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微處理器技術(shù)演進(jìn)與創(chuàng)新目錄微處理器發(fā)展歷程01微處理器核心特征02技術(shù)發(fā)展驅(qū)動力03發(fā)展階段劃分04核心原理與硬件05緩存與架構(gòu)特性06技術(shù)創(chuàng)新方向07性能影響因素08設(shè)計流程環(huán)節(jié)09未來發(fā)展趨勢10微處理器發(fā)展歷程011971年開啟微處理器時代1971年開啟微處理器時代1971年Intel4004的誕生開啟了微處理器時代,隨后8位、16位微處理器不斷演進(jìn),如今已進(jìn)入32位時代與架構(gòu)成熟期。從8位演進(jìn)至32位時代01從8位演進(jìn)至32位時代1971年Intel4004的誕生開啟了微處理器時代,隨后8位、16位微處理器不斷演進(jìn),如今已進(jìn)入32位時代與架構(gòu)成熟期。進(jìn)入架構(gòu)成熟期0203010432位時代與架構(gòu)成熟期微處理器從8位、16位演進(jìn)至32位時代,進(jìn)入架構(gòu)成熟期,x86、ARM和RISC-V等架構(gòu)競爭發(fā)展。核心特征微處理器具有集成化、可編程性、通用性和時鐘驅(qū)動等核心特征,性能提升、能效優(yōu)化和成本控制是迭代驅(qū)動力。工藝微縮與異構(gòu)架構(gòu)工藝微縮持續(xù)推進(jìn),異構(gòu)架構(gòu)成為主流,3D封裝技術(shù)突破,專用計算單元興起,優(yōu)化AI任務(wù)執(zhí)行效率。緩存分級架構(gòu)微處理器緩存通過分級架構(gòu)緩解CPU-內(nèi)存速度鴻溝,利用時間/空間局部性原理臨時存儲高頻數(shù)據(jù)。微處理器核心特征02集成化與可編程性集成化與可編程性微處理器具有集成化、可編程性、通用性和時鐘驅(qū)動等核心特征,x86、ARM和RISC-V等架構(gòu)在市場中競爭發(fā)展。通用性與時鐘驅(qū)動集成化與可編程性微處理器具有集成化、可編程性、通用性和時鐘驅(qū)動等核心特征,x86、ARM和RISC-V等架構(gòu)在市場中競爭發(fā)展。時鐘驅(qū)動原理微處理器核心原理基于馮?諾依曼架構(gòu),通過“取指-譯碼-執(zhí)行-寫回”流水線周期處理指令,核心硬件包括ALU、寄存器組、CU和緩存。0102主流架構(gòu)競爭發(fā)展主流架構(gòu)競爭發(fā)展x86、ARM和RISC-V等架構(gòu)在市場中競爭發(fā)展,CISC指令集豐富但能效低,RISC指令精簡能效優(yōu),異構(gòu)架構(gòu)集成多類型核心兼顧性能與能效。技術(shù)發(fā)展驅(qū)動力03性能持續(xù)提升性能提升驅(qū)動力性能提升、能效優(yōu)化和成本控制是推動微處理器技術(shù)持續(xù)迭代的核心驅(qū)動力。工藝微縮與架構(gòu)創(chuàng)新工藝微縮持續(xù)推進(jìn),異構(gòu)架構(gòu)成為主流,3D封裝技術(shù)突破,專用計算單元興起,優(yōu)化AI任務(wù)執(zhí)行效率。晶體管結(jié)構(gòu)革新GAA工藝和CFET架構(gòu)逐步取代傳統(tǒng)FinFET,前者優(yōu)化能效,后者提升集成密度。封裝技術(shù)突破Chiplet、3D堆疊及混合鍵合突破單芯片限制,TSV技術(shù)將互連延遲降至亞納秒級,帶寬達(dá)TB/s級別。能效不斷優(yōu)化01020304能效優(yōu)化技術(shù)GAA工藝和CFET架構(gòu)逐步取代FinFET,前者在低電壓下實(shí)現(xiàn)顯著能效優(yōu)化,后者通過垂直堆疊晶體管提升集成密度。先進(jìn)封裝方案Chiplet、3D堆疊及混合鍵合等方案突破單芯片限制,TSV技術(shù)將互連延遲降至亞納秒級,帶寬達(dá)TB/s級別。指令集擴(kuò)展x86的AVX-512、ARM的SVE及RISC-V的模塊化設(shè)計分別強(qiáng)化AI計算、科學(xué)運(yùn)算與定制化能力,提升能效比。功耗指標(biāo)功耗指標(biāo)包括TDP、PL1/PL2、SDP和能效比,需結(jié)合應(yīng)用場景優(yōu)化以實(shí)現(xiàn)性能與功耗平衡。成本有效控制成本控制核心驅(qū)動力性能提升、能效優(yōu)化和成本控制是推動微處理器技術(shù)持續(xù)迭代的核心驅(qū)動力。制程工藝成本挑戰(zhàn)隨著工藝逼近物理極限,寄生效應(yīng)、漏電流和制造成本等挑戰(zhàn)凸顯。系統(tǒng)工藝協(xié)同優(yōu)化行業(yè)正轉(zhuǎn)向系統(tǒng)-工藝協(xié)同優(yōu)化以延續(xù)摩爾定律,控制成本。發(fā)展階段劃分041970s-1980s為萌芽期01微處理器萌芽期1970s-1980s為微處理器萌芽期,1971年Intel4004誕生開啟微處理器時代,隨后8位、16位微處理器不斷演進(jìn)。1980s-1990s為崛起期32位崛起期1980s-1990s為32位微處理器崛起期,x86、ARM等架構(gòu)在市場中競爭發(fā)展。2000s-2010s為成熟期2000s-2010s為成熟期微處理器發(fā)展進(jìn)入32位時代與架構(gòu)成熟期,性能提升、能效優(yōu)化和成本控制成為核心驅(qū)動力。2020s至今為創(chuàng)新期040102032020s創(chuàng)新期技術(shù)特征工藝微縮持續(xù)推進(jìn),異構(gòu)架構(gòu)成為主流,3D封裝技術(shù)突破,專用計算單元興起優(yōu)化AI效率。晶體管結(jié)構(gòu)革新GAA工藝和CFET架構(gòu)逐步取代FinFET,前者優(yōu)化低電壓能效,后者垂直堆疊提升集成密度。緩存系統(tǒng)優(yōu)化采用MESI協(xié)議保障多核一致性,結(jié)合AI預(yù)取策略和3DV-Cache技術(shù),命中率超90%。先進(jìn)封裝技術(shù)Chiplet、3D堆疊及混合鍵合突破單芯片限制,TSV技術(shù)互連延遲亞納秒級,帶寬達(dá)TB/s。核心原理與硬件05基于馮諾依曼架構(gòu)010302馮?諾依曼架構(gòu)原理微處理器核心原理基于馮?諾依曼架構(gòu),通過“取指-譯碼-執(zhí)行-寫回”流水線周期處理指令。核心硬件組成核心硬件包括ALU、寄存器組、CU和緩存,協(xié)同完成指令處理與數(shù)據(jù)運(yùn)算。緩存分級架構(gòu)微處理器緩存通過分級架構(gòu)緩解CPU-內(nèi)存速度鴻溝,利用時間/空間局部性原理臨時存儲高頻數(shù)據(jù)。流水線周期處理指令流水線周期處理指令微處理器核心原理基于馮?諾依曼架構(gòu),通過“取指-譯碼-執(zhí)行-寫回”流水線周期處理指令。關(guān)鍵硬件組成核心硬件組成微處理器核心硬件包括ALU、寄存器組、CU和緩存,基于馮?諾依曼架構(gòu)處理指令。緩存分級架構(gòu)微處理器緩存通過分級架構(gòu)緩解CPU-內(nèi)存速度鴻溝,利用時間/空間局部性原理存儲高頻數(shù)據(jù)。主流架構(gòu)類型CISC指令集豐富但能效低,RISC指令精簡能效優(yōu),異構(gòu)架構(gòu)集成多類型核心兼顧性能與能效。制程工藝演進(jìn)制程工藝從平面晶體管到FinFET再到GAA技術(shù),優(yōu)化性能、功耗、面積和成本。緩存與架構(gòu)特性06分級緩存架構(gòu)分級緩存架構(gòu)微處理器緩存通過分級架構(gòu)緩解CPU-內(nèi)存速度鴻溝,利用時間/空間局部性原理臨時存儲高頻數(shù)據(jù)。01主流架構(gòu)對比主流架構(gòu)對比CISC指令集豐富、密度高但能效低;RISC指令精簡、能效優(yōu)但對編譯器要求高;異構(gòu)架構(gòu)集成多類型核心兼顧性能與能效。制程工藝演進(jìn)制程工藝演進(jìn)從平面晶體管到FinFET再到GAA技術(shù),不斷優(yōu)化性能、功耗、面積和成本。工藝逼近物理極限,寄生效應(yīng)、漏電流和制造成本等挑戰(zhàn)凸顯。GAA工藝與CFET架構(gòu)GAA工藝在低電壓下實(shí)現(xiàn)顯著能效優(yōu)化,CFET架構(gòu)通過垂直堆疊PMOS與NMOS晶體管提升集成密度。3D封裝技術(shù)突破Chiplet、3D堆疊及混合鍵合等先進(jìn)方案突破單芯片限制,TSV技術(shù)將互連延遲降至亞納秒級,帶寬達(dá)TB/s級別。技術(shù)創(chuàng)新方向07晶體管結(jié)構(gòu)革新01晶體管結(jié)構(gòu)革新GAA工藝和CFET架構(gòu)正逐步取代傳統(tǒng)FinFET,前者在低電壓下實(shí)現(xiàn)顯著能效優(yōu)化,后者通過垂直堆疊PMOS與NMOS晶體管提升集成密度。先進(jìn)封裝技術(shù)0102先進(jìn)封裝技術(shù)突破Chiplet、3D堆疊及混合鍵合等先進(jìn)方案突破單芯片限制,TSV技術(shù)將互連延遲降至亞納秒級,帶寬達(dá)TB/s級別。3D封裝技術(shù)發(fā)展近年來工藝微縮持續(xù)推進(jìn),異構(gòu)架構(gòu)成為主流,3D封裝技術(shù)突破,專用計算單元興起,優(yōu)化AI任務(wù)執(zhí)行效率。緩存系統(tǒng)優(yōu)化0102緩存分級架構(gòu)微處理器緩存通過分級架構(gòu)緩解CPU-內(nèi)存速度鴻溝,利用時間/空間局部性原理臨時存儲高頻數(shù)據(jù)。緩存一致性協(xié)議緩存系統(tǒng)采用MESI及其衍生協(xié)議保障多核一致性,結(jié)合AI優(yōu)化的預(yù)取策略和3DV-Cache技術(shù),使命中率超90%。性能影響因素08架構(gòu)設(shè)計指標(biāo)架構(gòu)設(shè)計指標(biāo)IPC是核心指標(biāo),流水線深度、超標(biāo)量寬度和分支預(yù)測準(zhǔn)確率對其有重要影響;核心數(shù)與線程數(shù)需結(jié)合應(yīng)用并行度考量。頻率影響基礎(chǔ)頻率反映常態(tài)性能,加速頻率影響單線程性能。功耗指標(biāo)功耗指標(biāo)包括TDP、PL1/PL2、SDP和能效比。存儲與帶寬緩存容量、關(guān)聯(lián)性和訪問延遲很關(guān)鍵,內(nèi)存類型、通道數(shù)決定帶寬。頻率與功耗關(guān)系頻率與功耗關(guān)系頻率方面,基礎(chǔ)頻率反映常態(tài)性能,加速頻率影響單線程性能。功耗指標(biāo)包括TDP、PL1/PL2、SDP和能效比。存儲帶寬關(guān)鍵存儲帶寬關(guān)鍵內(nèi)存類型、通道數(shù)決定帶寬,緩存容量、關(guān)聯(lián)性和訪問延遲很關(guān)鍵。設(shè)計流程環(huán)節(jié)09需求分析階段需求分析階段需求分析階段要明確應(yīng)用場景、性能指標(biāo)等功能與非功能需求,形成相關(guān)文檔。架構(gòu)設(shè)計內(nèi)容架構(gòu)設(shè)計內(nèi)容架構(gòu)設(shè)計包括微架構(gòu)和系統(tǒng)架構(gòu)設(shè)計,前者涉及指令集等多方面,后者包括核心互連等內(nèi)容。邏輯設(shè)計邏輯設(shè)計通過RTL編碼、驗(yàn)證確保功能正確性,將指令集轉(zhuǎn)化為電路。物理設(shè)計物理設(shè)計完成綜合、布局布線及流片,將邏輯電路轉(zhuǎn)化為物理電路。驗(yàn)證測試環(huán)節(jié)驗(yàn)證測試環(huán)節(jié)對芯片進(jìn)行測試,確保其滿足設(shè)計要求。未來發(fā)展趨勢10突破物理極限工藝微縮挑戰(zhàn)隨著工藝逼近物理極限,寄生效應(yīng)、漏電流和制造成本等挑戰(zhàn)凸顯,行業(yè)正轉(zhuǎn)向系統(tǒng)-工藝協(xié)同優(yōu)化以延續(xù)摩爾定律。晶體管結(jié)構(gòu)革新GAA工藝和CFET架構(gòu)正逐步取代傳統(tǒng)FinFET,前者在低電壓下實(shí)現(xiàn)顯著能效優(yōu)化,后者通過垂直堆疊PMOS與NMOS晶體管提升集成密度。封裝技術(shù)突破Chiplet、3D堆疊及混合鍵合等先進(jìn)方案突破單芯片限制,其中TSV技術(shù)將互連延遲降至亞納秒級,帶寬達(dá)TB/s級別。新材料新結(jié)構(gòu)探索未來將通過新材料、新結(jié)構(gòu)突破物理限制,實(shí)現(xiàn)極致效能,推

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