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文檔簡(jiǎn)介

初級(jí)口腔技士專業(yè)知識(shí)模擬試卷5

一、A1/A2型題(本題共57題,每題7.0分,共57

分。)

1、全口義齒人工牙折斷修理的方法是

A、只磨除折斷的人工牙

B、磨除折斷的人工牙和唇頰側(cè)基托

C、磨除折斷的人工牙和唇頰舌側(cè)基托

D、磨除折斷的人工牙和舌側(cè)基托

E、保留原來的舌側(cè)基托

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

2、制作修復(fù)體時(shí),石膏模型最好在石膏凝固多少小時(shí)后應(yīng)用

A、1

B、6

C、24

D、12

E、48

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

3、采用自凝塑料(室溫固化型塑料)修補(bǔ)斷裂的基托,在調(diào)拌充填時(shí),下面哪一項(xiàng)

操作是錯(cuò)誤的

A、按一定的粉液比調(diào)拌

B、調(diào)拌后立即加蓋密封

C、自凝塑料在面團(tuán)狀后期涂塑

D、涂塑自凝塑料時(shí),預(yù)先將缺隙處和粗糙的基托表面溶脹

E、涂塑后塑料不能在溫度較高的水中聚合

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

4、基牙的觀測(cè)線是指

A、牙冠解剖外形最突點(diǎn)的連線,不隨觀測(cè)方向改變而改變

B、牙冠解剖外形最突點(diǎn)的連線,隨觀測(cè)方向改變而改交

C、牙冠軸面最突點(diǎn)的連線,不隨觀測(cè)方向改變而改變

D、牙冠軸面最突點(diǎn)的連線,隨觀測(cè)方向改變而改變

E、組織表面最突點(diǎn)畫出的連線,不隨觀測(cè)方向改變而改變

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

5、去蠟之前通常將型盒在熱冰中浸泡,浸泡時(shí)間是

A、5~10min

10?15min

C、15~20min

D、25?30min

E、35?40min

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

6、裝盒過程中,孤立基牙離開型盒壁的距離應(yīng)在

A、0.5cm以上

1cm以上

C、1.5cm以上

D、2cm以上

E、2.5cm以上

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

7、型盒熱處理后出盒的最適宜溫度為

A、30℃以下

B、40國以下

C、5(TC以下

D、60℃以下

E、70汽以下

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

8、充填過程中引起咬合增高的原因是

A、充填過早

B、充填量過多

C、充填量過少

D、單體量過多

E、熱處理過快

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

9、金屬全冠的邊緣要求中錯(cuò)誤的是

A、無懸突

B、長短合適

C、與基牙密合

D、冠邊緣整齊

E、頸緣與基牙要留有粘固料所需的空隙

標(biāo)準(zhǔn)答案.F

知識(shí)點(diǎn)解析:哲無解析

10、患者,男,缺失,可摘局部義齒修復(fù),基牙,采用彎制卡環(huán),塑料基托連接,

基牙,為二類導(dǎo)線,應(yīng)采用下列哪類卡環(huán)

A、單臂卡環(huán)

B、下返卡環(huán)

C、長臂卡環(huán)

D、上返卡環(huán)

E、正型卡環(huán)

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

11、臨床上將自凝塑料稱為

A、高溫化學(xué)固化的塑料

B、室溫化學(xué)固化的塑料

C、高溫物理固化的塑料

D、室溫物理固化的塑料

E、超低溫化學(xué)固化的塑料

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

12、錘造冠的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)與哪項(xiàng)無關(guān)

A、冠的齦邊緣與基牙密合,長短合適

B、正確恢復(fù)牙冠外形和鄰接關(guān)系

C、正確恢復(fù)關(guān)系

D、無皺褶,裂紋

E^冠厚度應(yīng)不少于0.5mm

標(biāo)準(zhǔn)答享.F

知識(shí)點(diǎn)露斤:暫無解析

13、具有二型觀測(cè)線的基牙

A、近缺隙側(cè)倒凹區(qū)小,遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)大

B、近缺隙側(cè)倒凹區(qū)小,遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)也小

C、近缺隙側(cè)倒凹區(qū)大,遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)小

D、近缺隙側(cè)倒凹區(qū)大,遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)也大

E、近缺隙側(cè)與遠(yuǎn)離缺隙側(cè)均無倒凹區(qū)

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

D、68?72久時(shí)

E、73?76℃時(shí)

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

19、塑料基托內(nèi)出現(xiàn)氣泡容易導(dǎo)致

A、義齒翹動(dòng)

B、表面不光潔

C、塑料強(qiáng)度降低

D、咬合升高

E、局部壓痛

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

20、造成塑膠充填中支架移位的原因哪一項(xiàng)除外

A、包埋支架的石膏強(qiáng)度不夠

B、支架未包牢或包埋有倒凹

C、填塞時(shí)塑料過硬

D、充填塑料不足

E、支架本身焊接不牢

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

21、可摘局部義齒后牙排列時(shí),下列哪項(xiàng)不是引起咬合增高的因素

A、關(guān)系未對(duì)好

B、在排牙過程中損壞了石膏模型

C、支托卡環(huán)體部過高或模型面有石膏瘤

D、關(guān)系不恒定

E、支架移位引起咬合增高

標(biāo)準(zhǔn)答享.F

知識(shí)點(diǎn)露斤:暫無解析

22、在調(diào)拌模型材料過程中調(diào)拌時(shí)間過長或中途加水再調(diào)拌產(chǎn)生的主要不良后果是

A、容易產(chǎn)生氣泡

B、使模型表面粗糙

C、降低抗壓強(qiáng)度

D、造成脫模困難

E、容易產(chǎn)生裂紋

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

23、目前國內(nèi)制作PFM冠橋金屬基底常用合金是

A、鉆鋁合金

B、鍥鋁合金

C、金伯合金

D、銀鈿合金

E、銅基合金

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

24、金屬基底在噴砂處理時(shí),所用的氣壓一般是

A、lxlO5-2xlO5Pa

B、2xl05—4xlO5Pa

C>4xlO5-6xlO5Pa

D、6xlO5-8xlO5Pa

E、8?105Pa以上

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

25、目前CAD/CAM修復(fù)技術(shù)不包含的技術(shù)是

A、光電技術(shù)

B、精密測(cè)量技術(shù)

C、微機(jī)數(shù)字信息和圖形信息生成處理技術(shù)

D、數(shù)控機(jī)械加工技術(shù)

E、真空鑄造技術(shù)

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

26、Vita瓷粉經(jīng)過7次烘烤后,其熱膨脹系數(shù)

A、不變

B、增加0.7x10-6/oC

C、增加O.lxlO-6/Q

D、減小0.7xl0-6/℃

E、減小0.1xl0-6/℃

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

27、PFM冠橋的金-在結(jié)合力最主要的是

A、化學(xué)結(jié)合力

B、機(jī)械結(jié)合力

C、壓縮結(jié)合力

D、范德華力

E、分子間作用力

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

28、焊接時(shí)應(yīng)使用哪種火焰

A、外層深藍(lán)色氧化物

B、內(nèi)層無色火焰

C、中層淡藍(lán)色還原焰

D、內(nèi)層淡藍(lán)色還原焰

E、外層淡藍(lán)色還原焰

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

29、基牙無倒凹時(shí),箭頭卡的箭頭應(yīng)卡在

A、兩鄰牙楔狀隙內(nèi)

B、基牙軸面角

C、鄰牙軸面角

D、基牙牙冠頰面

E、鄰牙牙冠頰面

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:西無解析

30、FR-W矯治器適用于

A、安氏I類

B、安氏II類

C、安氏HI類

D、開

E、深覆

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

31、女,28歲,牙體缺損行金屬烤瓷冠修復(fù)。為了使熔融后的烤瓷材料能與金屬

形成良好的結(jié)合,烤瓷材料與金屬結(jié)合面必須保持

A、好的干燥狀態(tài)

B、略微的干燥狀態(tài)

C、完全的干燥狀態(tài)

D、良好的潤濕狀態(tài)

E、略微的潤濕狀態(tài)

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

32、某技術(shù)員在堆筑瓷粉后,使其凝集過程中,由于振動(dòng)強(qiáng)度過大,會(huì)導(dǎo)致

A、瓷粉在加熱過程中收縮過大

B、金瓷冠在燒結(jié)完成后形態(tài)不佳

C、金瓷冠燒結(jié)后出現(xiàn)了裂紋

D、破壞了瓷粉層次燒結(jié)后色澤不清

E、金瓷冠燒結(jié)后出現(xiàn)氣泡

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

33、某技術(shù)員在進(jìn)行金-瓷修友體基底冠表面粗化及預(yù)氧化處理后,不慎用手觸摸

了金屬表面,使表面污染,最易導(dǎo)致金?瓷修復(fù)體

A、出現(xiàn)瓷氣泡

B>瓷結(jié)合不良

C、不透明瓷層出現(xiàn)裂紋

D、瓷表面裂紋

E、金屬氧化膜過厚

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

34、在磨光金屬基底冠的過程中,如不慎使冠邊緣過薄,技術(shù)員用普通瓷粉堆筑,

燒烤后金瓷冠最易出現(xiàn)的問題是

A,邊緣短

B、無法就位

C、出現(xiàn)氣泡

D、初戴時(shí)崩瓷

E、色澤不佳

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

35、在制作可卸代型過程中,在馬蹄形模型底面需涂一薄層凡士林,其作用是

A、潤滑作用

B、分離作用

C、強(qiáng)化石膏作用

D、緩凝作用

E、防水作用

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

36、調(diào)拌模型材料時(shí),操作不當(dāng)?shù)氖?/p>

A、掌握好水粉比例

B、用調(diào)刀均勻攪拌

C、調(diào)拌時(shí)碗內(nèi)放人適當(dāng)?shù)姆?,再加入適量的水

D、調(diào)拌中途,不得加入水或粉

E、均勻攪拌后,放在震蕩器上排出氣泡

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

37、某男,65歲,上下牙列缺失進(jìn)行義齒修復(fù),其牙槽峭兩側(cè)吸收不一致,形狀

不規(guī)則,最好選用下列哪種托盤

A、成品無牙頜托盤

B、有孔托盤

C、任選一種托盤

D、個(gè)別托盤

E、局部托盤

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

38、某醫(yī)生取印模后,經(jīng)技師灌注,翻底座,凝固后脫模,發(fā)現(xiàn)模型變形,下列不

可能造成此種現(xiàn)象的一項(xiàng)是

A、臨床取印模時(shí)移位

B、取模時(shí)脫模

C、取印模后沒有及時(shí)灌注

D、模型材料強(qiáng)度不夠

E,加注模型底座時(shí),用力過大

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

39、某患者缺失設(shè)計(jì)鑄造支架修復(fù),印模放置3h后進(jìn)行灌注,該模型最可能出現(xiàn)

的問題是

A、不清晰

B、有氣泡

C、基牙折斷

D、模型變形

E、不堅(jiān)固

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

40、包埋時(shí),粉液比例不當(dāng),液體的使用量過多,對(duì)鑄件造成的后果

A、鑄件變大

B、鑄件變小

C、鑄件更光滑

D、鑄件表面粗糙

E、鑄件變厚

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

41、由于合金熔解過度,可能會(huì)給鑄件造成的影響是

A、鑄件不全

B、鑄件氣泡

C、鑄件菲邊

D、鑄件斷裂

E、鑄件表面氧化層過厚

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

42、某技工在鑄造鉆銘支架時(shí),合金剛?cè)劢饩惋w濺,可能是

A、合金熔解過度

B、中熔合金的用埸熔解高熔合金

C、合金中有雜質(zhì)

D、合金熔解方式不正確

E、高熔合金的用堪熔解中熔合金

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

43、女,62歲,缺失,行活動(dòng)義齒整鑄支架修復(fù)。支架蠟型完成后,采用何種包

埋材料包理

A、石英

B、石膏

C、硅酸乙酯

D、剛玉

E、過硼酸三鈉

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

44、藻酸鈉彈性印模材料中常用的緩凝劑是

A、磷酸三鈉

B、硫酸鈉

C、藻酸鈉

D、硫酸鈣

E、碳酸鈉

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

45、取印模的要求有以下幾項(xiàng),除了

A、使組織受壓均勻

B、印模材料量要多

C、邊緣要圓鈍,有一定厚度

D、盡可能擴(kuò)大印膜面積

E、采取功能性印模

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

46、彈性印模材料脫模方向應(yīng)為

A、沿著牙體長軸

B、往后用力

C、任意角度

D、與地面垂直

E、往前用力

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

47、下列屬于可逆性印模材料的是

A、藻酸鹽

B、瓊脂

C、氧化鋅

D、合成橡膠

E、纖維素酸

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

48、主要用于制作蠟基壬,蠟堤,及人工牙蠟型的蠟是

A、嵌體蠟

B、鑄道蠟

C、基托蠟

D、粘蠟

E、印模蠟

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解暫無解析

49、印模的檢查,除了

A、是否清晰、光滑

B、有無唾液、血液、食物殘?jiān)?/p>

C、有無其他附件

D、是否完整

E、材料有無特殊香味

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

50、調(diào)和模型材料過程中,正確的是

A、嚴(yán)格按照規(guī)定的水粉比例調(diào)和

B、應(yīng)該先放入石膏粉,再加入足量的水

C、調(diào)和越稀越好,以免灌注模型時(shí)出現(xiàn)氣泡

D、調(diào)和越快越好,以提供充足的操作時(shí)間

E、調(diào)和時(shí)用力得當(dāng)

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

51、水平型食物嵌塞的原因是

A、充填物懸突

B、相鄰牙邊緣崎不平

C、牙齦退縮

D、相鄰牙觸點(diǎn)喪失

E、對(duì)頜有充填式牙尖

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

52、保健牙刷的特點(diǎn)是,除了

A、刷頭較小

B、毛束間距適當(dāng)

C,刷毛軟且頂端圓鈍

D、刷毛長度適當(dāng)

E、刷毛毛束排列成V形

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

53、清創(chuàng)術(shù)中沖洗創(chuàng)口最常用的沖洗液是

A、50%葡萄糖和生理鹽水

B、2.5%次氯酸納和生理鹽水

C、1.5%?3%的過氧化氫和2.5%次氯酸鈉

D、10%葡萄糖和生理鹽水

E、1.5%?3%的過氧化氫和生理鹽水

標(biāo)準(zhǔn)答案.E

知識(shí)點(diǎn)解析?:暫無解析

54、用于冠周沖洗的過氧化氫溶液濃度是

A、1%

B、3%

C、5%

D、2%

E、4%

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

55、選擇上頜托盤的要求,哪項(xiàng)不正確

A、邊緣應(yīng)與唇頰溝等高

B、寬度應(yīng)比上頜牙槽崎寬2?3mm

C、后緣應(yīng)超過顫動(dòng)線3?4mm

D、唇頰系帶處應(yīng)有相應(yīng)的切跡

E、長度應(yīng)蓋過翼上頜切跡

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

56、下面有關(guān)石膏性能的描述,錯(cuò)誤的是

A、粉多水少,石膏凝固快

B、加速劑越多,凝固速度越快

C、調(diào)拌時(shí)間越快,凝固速度越快

D、水溫越高,凝固速度越快

E、調(diào)拌時(shí)間越長,凝固速度越快

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

57,某技術(shù)員小劉在堆及完成后,修整形態(tài)時(shí),由于金瓷冠在工作模型上未完全就

位,就進(jìn)行了調(diào)胎,導(dǎo)致金瓷冠

AN高胎

B、崩瓷

C、低胎

D、口內(nèi)無法就位

E、咬合正常

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

二、A3/A4型題(本題共28題,每題7.0分,共28

分。)

臨床上使用的基托材料主要為熱凝和自凝基托材料兩類,其在組成、性能及應(yīng)用上

都不相同

58、白凝基托樹脂與熱凝基托樹脂組成上的主要區(qū)別是

A、牙托粉中是否含有機(jī)叔胺

B、牙托水中是否含阻聚劑

C、牙托粉中是否含共聚粉

D、牙托水中是否含有機(jī)叔胺

E、牙托水中是否含膠聯(lián)劑

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

59、白凝塑料在臨床使用進(jìn)行塑形的時(shí)期一般是在

A、濕砂期

B、粘絲期

C、橡膠期

D、糊狀期

E、面團(tuán)期

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

如未按常規(guī)程序進(jìn)行塑料熱處理操作,結(jié)果義齒基托會(huì)出現(xiàn),、花基板'',且發(fā)生變

形,密合度差

60、下列哪項(xiàng)因素不是產(chǎn)生“花基板”的原因

A、升溫過快,或過高

B、粉液比過多或過少

C、壓力不足

D、填充塑料過遲或過早

E、熱處理時(shí)間過長

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知火點(diǎn)解析:暫無解析

61、常規(guī)熱處理方法是

A、100。(:恒溫2卜

B、70久恒溫24h

C、60℃恒溫12h

D、120。(:恒溫20min

E、70久恒溫1.5h,100。。恒溫lh

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

62、分析基托發(fā)生變形的原因可能是

A、壓力太小

B、填膠過早

C、冷卻過快,開盒過早

D、升溫過慢

E、升溫過低

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

63、熱凝塑料經(jīng)水浴熱處理,其結(jié)果是

A、PMMA發(fā)生聚合

B、平均分子量比牙托粉高

C、MMA發(fā)生聚合

D、其不含殘留單體

E、MMA單體完全揮發(fā)

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

在灌注模型時(shí),先加水與硬質(zhì)石膏調(diào)和,灌注印模的組織面;稍后調(diào)和熟石膏灌注

其他部分。發(fā)現(xiàn)熟石膏結(jié)固太慢,以后調(diào)和熟石膏時(shí)在水中加入了少量白色晶體

64、熟石膏的理論混水率為0.186,通常在實(shí)際使用人造石時(shí)的混水率為

A、0.186

B、0.3

C、0.22

D、0.6

E、0.5

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

65、采用分段灌注模型是為了

A、模型美觀

B、提高模型強(qiáng)度和降低材料成本

C、防止產(chǎn)生體積膨脹

D、提高灌注模型的精確度

E、防止產(chǎn)生氣泡

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

66、所使用熟石膏的特征表現(xiàn)在

A、其晶體構(gòu)型為a型

B、其結(jié)固反應(yīng)為放熱反應(yīng)

C、其生石膏含量多,結(jié)固減慢

D、其結(jié)固反應(yīng)為吸熱反應(yīng)

E、其調(diào)和速度愈快,結(jié)固愈慢

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

67、為加快熟石膏結(jié)固時(shí)間,在調(diào)和時(shí)加入的白色晶體是

A、硼砂

B、氯化鈉

C、醋酸鈉

D、枸椽酸鈉

E、硼酸鈉

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

患者,女,91巴缺失,可福局部義齒修復(fù),_7“58為基牙,■近中、頰向頤斜,該牙設(shè)置環(huán)形卡環(huán)

68、彎制環(huán)形卡環(huán)時(shí),常用的鋼絲是

A、22號(hào)鋼絲

B、19或20號(hào)鋼絲

C、17號(hào)鋼絲

D、21號(hào)鋼絲

E、18號(hào)鋼絲

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

O

69、--環(huán)形卡環(huán)的臂端位于

A、基牙腭側(cè)遠(yuǎn)中倒凹區(qū)

B、基牙腭側(cè)近中倒凹區(qū)

C、基牙頰側(cè)近中倒凹區(qū)

D、基牙選中鄰面

E、基牙頰側(cè)遠(yuǎn)中倒凹區(qū)

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫尢解析

70、環(huán)形卡環(huán)臂的遠(yuǎn)中鄰面部分應(yīng)置于基牙何部位

A、位于基牙遠(yuǎn)中牙頸部

B、與遠(yuǎn)中宿邊緣崎平齊

C、與遠(yuǎn)中鄰面齦緣平齊

D、低于遠(yuǎn)中哈邊緣靖

E、高于遠(yuǎn)中給邊緣崎

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

71、環(huán)形卡環(huán)臂置于倒凹的深度是

A、沿基牙導(dǎo)線彎制

B、置于基牙導(dǎo)線下方1?2mm

C、沿基牙頸部齦緣彎制

D、置于基牙導(dǎo)線的上方

E、置于基牙導(dǎo)線下方較深的部位

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

患者,男,55歲,6"」"67缺失,可摘局部義齒修復(fù),_7jj35作基牙,模型要畫導(dǎo)線

72、用目測(cè)手繪法畫導(dǎo)線時(shí)哪項(xiàng)措施是錯(cuò)誤的

A、根據(jù)確定就位道的原則,目測(cè)確定就位道

B、用鉛筆代替分析桿

C、使鉛筆與水平面保持垂直

D、以鉛筆心的軸面接觸基牙畫出導(dǎo)線

E、以鉛筆的尖端在基牙上畫出導(dǎo)線

標(biāo)準(zhǔn)答案?F

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

73、選擇就位道時(shí),模型在觀測(cè)臺(tái)上如何放置

A、向前傾斜

13、向后傾斜

C、向左傾斜

D、向右傾斜

E、平放

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

74、確定就位道后分析桿畫出的牙冠軸面外形高點(diǎn)連線是

A、牙冠軸面高點(diǎn)線

B、觀測(cè)線

C、胎邊緣連線

D、齦邊緣連線

E、頸邊緣連線

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

患者,男,.8761678缺失,余牙正常,可摘局部義齒修復(fù),「七」一"_.為基牙,彎制成品牙腭桿連接

75、桿的兩端,進(jìn)入基吒連接部分的要求,下列哪項(xiàng)是錯(cuò)誤的

A、連接部分要磨薄

B、連接部分表面要粗糙,不宜太光滑

C、連接部分邊緣要磨成齒狀

D、連接部分與模型貼合

E、連接部分應(yīng)形成內(nèi)外接合線

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

76、該義齒的后腭桿與模型腭部間的關(guān)系是

A、腭桿離開模型2mm

B、腭桿與模型貼合

C、腭桿離開模型0.2mm

D、腭桿離開模型0.5?1mm

E、腭桿離開模型1.5mm

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

77、后腭桿的兩端位于

5445B.㈣■更■之間

A.--------------------之間

75167D.回里之間

C.—?—之間

E.位于顫動(dòng)線

A、

B、

C、

D、

E、

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

患者,女,四1;」27缺失,余留牙正常,可摘局部義齒修復(fù),基牙546,采用彎制卡環(huán)

78、二_]為孤立基牙,采用何種卡環(huán)效果最佳

A、雙臂卡環(huán)

B、單臂卡環(huán)

C、對(duì)半卡環(huán)

D、正型卡環(huán)

E、下返卡環(huán)

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

79、基牙「I常采用哪類卡環(huán)

A、單臂卡環(huán)

B、間隙卡環(huán)

C、正型卡環(huán)

D、雙臂卡環(huán)

E、下返卡環(huán)

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

80、基牙E為三類導(dǎo)線,應(yīng)采用哪類卡環(huán)

A、單臂卡環(huán)

B、雙臂卡環(huán)

C、間隙卡環(huán)

D、上返卡環(huán)

E、下返卡環(huán)

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

在瓷熔附金屬時(shí),其金瓷匹配是十分關(guān)鍵的,其主要涉及的因素包括

81、烤瓷材料的燒結(jié)溫度與金屬的熔點(diǎn)的關(guān)系是

A、兩者相同

B、前者低于后者

C、前者高于后者

D、前者明顯低于后者

E、前者明顯高于后者

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

82、烤瓷材料與金屬的熱膨脹系數(shù)應(yīng)

A、兩者應(yīng)完全一致

B、前者稍稍大于后者

C、前者稍稍小于后者

D、前者明顯大于后者

E、前者明顯小于后者

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

83、烤瓷材料與金屬結(jié)合界面應(yīng)保持良好的潤濕狀態(tài),要求

A、金屬表面極度清潔

B、金屬表面勿需光滑

C、金屬表面盡量粗糙

D、金屬表面一般清潔

E、金屬表面勿需清潔

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

患者,女,缺失,余留牙正常,可摘局部義齒修復(fù),基牙型均為一類導(dǎo)線,采用彎制正型(三臂)卡環(huán)

84、彎制磨牙卡環(huán)常用的鋼絲規(guī)格是

A18號(hào)

、

B19號(hào)

c20號(hào)

、

D22號(hào)

、

E23號(hào)

、

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

85、彎制的正型卡環(huán)包繞在塑料中的部分是

A、卡環(huán)臂近體段

B、卡環(huán)臂端段

C、卡環(huán)連接體

D、拾支托

E、卡環(huán)臂中段

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

三、B1型題(本題共70題,每題7.0分,共70分。)

A.包埋料不純,耐火度不夠B.鑄模腔內(nèi)壁脫砂C.包埋料過稀D.打磨鑄件方

法不當(dāng)E.包埋料透氣性差

86、可引起表面粗糙的是

A、

B、

C、

D、

E、

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

87、可引起粘砂的是

A、

B、

C、

D、

E、

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

88、可引起砂眼的是

A、

B、

C、

D、

E、

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

89、可引起變形的是

A、

B、

C、

D、

E、

標(biāo)準(zhǔn)答案.F

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

90、可引起澆鑄不全的是

A、

B、

C、

D、

E、

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

A.鑄圈加熱過快,造成鑄膜腔發(fā)生龜裂B.由于包埋料的膨脹,不能代償高熔合

金的凝固收縮C.鑄圈溫度太低,沒有加熱到高熔合金的溫度D.儲(chǔ)金球無法補(bǔ)償

鑄件的凝固收縮E.包埋蠟型時(shí),包埋料里混有氣泡

91、有可能引起鑄件體積收縮的是

A、

B、

C、

D、

E、

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

92、有可能引起鑄件表面出現(xiàn)鰭狀物(菲邊)的是

A、

B、

C、

D、

E、

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

93、有可能引起鑄件內(nèi)有金屬結(jié)節(jié)或瘤體的是

A、

B、

C、

D、

E、

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

94、有可能引起鑄件不完整的是

A、

B、

C、

D、

E、

標(biāo)準(zhǔn)答案.C

知識(shí)點(diǎn)露析:暫無解析

95、有可能引起鑄件縮孔的是

A、

B、

C、

D、

E、

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

四、X型題(本題共5題,每題1.0分,共5分。)

96、金屬烤瓷冠的頸緣類型,以下哪些是正確的

標(biāo)準(zhǔn)答案:ABC

知識(shí)點(diǎn)解析;暫無解析

97、下述關(guān)于支架支點(diǎn)的說法中正確的是

標(biāo)準(zhǔn)答案:AB

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

98、可摘局部義齒的直接同位體由哪幾部分組成

標(biāo)準(zhǔn)答案:ABCDE

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

99、全口義齒修復(fù)中,有學(xué)者主張牙弓應(yīng)位于口腔“中性區(qū)”,此排牙法的優(yōu)點(diǎn)為

標(biāo)準(zhǔn)答案:ACDE

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

100、充填塑料過程中產(chǎn)生氣泡的原因有

標(biāo)準(zhǔn)答案:AD

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

一、A1/A2型題(本題共57題,每題1.0分,共57

分。)

101、全口義齒人工牙折斷修理的方法是

A、只磨除折斷的人工牙

B、磨除折斷的人工牙和唇頰側(cè)基托

C、磨除折斷的人工牙和唇頰舌側(cè)基托

D、磨除折斷的人工牙和舌側(cè)基托

E、保留原來的舌側(cè)基托

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

102、制作修復(fù)體時(shí),石膏模型最好在石膏凝固多少小時(shí)后應(yīng)用

A、I

B、6

C、24

D、12

E、48

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

103、采用自凝塑料(室溫固化型塑料)修補(bǔ)斷裂的基托,在調(diào)拌充填時(shí),下面哪一

項(xiàng)操作是錯(cuò)誤的

A、按一定的粉液比調(diào)拌

B、調(diào)拌后立即加蓋密封

C、自凝塑料在面團(tuán)狀后期涂塑

D、涂塑自凝塑料?時(shí),預(yù)先將缺隙處和粗糙的基托表面溶脹

E、涂塑后塑料不能在溫度較高的水中聚合

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

104、基牙的觀測(cè)線是指

A、牙冠解剖外形最突點(diǎn)的連線,不隨觀測(cè)方向改變而改變

B、牙冠解剖外形最突點(diǎn)的連線,隨觀測(cè)方向改變而改交

C、牙冠軸面最突點(diǎn)的連線,不隨觀測(cè)方向改變而改變

D、牙冠軸面最突點(diǎn)的連線,隨觀測(cè)方向改變而改變

E、組織表面最突點(diǎn)畫出的連線,不隨觀測(cè)方向改變而改變

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

105、去蠟之前通常將型盒在熱冰中浸泡,浸泡時(shí)間是

A、5~10min

10?15min

C、15~20min

D、25?30min

匕、35?40min

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

106、裝盒過程中,孤立基牙離開型盒壁的距離應(yīng)在

A、0.5cm以上

1cm以上

C、1.5cm以上

D、2cm以上

E、2.5cm以上

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

107、型盒熱處理后出盒的最適宜溫度為

A、30℃以下

B、40國以下

C、5(TC以下

D、60℃以下

E、70汽以下

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

108、充填過程中引起咬合增高的原因是

A、充填過早

B、充填量過多

C、充填量過少

D、單體量過多

E、熱處理過快

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

109、金屬全冠的邊緣要求中錯(cuò)誤的是

A、無懸突

B、長短合適

C、與基牙密合

D、冠邊緣整齊

E、頸緣與基牙要留有粘固料所需的空隙

標(biāo)準(zhǔn)答案.F

知識(shí)點(diǎn)解析:哲無解析

110、患者,男,缺失,可摘局部義齒修復(fù),基牙,采用彎制卡環(huán),塑料基托連

接,基牙,為二類導(dǎo)線,應(yīng)采用下列哪類卡環(huán)

A、單臂卡環(huán)

B、下返卡環(huán)

C、長臂卡環(huán)

D、上返卡環(huán)

E、正型卡環(huán)

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

111、臨床上將自凝塑料稱為

A、高溫化學(xué)固化的塑料

B、室溫化學(xué)固化的塑料

C、高溫物理固化的塑料

D、室溫物理固化的塑料

E、超低溫化學(xué)固化的塑料

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

112、錘造冠的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)與哪項(xiàng)無關(guān)

A、冠的齦邊緣與基牙密合,長短合適

B、正確恢復(fù)牙冠外形和鄰接關(guān)系

C、正確恢復(fù)關(guān)系

D、無皺褶,裂紋

E^冠厚度應(yīng)不少于0.5mm

標(biāo)準(zhǔn)答享.F

知識(shí)點(diǎn)露斤:暫無解析

113、具有二型觀測(cè)線的基牙

A、近缺隙側(cè)倒凹區(qū)小,遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)大

B、近缺隙側(cè)倒凹區(qū)小,遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)也小

C、近缺隙側(cè)倒凹區(qū)大,遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)小

D、近缺隙側(cè)倒凹區(qū)大,遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)也大

E、近缺隙側(cè)與遠(yuǎn)離缺隙側(cè)均無倒凹區(qū)

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

114、鑄型烘烤與焙燒最好的方法是

A、電烤箱

B、炭氣爐

C、以上都不是

D、煤氣爐

E、自控烤箱

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

115、不屬于功能性矯治器的是

A、口腔前庭盾

B、上頜平面導(dǎo)板矯治器

C、上頜斜面導(dǎo)板矯治器

D、上頜墊式矯治器

E、下頜聯(lián)冠式斜面導(dǎo)板矯治器

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

116、前牙平面導(dǎo)板矯治器用于矯治深覆時(shí)不選擇

A、矯治器后牙固位體選用固位良好的鄰間鉤或箭頭卡環(huán)

B、導(dǎo)板應(yīng)位于上前牙腭側(cè)基托前緣

C、下切牙咬合于導(dǎo)板時(shí),后牙應(yīng)離開5?6mm

D、導(dǎo)板應(yīng)與平面平行

E、下切牙應(yīng)均勻接觸導(dǎo)板

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

117、燙盒去蠟之前通常將型盒置于熱水之中,水溫為

A、500c以上

B、600c以上

c、7(rc以上

D、800c以上

E、40久以上

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

118、塑料成形加熱過程中,需保持1.5h的水溫為

A、50?55℃時(shí)

B、56?60℃時(shí)

C、61?66℃時(shí)

D、68?72久時(shí)

E、73?76℃時(shí)

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

119、塑料基托內(nèi)出現(xiàn)氣泡容易導(dǎo)致

A、義齒翹動(dòng)

B、表面不光潔

C、塑料強(qiáng)度降低

D、咬合升高

E、局部壓痛

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

120、造成塑膠充填中支架移位的原因哪一項(xiàng)除外

A、包埋支架的石膏強(qiáng)度不夠

B、支架未包牢或包埋有倒凹

C、填塞時(shí)塑料過硬

D、充填塑料不足

E、支架本身焊接不牢

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

121、可摘局部義齒后牙排列時(shí),下列哪項(xiàng)不是引起咬合增高的因素

A、關(guān)系未對(duì)好

B、在排牙過程中損壞了石膏模型

C、支托卡環(huán)體部過高或模型面有石膏瘤

D、關(guān)系不恒定

E、支架移位引起咬合增高

標(biāo)準(zhǔn)答享.F

知識(shí)點(diǎn)露斤:暫無解析

122、在調(diào)拌模型材料過程中調(diào)拌時(shí)間過長或中途加水再調(diào)拌產(chǎn)生的主要不良后果

A、容易產(chǎn)生氣泡

B、使模型表面粗糙

C、降低抗壓強(qiáng)度

D、造成脫模困難

E、容易產(chǎn)生裂紋

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

123、目前國內(nèi)制作PFM冠橋金屬基底常用合金是

A、鉆鋁合金

B、饃鋁合金

C、金的合金

D、銀把合金

E、銅基合金

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

124、金屬基底在噴砂處理時(shí),所用的氣壓一般是

A、lxlO5-2xlO5Pa

B、2xlO5^4xlO5Pa

C、4xl05-6xlO5Pa

D、6xlO5-8xlO5Pa

E、8?105Pa以上

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

125、目前CAD/CAM修復(fù)技術(shù)不包含的技術(shù)是

A、光電技術(shù)

B、精密測(cè)量技術(shù)

C、微機(jī)數(shù)字信息和圖形信息生成處理技術(shù)

D、數(shù)控機(jī)械加工技術(shù)

E、真空鑄造技術(shù)

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

126、Vita瓷粉經(jīng)過7次烘烤后,其熱膨脹系數(shù)

A、不變

B、增加0.7x10-6/℃

C、增加0.1x10.6/Q

D、減小0.7x10-6/?

E、減小0.1x10-6/。

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

127、PFM冠橋的金-瓷結(jié)合力最主要的是

A、化學(xué)結(jié)合力

B、機(jī)械結(jié)合力

C、壓縮結(jié)合力

D、范德華力

E、分子間作用力

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

128、焊接時(shí)應(yīng)使用哪種火焰

A、外層深藍(lán)色氧化物

B、內(nèi)層無色火焰

C、中層淡藍(lán)色還原焰

D、內(nèi)層淡藍(lán)色還原焰

E、外層淡藍(lán)色還原焰

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

129、基牙無倒凹時(shí),箭頭卡的箭頭應(yīng)卡在

A、兩鄰牙楔狀隙內(nèi)

B、基牙軸面角

C、鄰牙軸面角

D、基牙牙冠頰面

E、鄰牙牙冠頰面

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

130、FR-W矯治器適用于

A、安氏I類

B、安氏n類

C、安氏HI類

D、開

E、深覆

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

131、女,28歲,牙體缺損行金屬烤瓷冠修復(fù)。為了使熔融后的烤瓷材料能與金屬

形成良好的結(jié)合,烤瓷材料與金屬結(jié)合面必須保持

A、好的干燥狀態(tài)

B、略微的干燥狀態(tài)

C、完全的干燥狀態(tài)

D、良好的潤濕狀態(tài)

E、略微的潤濕狀態(tài)

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

132、某技術(shù)員在堆筑瓷粉后,使其凝集過程中,由于振動(dòng)強(qiáng)度過大,會(huì)導(dǎo)致

A、瓷粉在加熱過程中收縮過大

B、金瓷冠在燒結(jié)完成后形態(tài)不佳

C、金瓷冠燒結(jié)后出現(xiàn)了裂紋

D、破壞了瓷粉層次燒結(jié)后色澤不清

E、金瓷冠燒結(jié)后出現(xiàn)氣泡

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析?:暫無解析

133、某技術(shù)員在進(jìn)行金■瓷修復(fù)體基底冠表面粗化及預(yù)氧化處理后,不慎用手觸摸

了金屬表面,使表面污染,最易導(dǎo)致金-瓷修復(fù)體

A、出現(xiàn)瓷氣泡

B、瓷結(jié)合不良

C、不透明瓷層出現(xiàn)裂紋

D、瓷表面裂紋

E、金屬氧化膜過厚

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

134、在磨光金屬基底冠的過程中,如不慎使冠邊緣過薄,技術(shù)員用普通瓷粉堆

筑,燒烤后金瓷冠最易出現(xiàn)的問題是

A、邊緣短

B、無法就位

C、出現(xiàn)氣泡

D、初戴時(shí)崩瓷

E、色澤不佳

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

135、在制作可卸代型過程中,在馬蹄形模型底面需涂一薄層凡士林,其作用是

A、潤滑作用

B、分離作用

C、強(qiáng)化石膏作用

D、緩凝作用

E、防水作用

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

136、調(diào)拌模型材料時(shí),操作不當(dāng)?shù)氖?/p>

A、拿握好水粉比例

B、用調(diào)刀均勻攪拌

C、調(diào)拌時(shí)碗內(nèi)放人適當(dāng)?shù)姆郏偌尤脒m量的水

D、調(diào)拌中途,不得加入水或粉

E、均勻攪拌后,放在震蕩器上排出氣泡

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

137、某男,65歲,上下牙列缺失進(jìn)行義齒修復(fù),其牙槽崎兩側(cè)吸收不一致,形狀

不規(guī)則,最好選用下列哪種托盤

A、成品無牙頜托盤

B、有孔托盤

C^任選一種托盤

D、個(gè)別托盤

E>局部托盤

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

138、某醫(yī)生取印模后,經(jīng)技師灌注,翻底座,凝固后脫模,發(fā)現(xiàn)模型變形,下列

不可能造成此種現(xiàn)象的一項(xiàng)是

A、臨床取印模時(shí)移位

B、取模時(shí)脫模

C、取印模后沒有及時(shí)灌注

D,模型材料強(qiáng)度不夠

E、加注模型底座時(shí),用力過大

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

139、某患者缺失設(shè)計(jì)鑄造支架修復(fù),印模放置3h后進(jìn)行灌注,該模型最可能出現(xiàn)

的問題是

A、不清晰

B、有氣泡

C、基牙折斷

D、模型變形

E、不堅(jiān)固

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

140、包埋時(shí),粉液比例不當(dāng),液體的使用量過多,對(duì)鑄件造成的后果

A、鑄件變大

B、鑄件變小

C、鑄件更光滑

D、鑄件表面粗糙

E、鑄件變厚

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

141、由于合金熔解過度,可能會(huì)給鑄件造成的影響是

A、鑄件不全

B、鑄件氣泡

C、鑄件菲邊

D、鑄件斷裂

E、鑄件表面氧化層過厚

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

142、某技工在鑄造鉆絡(luò)支架時(shí),合金剛?cè)劢饩蚐濺,可能是

A、合金熔解過度

B、中熔合金的用堪熔解高熔合金

C、合金中有雜質(zhì)

D、合金熔解方式不正確

E、高熔合金的用煙熔解中熔合金

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

143、女,62歲,缺失,行活動(dòng)義齒整鑄支架修復(fù)。支架蠟型完成后,采用何種包

埋材料包埋

A、石英

B、石膏

C、硅酸乙酯

D、剛玉

E、過硼酸三鈉

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

144、藻酸鈉彈性印模材料中常用的緩凝劑是

A、磷酸三鈉

B、硫酸鈉

C、藻酸鈉

D、硫酸鈣

E、碳酸鈉

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

145、取印模的要求有以下幾項(xiàng),除了

A、使組織受壓均勻

B、印模材料量要多

C、邊緣要圓鈍,有一定厚度

D、盡可能擴(kuò)大印膜面積

E、采取功能性印模

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

146、彈性印模材料脫模方向應(yīng)為

A、沿著牙體長軸

B、往后用力

C、任意角度

D、與地面垂直

E、往前用力

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

147、下列屬于可逆性印模材料的是

A、藻酸鹽

B、瓊脂

C、氧化鋅

D、合成橡膠

E,纖維素醴

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

148、主要用于制作蠟基托,蠟堤,及人工牙蠟型的蠟是

A、嵌體蠟

B、鑄道蠟

C、基托蠟

D、粘蠟

E、印模蠟

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

149、印模的檢查,除了

A、是否清晰、光滑

B、有無唾液、血液、食物殘?jiān)?/p>

C、有無其他附件

D、是否完整

E、材料有無特殊香味

標(biāo)準(zhǔn)答案.E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

150、調(diào)和模型材料過程中,正確的是

A、嚴(yán)格按照規(guī)定的水粉比例調(diào)和

B、應(yīng)該先放入石膏粉,再加入足量的水

C、調(diào)和越稀越好,以免灌注模型時(shí)出現(xiàn)氣泡

D、調(diào)和越快越好,以提供充足的操作時(shí)間

E、調(diào)和時(shí)用力得當(dāng)

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

151、水平型食物嵌塞的原因是

A、充填物懸突

B、相鄰牙邊緣崎不平

C、牙齦退縮

D、相鄰牙觸點(diǎn)喪失

E、對(duì)頜有充填式牙尖

標(biāo)準(zhǔn)答案.C

知識(shí)點(diǎn)浦f:暫無解析

152、保健牙刷的特點(diǎn)是,除了

A、刷頭較小

B,毛束間距適當(dāng)

C、刷毛軟且頂端圓鈍

D、刷毛長度適當(dāng)

E、刷毛毛束排列成V形

標(biāo)準(zhǔn)答室.F

知識(shí)點(diǎn)露斤:暫無解析

153、清創(chuàng)術(shù)中沖洗創(chuàng)口最常用的沖洗液是

A、50%葡萄糖和生理鹽水

B、2.5%次氯酸納和生理鹽水

C、1.5%?3%的過氧化氫和2.5%次氯酸鈉

D、10%葡萄糖和生理鹽水

E、1.5%?3%的過氧化氫和生理鹽水

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

154、用于冠周沖洗的過氧化氫溶液濃度是

A、1%

B、3%

C、5%

D、2%

E、4%

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

155、選擇上頜托盤的要求,哪項(xiàng)不正確

A、邊緣應(yīng)與唇頰溝等高

B、寬度應(yīng)比上頜牙槽崎寬2?3mm

C、后緣應(yīng)超過顫動(dòng)線3?4mm

D、唇頰系帶處應(yīng)有相應(yīng)的切跡

E、長度應(yīng)蓋過翼上頜切跡

標(biāo)準(zhǔn)答案:A

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

156、下面有關(guān)石膏性能的描述,錯(cuò)誤的是

A、粉多水少,石膏凝固快

B、加速劑越多,凝固速度越快

C、調(diào)拌時(shí)間越快,凝固速度越快

D、水溫越高,凝固速度越快

E、調(diào)拌時(shí)間越長,凝固速度越快

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

157、某技術(shù)員小劉在堆瓷完成后,修整形態(tài)時(shí),由于金瓷冠在工作模型上未完全

就位,就進(jìn)行了調(diào)胎,導(dǎo)致金瓷冠

AN高胎

B、崩瓷

C、低胎

D、口內(nèi)無法就位

E、咬合正常

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

六、A3/A4型題虛題型(本題共28題,每題7.0分,共

28分。)

臨床上使用的基托材料主要為熱凝和自凝基托材料兩類,其在組成、性能及應(yīng)用上

都不相同

158、白凝基托樹脂與熱凝基托樹脂組成上的主要區(qū)別是

A、牙托粉中是否含有機(jī)叔胺

B、牙托水中是否含阻聚劑

C、牙托粉中是否含共聚粉

D、牙托水中是否含有機(jī)叔胺

E、牙托水中是否含膠聯(lián)劑

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

159、白凝塑料在臨床使用進(jìn)行塑形的時(shí)期一般是在

A、濕砂期

B、粘絲期

C、橡膠期

D、糊狀期

E、面團(tuán)期

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

如未按常規(guī)程序進(jìn)行塑料熱處理操作,結(jié)果義齒基托會(huì)出現(xiàn),、花基板'',且發(fā)生變

形,密合度差

160、下列哪項(xiàng)因素不是產(chǎn)生“花基板”的原因

A、升溫過快,或過高

B、粉液比過多或過少

C、壓力不足

D、填充塑料過遲或過早

E、熱處理時(shí)間過長

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知火點(diǎn)解析:暫無解析

161、常規(guī)熱處理方法是

A、100。(:恒溫2卜

B、70久恒溫24h

C、60℃恒溫12h

D、120。(:恒溫20min

E、70久恒溫1.5h,100。。恒溫lh

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

162、分析基托發(fā)生變形的原因可能是

A、壓力太小

B、填膠過早

C、冷卻過快,開盒過早

D、升溫過慢

E、升溫過低

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

163、熱凝塑料經(jīng)水浴熱處理,其結(jié)果是

A、PMMA發(fā)生聚合

B、平均分子量比牙托粉高

C、MMA發(fā)生聚合

D、其不含殘留單體

E、MMA單體完全揮發(fā)

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

在灌注模型時(shí),先加水與硬質(zhì)石膏調(diào)和,灌注印模的組織面;稍后調(diào)和熟石膏灌注

其他部分。發(fā)現(xiàn)熟石膏結(jié)固太慢,以后調(diào)和熟石膏時(shí)在水中加入了少量白色晶體

164、熟石膏的理論混水率為0.186,通常在實(shí)際使用人造石時(shí)的混水率為

A、0.186

B、0.3

C、0.22

D、0.6

E、0.5

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

165、采用分段灌注模型是為了

A、模型美觀

B、提高模型強(qiáng)度和降低材料成本

C、防止產(chǎn)生體積膨脹

D、提高灌注模型的精確度

E、防止產(chǎn)生氣泡

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

166、所使用熟石膏的特征表現(xiàn)在

A、其晶體構(gòu)型為a型

B、其結(jié)固反應(yīng)為放熱反應(yīng)

C、其生石膏含量多,結(jié)固減慢

D、其結(jié)固反應(yīng)為吸熱反應(yīng)

E、其調(diào)和速度愈快,結(jié)固愈慢

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

167、為加快熟石膏結(jié)固時(shí)間,在調(diào)和時(shí)加入的白色晶體是

A、硼砂

B、氯化鈉

C、醋酸鈉

D、枸椽酸鈉

E、硼酸鈉

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

患者,女,回67缺失,可將局部義齒修復(fù),74158為基牙,一8近中、頰向攸斜,該牙設(shè)置環(huán)形卡環(huán)

168、彎制環(huán)形卡環(huán)時(shí),常用的鋼絲是

A、22號(hào)鋼絲

B、19或20號(hào)鋼絲

C、17號(hào)鋼絲

D、21號(hào)鋼絲

E、18號(hào)鋼絲

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

169、£環(huán)形卡環(huán)的臂端位于

A、基牙腭側(cè)遠(yuǎn)中倒凹區(qū)

B、基牙腭側(cè)近中倒凹區(qū)

C、基牙頰側(cè)近中倒凹區(qū)

D、基牙遠(yuǎn)中鄰面

E、基牙頰側(cè)遠(yuǎn)中倒凹區(qū)

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:智尢解析

170、環(huán)形卡環(huán)臂的遠(yuǎn)中鄰面部分應(yīng)置于基牙何部位

A、位于基牙遠(yuǎn)中牙頸部

B、與遠(yuǎn)中宿邊緣崎平齊

C、與遠(yuǎn)中鄰面齦緣平齊

D、低于遠(yuǎn)中胎邊緣靖

E、高于遠(yuǎn)中殆邊緣崎

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

171、環(huán)形卡環(huán)臂置于倒凹的深度是

A、沿基牙導(dǎo)線彎制

B、置于基牙導(dǎo)線下方1?2mm

C、沿基牙頸部齦緣彎制

D、置于基牙導(dǎo)線的上方

E、置于基牙導(dǎo)線下方較深的部位

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

患者,男,55歲,缺失,可摘局部義齒修復(fù),_7jJ_35作基牙,模型要畫導(dǎo)線

172、用目測(cè)手繪法畫導(dǎo)線時(shí)哪項(xiàng)措施是錯(cuò)誤的

A、根據(jù)確定就位道的原則,目測(cè)確定就位道

B、用鉛筆代替分析桿

C、使鉛筆與水平面保持垂直

D、以鉛筆心的軸面接觸基牙畫出導(dǎo)線

E、以鉛筆的尖端在基牙上畫出導(dǎo)線

標(biāo)準(zhǔn)答案?F

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

173、選擇就位道時(shí),模型在觀測(cè)臺(tái)上如何放置

A、向前傾斜

13、向后傾斜

C、向左傾斜

D、向右傾斜

E、平放

標(biāo)準(zhǔn)答案:E

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

174、確定就位道后分析桿畫出的牙冠軸面外形高點(diǎn)連線是

A、牙冠軸面高點(diǎn)線

B、觀測(cè)線

C、胎邊緣連線

D、齦邊緣連線

E、頸邊緣連線

標(biāo)準(zhǔn)答案:B

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

患者,男,.8761678缺失,余牙正常,可摘局部義齒修復(fù),「七」一"_.為基牙,彎制成品牙腭桿連接

175、桿的兩端,進(jìn)入基托連接部分的要求,下列哪項(xiàng)是錯(cuò)誤的

A、連接部分要磨薄

B、連接部分表面要粗糙,不宜太光滑

C、連接部分邊緣要磨成齒狀

D、連接部分與模型貼合

E、連接部分應(yīng)形成內(nèi)外接合線

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

176、該義齒的后腭桿與模型腭部間的關(guān)系是

A、腭桿離開模型2mm

B、腭桿與模型貼合

C、腭桿離開模型0.2mm

D、腭桿離開模型0.5?1mm

E、腭桿離開模型1.5mm

標(biāo)準(zhǔn)答案:D

知識(shí)點(diǎn)解析:暫無解析

177、后腭桿的兩端位于

A.54|45之間B.史聞之間

C.三叵之間D.回巴之間

E.位于顫動(dòng)線

A、

B、

C、

D、

E、

標(biāo)準(zhǔn)答案:C

知識(shí)點(diǎn)解析:

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