力

A利用樣品內(nèi)部的散射光實(shí)現(xiàn)干涉

B通過平移參考鏡提取深度信息

C無需染色、切片等步驟

D難以實(shí)現(xiàn)在體成像

14、關(guān)于光柵耦合，以下說法錯(cuò)誤的是：D

A光柵能夠?qū)崿F(xiàn)激發(fā)表面等離激元所需的相位匹配

B傳播在光柵表面的表面等離激元能夠耦合入輻射光場

C光柵可以調(diào)控表面等離激元的傳播方向

D條形光柵無法激發(fā)表面等離激元

15、下列選項(xiàng)中，不屬于白光干涉儀的特點(diǎn)的是D

A非接觸

B高速度

C抗干擾能力強(qiáng)

D能同時(shí)測量膜厚和折射率

16、對于圓形透鏡的德拜積分，可推導(dǎo)出圓形物鏡行射的經(jīng)典方程，下列哪種不屬于推導(dǎo)該方程用到的近

似?D

A)標(biāo)量近似；B)德拜近似：C)傍軸近似：D)小信號近似；

17、下列最有可能獲得縱向磁針的是D

A徑向偏振光透過二元光學(xué)元件后緊聚焦；

B通過反轉(zhuǎn)電偶極子陳列輻射獲得特定的入射光場，然后緊聚焦；

C角向偏振光通過多環(huán)帶螺旋相位全息圖后緊聚焦；14

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D角向偏振光經(jīng)過相位調(diào)制后緊聚焦；

18、借助于衍射光學(xué)元件，緊聚焦角向偏振光不能獲得如下焦場分布的是C

A無衍射橫向偏振光場；

B無衍射焦孔：

C縱向偏振光針；

D二維中空型焦環(huán)；

19、緊聚焦矢量光場計(jì)算中應(yīng)用最廣泛和最有效的計(jì)算工具是C

A惠更斯-菲涅耳原理；

B德拜理論：

C理查德-沃爾夫矢量衍射理論；

D快速傅里葉變換；

20、對于納米粒子是否進(jìn)入細(xì)胞內(nèi)部，用共聚焦熒光顯微鏡如何進(jìn)行判斷效果最佳?B

A對熒光標(biāo)記的納米粒子與細(xì)胞核進(jìn)行共定位

B通過軸向掃描，獲得細(xì)胞的光學(xué)切片

C對納米粒子進(jìn)行動態(tài)觀測

D采用熒光漂白恢復(fù)技術(shù)

21、以下哪些方式能改變結(jié)構(gòu)色D

A改變多層膜的各層厚度

B改變線光柵的周期

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C改變納米孔陣列的形狀

D以上全是

22、關(guān)于菲涅耳衍射，下列說法錯(cuò)誤的是B

A衍射條紋明顯；

B衍射圖樣不改變結(jié)構(gòu)，只改變尺寸大??；

C衍射圖樣的結(jié)構(gòu)隨著d的增加而改變(d是光屏到光闌之間的距離);

D觀察面上的相位變化不是線性的；

23、在虛擬探針的無孔近場掃描光學(xué)顯微術(shù)中，主要利用了徑向偏振貝塞爾光束的什么性質(zhì)?C

A焦斑尺寸小；

B貝塞爾光束的振幅分布；

C倏逝場；

D非均勻的偏振態(tài)分布；

24、下列不是利用表面等離子體波具有超短波長的特點(diǎn)，而開展的應(yīng)用的是D

A超分辨率成像：B光學(xué)微加工；C光刻；D光學(xué)捕獲：

25、共聚焦顯微鏡的橫向分辨率約為多少?D

A1.22λ/NA

B0.61λ/NA

C0.5λ/NA

D0.43λ/NA

15

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26、通常，近場掃描光學(xué)顯微術(shù)的空間分辨率是B

A幾個(gè)納米：

B50-100納米；

C500納米左右：

D幾個(gè)微米；

27、下列光束緊聚焦后能產(chǎn)生很強(qiáng)縱向場的是C

A線偏振光；B角向偏振光；C徑向偏振光；D圓偏振光；

28、當(dāng)金納米顆粒與入射光發(fā)生共振時(shí)，以下說法錯(cuò)誤的是：C

A金顆粒對光的散射與吸收都會增強(qiáng)

B金顆粒的散射效率高于吸收效率

C金顆粒的消光截面不會受環(huán)境媒介影響

D共振波長取決于顆粒的材料與形貌

29、采用中心區(qū)域鍍有氟化鎂薄膜的0/pi相位板對光束進(jìn)行調(diào)制，可以獲得怎樣的光斑?D

A橫向一維超分辨光斑

B橫向二維環(huán)形空心光斑

C三維空心光斑

D軸向中空光斑

30、下列不屬于線性光學(xué)顯微成像技術(shù)的是D

A掃描探針顯微鏡；B掃描電子顯微鏡：C原子力顯微鏡：正版高清；精品；加油努力D共焦多光子顯微鏡：正版高清；精品；加油努力

31、在相同條件下，緊聚焦下列哪種光場獲得的焦斑尺寸最小?D

A線偏振光；B圓偏振光；C徑向偏振光；D徑向偏振光的縱向場分量；

32、偏振度P=1對應(yīng)于A

A完全偏振光；B部分偏振光；C非偏振光；D自然光：

33、相比于金屬微納結(jié)構(gòu)，硅材料用于圓二色信號增強(qiáng)的優(yōu)勢在于：A

A背景噪聲較低

B熱損耗較高

C可實(shí)現(xiàn)器件的重構(gòu)

D有著較強(qiáng)的電共振

34、下列哪種非線性光學(xué)效應(yīng)不能用于光限幅?B

A雙光子吸收：B飽和吸收：C反飽和吸收：D非線性散射：

35、關(guān)于消光式橢偏儀，下列哪個(gè)選項(xiàng)的說法是錯(cuò)誤的?D

A消光式橢偏儀是最早出現(xiàn)的橢偏儀

B消光式橢偏儀的精度較高

C消光式偏儀的測量速度較慢

D消光式橢偏儀目前在工業(yè)上得到廣泛應(yīng)用

36、STED光束的波長通常選擇在,原因是為了B

A發(fā)射光譜峰值波長處，降低重激發(fā)幾率

B發(fā)射光譜長波拖尾處，降低重激發(fā)幾率

C發(fā)射光譜峰值波長處，降低光漂白16

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D發(fā)射光譜長波拖尾處，降低光漂白

37、固體浸沒透鏡安裝在實(shí)時(shí)掃描光學(xué)顯微鏡中的固體浸沒顯微鏡，下列不是該系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)的是C

A改善了橫向和在軸分辨率；

B可以實(shí)時(shí)觀察像；

C可以獲得薄膜厚度和折射率變化的高質(zhì)量圖像；

D可獲得三維圖像；

38、高數(shù)值孔徑物鏡的退偏效應(yīng)，與焦點(diǎn)0處的方位角v有關(guān)。只有當(dāng)y等于多少時(shí)，沒有退偏效應(yīng)?C

A0;

Bx/4;

Cπ/2;

D3π/4;

39、下列屬于矢量光場被動生成技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)的是D

A生成效率高；B缺乏靈活性；C生成效率低；D靈活性高；

40、下列屬于近場掃描光學(xué)顯微術(shù)的應(yīng)用的是A

A納米材料的形貌測量：

B納米材料的晶體結(jié)構(gòu)測量：

C納米材料的線性吸收譜的測量；

D薄膜厚度的測量；

41、下列屬于矢量光場主動生成技術(shù)的缺點(diǎn)的是B

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A生成效率高；B缺乏靈活性；C生成效率低；D靈活性高：

42、在光學(xué)微加工實(shí)驗(yàn)中，研究發(fā)現(xiàn)納米裂紋與局域線偏振電場的方向是B

A平行：B垂直；C既不平行也不垂直，而是成一定角度：D沒有關(guān)系；

43、在光學(xué)捕獲金納米粒子實(shí)驗(yàn)中，在相同功率時(shí)實(shí)驗(yàn)測量的哪種偏振光下的捕獲剛度最大?A

A徑向偏振光；B角向偏振光；C線偏振光；D一般矢量光場；

44、下列哪種理論不屬于高數(shù)值孔徑聚焦下的理論?B

A德拜成像理論：B夫瑯禾費(fèi)衍射理論：C矢量德拜理論：D理查德-沃爾夫矢量行射理論：

45、下列不屬于增大物鏡數(shù)值孔徑的途徑的是D

A增大物鏡的最大會聚角：B增大透鏡浸沒介質(zhì)的折射率；C增大物鏡的折射率；D增大入射光束的尺寸；

46、受衍射效應(yīng)的限制，傳統(tǒng)光學(xué)顯微術(shù)的橫向分辨率近似為

BAX/4;Bλ/2;C3λ/4;Dλ;

47、下列矢量光場具有偏振奇線的是B

A徑向偏振光：B非整數(shù)階矢量光場；C矢量渦旋光場：D角向偏振光；

48、下列選項(xiàng)中，不屬于橢偏儀的組成部分的是

BA光源

B干涉物

鏡C偏振

器件D探

測器

49、關(guān)于熒光成像，以下說法錯(cuò)誤的是：C

A熒光的強(qiáng)度正比于局域場的強(qiáng)度

17

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B可以利用熒光對表面等離激元的傳播進(jìn)行成

像C熒光分子的密度過小時(shí)會引發(fā)淬滅

D當(dāng)表面等離激元的頻率處于輻射體的吸收帶之內(nèi)，會激發(fā)熒光

50、若想要縮短表面等離激元的波長，可以采取的方法有：

AA使用MIM結(jié)構(gòu)

B使用波長更長的激發(fā)光

場C減小介質(zhì)的折射率

D改變激發(fā)光場的偏振態(tài)

1、在單個(gè)器件中集成多個(gè)不同尺寸的微納結(jié)構(gòu)可增大結(jié)構(gòu)色的色域√

2、定向輻射現(xiàn)場的產(chǎn)生依賴于亞波長結(jié)構(gòu)局域模式和散射場之間的耦合和干涉√

3、螺旋天線輻射場的偏轉(zhuǎn)角與饋入點(diǎn)的中心偏移量成正比√

4、光攝技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)不同手性顆粒的空間分離√

5、等腰三角形螺旋天線能夠?qū)较蚱耨詈先隨PP×

6、相變材料可以實(shí)現(xiàn)光子器件的可重構(gòu)性√

7、提升非對稱因子的關(guān)鍵在于增強(qiáng)電場×

8、下列選項(xiàng)中，不屬于白光干涉儀的必要組成部分的是

CA白光光源

B干涉顯微

鏡C調(diào)制器正版高清；精品；加油努力正版高清；精品；加油努力

D探測器

9、有關(guān)泄露輻射，以下說法錯(cuò)誤的是：A

A表面等離激元的能量輻射至低折射率的襯底區(qū)域

B棱鏡激發(fā)時(shí)，泄露輻射會隨著反射光回到棱鏡界面

C當(dāng)吸收損耗等于輻射損耗時(shí)，所有的能量會被金屬膜吸收

D除了吸收損耗之外，泄露輻射提供了第二個(gè)損耗通道

10、下列哪種光束緊聚焦后一定沒有縱向電場分量?D

A渦旋光束：

B線偏振光：

C徑向偏振光；

D角向偏振光；

11、下列哪種方法不是增強(qiáng)光限幅效應(yīng)的有效途徑?D

A設(shè)計(jì)性能優(yōu)良的光限幅材料；

B開發(fā)雙光子吸收、反飽和吸收和非線性散射等光限幅機(jī)制；

C調(diào)控光場偏振態(tài)來增強(qiáng)光限幅：

D將脈沖激光換成連續(xù)激光；

12、本課程的內(nèi)容包括兩個(gè)部分，下列不屬于第二部分現(xiàn)代光子學(xué)的是A

A傅里葉光學(xué)；

B等離子體激元學(xué)；

C空間變化的偏振態(tài)：

18

D亞波長金屬結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)與應(yīng)用：

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13、用波長為500nm波長的光激發(fā)表面等離子體波，最有可能的表面等離子體的波長是D

A1000nm;

B500nm;

C250nm;

D50nm;

14、在其他條件相同的情況下，分別采用如下矢量光場沖擊鉆孔，用多脈沖在鋼材上形成盲孔，請問用哪

種矢量光場時(shí)鉆的孔既窄又深?B

A徑向偏振光；

B角向偏振光；

C一般矢量光場；

D高階矢量光場：

15、如果要利用近場掃描光學(xué)顯微術(shù)(NSOM)開展等離子體研究，傾向于采用D

A照明模式下的有孔探測NSOM;

B收集模式下的有孔探測NSOM;

C照明和收集模式同時(shí)的有孔探測NSOM;

D采集配置下的無孔探測NSOM;

16、以下哪種技術(shù)可用于粒子等離子體的觀測D

A遠(yuǎn)場消光顯微術(shù)

B遠(yuǎn)場暗場光學(xué)顯微術(shù)

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C近場光學(xué)消光顯微術(shù)

D以上均可

17、下列哪種聚焦的徑向變化矢量光場可獲得針形焦場D

A偏振態(tài)分布為r的徑向變化矢量光場；

B偏振態(tài)分布為r的徑向變化矢量光場；

C偏振態(tài)分布為r'的徑向變化矢量光場；

D偏振態(tài)分布為r3的徑向變化矢量光場；

18、當(dāng)采用緊聚焦的光場激發(fā)表面等離激元時(shí)，以下說法錯(cuò)誤的是：C

A通常采用離軸激發(fā)的方式避免直接透射和反射

B能夠在衍射極限尺度內(nèi)激發(fā)表面等離激元

Cs偏振和p偏振的光場在該裝置下均可激發(fā)表面等離激元

D泄露輻射可用于檢測表面等離激元的傳播長度

19、STED技術(shù)可以應(yīng)用于D

A細(xì)胞生物學(xué)領(lǐng)域

B微生物學(xué)領(lǐng)域

C光刻、光存儲等領(lǐng)域

D以上皆是

20、通過對光束的振幅和相位調(diào)控，可以獲得任意三維彎曲光場。下列不屬于使用該技術(shù)獲得的光場是D

A傾斜環(huán)；

B阿基米德螺旋線；

19

C三葉打結(jié)曲線；

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D矢量瓶狀場；

21、如果瞳函數(shù)和切趾函數(shù)滿足關(guān)系P(0)=P(r)Vcosθ,則該物鏡滿足的設(shè)計(jì)條件是A

A正弦條件；B赫歇爾條件；C均勻投影條件；D亥姆霍茲條件；

22、用緊聚焦的徑向偏振光做二次諧波實(shí)驗(yàn)，理論上其二次諧波光強(qiáng)圖樣為A

A8字型中心暗點(diǎn)；

B8字型中心亮點(diǎn)：

C圓形中心亮點(diǎn)：

D圓形中心暗點(diǎn)；

23、關(guān)于近場激發(fā)，以下說法錯(cuò)誤的是：D

A利用近場探針能夠在遠(yuǎn)小于激發(fā)波長的尺度下實(shí)現(xiàn)表面等離激元的局域激發(fā)

B由于探針尖端的散射效應(yīng)，尖端發(fā)出的光波矢的分量會大于表面等離激元的傳播常數(shù)

C改變探針位置時(shí)，SPP的激發(fā)位置會發(fā)生改變

D該激發(fā)方式只能夠采用開孔型探針

24、用單品硅制作的微透鏡與傳統(tǒng)透鏡相比，下列說法不正確的是C

A)微透鏡的優(yōu)點(diǎn)是它足夠薄，可以傳輸硅處于吸收波長的光；

B)微透鏡的球面像差比直徑較大的透鏡要??；

C)用硅制作的微米尺寸的固體浸沒透鏡，用于掃描近場光學(xué)顯微鏡，對微透鏡的形狀有嚴(yán)格要求；

D)利用硅固體浸沒透鏡的掃描近場光學(xué)顯微鏡，用波長633納米的光照明，可以獲得分辨200nm寬的線

，實(shí)現(xiàn)了在空氣中突破衍射極限的空間分辨率；

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25、在光場的斯托克斯參量表述中，斯托克斯參數(shù)為(1,0,1,0)對應(yīng)于

BA水平線偏振光：

B45度線偏振光；

C左旋圓偏振光；

D右旋圓偏振光；

26、在低數(shù)值孔徑物鏡聚焦下，瞳函數(shù)P(r)和切趾函數(shù)P(0)的關(guān)系是

CA不相等；B因物鏡不同的設(shè)計(jì)條件而不同；C相等；D無法確定：

27、下列屬于矢量光場主動生成技術(shù)的是A

A光子晶體輸出耦合器；B偏振轉(zhuǎn)換器；C腔外干涉法；D基于4F系統(tǒng)和波前重構(gòu)技術(shù)；

28、與共聚焦熒光顯微技術(shù)相比，共聚焦拉曼顯微技術(shù)具有的獨(dú)特優(yōu)勢是：

CA能夠?qū)崿F(xiàn)多色成像

B能夠進(jìn)行定量分析

C無需進(jìn)行熒光標(biāo)記

D能夠?qū)崿F(xiàn)三維重建

29、下列屬于矢量光場被動生成技術(shù)的是

DA雙折射選模；

B二向色性選模；

C腔內(nèi)干涉法

：D腔外干涉

法

30、按照阿貝成像原理表示的顯微鏡成像過程，這個(gè)成像過程經(jīng)過了兩次衍射，第一次是物平面的衍

20

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射，第二次則是焦平面的衍射，這兩次衍射的過程也就是兩次傅里葉變換的過程。

BA夫瑯禾費(fèi)，夫瑯禾費(fèi)；

B夫瑯禾費(fèi)，菲涅耳；

C菲涅耳，夫瑯禾費(fèi)；

D菲涅耳，菲涅耳：

31、關(guān)于單個(gè)透鏡焦平面上的光強(qiáng)分布，下列說法錯(cuò)誤的是

BA光強(qiáng)分布稱為艾里圖樣；

B中心光斑大小與數(shù)值孔徑成正比，與入射光的波長成反比；

C中心光斑越小，圖像分辨率越高；

D大約80%的入射能量被限制在中心亮點(diǎn)上；

32、關(guān)于共聚焦顯微技術(shù)與拉曼散射技術(shù)的聯(lián)用，哪個(gè)選項(xiàng)的說法是錯(cuò)誤的?D

A可以對標(biāo)記分子的拉曼信號進(jìn)行成像

B可以對樣品的本征拉曼信號進(jìn)行成像

C可以利用不同的特征峰對不同的物質(zhì)進(jìn)行成像

D不同的特征峰反映出分子不同的電子能級信息

33、關(guān)于穆勒矩陣橢偏儀，下列哪個(gè)選項(xiàng)是錯(cuò)誤的?D

A穆勒矩陣橢偏儀可以采用雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器實(shí)現(xiàn)

B穆勒矩陣橢偏儀能夠測量各向異性樣品

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C穆勒矩陣橢偏儀能夠測量退偏效應(yīng)

D穆勒矩陣橢偏儀能夠?qū)悠繁砻孢M(jìn)行成像

34、徑向偏振光聚焦比空間均勻偏振光有更小的焦斑，是因?yàn)椋篋

A有徑向電場分量；

B使用了高數(shù)值孔徑物鏡聚焦：

C沒有角向電場分量：

D產(chǎn)生了強(qiáng)的局域的縱向電場分量

35、下列不屬于近場掃描光學(xué)顯微術(shù)的應(yīng)用的是D

A形貌測量；B波導(dǎo)模式的直接成像；C波導(dǎo)中折射率變化的測量；D薄膜厚度的測量；

36、在消光式橢偏儀中，如果起偏器方位角P是90°,補(bǔ)償器方位角C為45°,樣品的橢偏參量為(45°,

-90°),那么發(fā)生消光時(shí)，檢偏器方位角A=B

A-90°

B-45°

C45°

D90°

37、在相同條件下，緊聚焦下列哪種光場獲得的焦斑尺寸最小?B

A線偏振光：B利用超振蕩聚焦徑向偏振光：C徑向偏振光：D環(huán)形徑向偏振光；

38、關(guān)于端面耦合，以下說法錯(cuò)誤的是：B

A端面耦合技術(shù)不依賴于相位匹配

B端面耦合方式不會產(chǎn)生純束縛模式

C端面耦合技術(shù)依賴于光場的空間分布匹配21