2025年寶石琢磨工理念考核試卷及答案一、單項選擇題（每題2分，共20分）1.以下關(guān)于寶石琢磨“定向”環(huán)節(jié)的描述，正確的是：A.所有寶石的定向僅需考慮顏色分布B.具有多色性的寶石應(yīng)使臺面垂直光軸方向C.解理發(fā)育的寶石需將主刻面平行解理面D.星光效應(yīng)寶石的定向需使星線與臺面法線夾角≤5°2.莫氏硬度為8的寶石在琢磨時，推薦使用的磨盤粒度范圍是：A.100-200目B.300-400目C.600-800目D.1000-1200目3.對于具有完全解理的寶石（如祖母綠），粗磨階段的轉(zhuǎn)速應(yīng)控制在：A.500-800轉(zhuǎn)/分鐘B.1000-1500轉(zhuǎn)/分鐘C.1800-2200轉(zhuǎn)/分鐘D.2500轉(zhuǎn)/分鐘以上4.弧面型寶石“起弧”工序中，判斷弧度均勻性的核心指標是：A.臺面與腰圍的垂直高度B.各徑向截面的曲率半徑一致性C.表面拋光亮度D.腰圍與弧面的過渡角度5.刻面寶石“亭部角度”設(shè)計時，若寶石折射率為1.76（如紅寶石），理想亭部角應(yīng)接近：A.35°B.40°C.42°D.45°6.以下哪種情況會導致寶石“漏光”缺陷？A.冠部角度與亭部角度匹配度≥95%B.亭部深度比超過60%C.臺面比例控制在55%-60%D.腰棱厚度均勻且≤整體厚度的5%7.數(shù)字化琢磨設(shè)備中，“自動對心系統(tǒng)”的主要功能是：A.實時監(jiān)測磨盤損耗并自動補償B.確保寶石毛坯中心與旋轉(zhuǎn)軸重合C.根據(jù)設(shè)計參數(shù)自動調(diào)整刻面角度D.分析寶石內(nèi)部包體并優(yōu)化切割路徑8.環(huán)保型琢磨工藝中，冷卻液應(yīng)優(yōu)先選擇：A.含礦物油的乳化液B.去離子水基潤滑液C.含重金屬離子的酸性溶液D.高濃度酒精溶液9.對于具有“貓眼效應(yīng)”的寶石（如金綠貓眼），琢磨時應(yīng)確保眼線：A.平行于寶石的長軸方向B.與臺面形成30°夾角C.覆蓋臺面面積≤1/3D.在任意角度觀察均清晰10.質(zhì)量檢驗中，“對稱性偏差”的允許范圍是：A.相鄰刻面角度差≤0.5°B.臺面與腰圍的平行度偏差≤1°C.亭部各刻面高度差≤0.3mmD.冠部刻面數(shù)量允許±1個二、多項選擇題（每題3分，共15分。每題至少2個正確選項，多選、錯選不得分）1.影響寶石“火彩”的關(guān)鍵因素包括：A.刻面角度與折射率的匹配度B.表面拋光的光澤度C.寶石內(nèi)部包體的大小D.腰棱的厚度均勻性2.安全操作規(guī)范中，必須佩戴的防護裝備有：A.防沖擊護目鏡B.耐高溫手套C.防塵口罩D.防靜電手環(huán)3.針對“合成寶石”的琢磨特點，需特別注意：A.控制琢磨溫度防止內(nèi)部應(yīng)力釋放B.降低粗磨階段的壓力避免分層C.延長拋光時間以提升表面光澤D.無需考慮多色性對定向的影響4.弧面型寶石“拋光”工序的優(yōu)化措施包括：A.采用由粗到細的拋光劑序列（如600目→1200目→2000目）B.保持拋光盤與寶石的接觸壓力均勻C.拋光后期降低轉(zhuǎn)速至300-500轉(zhuǎn)/分鐘D.使用酸性溶液預(yù)處理表面劃痕5.數(shù)字化琢磨技術(shù)的優(yōu)勢體現(xiàn)在：A.減少人工經(jīng)驗依賴，提升一致性B.實時采集數(shù)據(jù)優(yōu)化工藝參數(shù)C.支持復(fù)雜刻面設(shè)計的精準加工D.完全替代人工操作降低成本三、判斷題（每題2分，共20分。正確填“√”，錯誤填“×”）1.所有寶石的琢磨都應(yīng)遵循“先粗磨后細磨再拋光”的固定流程。（）2.具有雙折射率的寶石（如橄欖石），刻面角度設(shè)計需考慮主折射率與次折射率的差異。（）3.為提升效率，粗磨階段可同時處理多顆不同硬度的寶石。（）4.解理發(fā)育的寶石在琢磨時，應(yīng)避免磨盤與解理面形成垂直沖擊。（）5.弧面型寶石的“厚度比”（厚度/寬度）應(yīng)控制在0.3-0.5之間以平衡美觀與堅固性。（）6.刻面寶石的“星小面”（StarFacet）主要作用是增強火彩，角度設(shè)計需與冠部主刻面嚴格對稱。（）7.拋光時，拋光盤轉(zhuǎn)速越高，表面光澤度越好。（）8.含包裹體的寶石（如碧璽），應(yīng)優(yōu)先保留包裹體以體現(xiàn)天然性，無需調(diào)整琢磨方向。（）9.環(huán)保要求下，琢磨產(chǎn)生的廢水需經(jīng)沉淀、中和處理后才能排放。（）10.數(shù)字化設(shè)計軟件中，“虛擬切割模擬”功能可提前預(yù)測漏光、暗域等缺陷。（）四、簡答題（每題8分，共40分）1.簡述“寶石琢磨定向”的主要步驟及各步驟的核心目標。2.對比刻面型寶石與弧面型寶石在琢磨工藝上的3個關(guān)鍵差異。3.分析“低火彩”刻面寶石可能的成因，并提出2項優(yōu)化措施。4.說明“冷卻液”在寶石琢磨中的作用，列舉2種常見冷卻液的成分及適用場景。5.結(jié)合2025年行業(yè)趨勢，闡述寶石琢磨工需掌握的3項新技術(shù)或新理念。五、綜合分析題（每題12.5分，共25分）1.某寶石原料為含裂紋的藍寶石（折射率1.76，莫氏硬度9），重量15克拉，顏色均勻但裂紋沿c軸方向分布。請設(shè)計一套琢磨方案，要求：（1）最大化保留重量；（2）避免裂紋擴展；（3）確保成品火彩達標。需說明關(guān)鍵步驟及參數(shù)選擇依據(jù)。2.某企業(yè)采用傳統(tǒng)人工琢磨工藝，近期客戶反饋產(chǎn)品“對稱性偏差大”“表面劃痕多”。作為技術(shù)改進負責人，你將從哪些方面優(yōu)化工藝？請?zhí)岢鼍唧w措施并說明原理。--答案一、單項選擇題1.D2.C3.A4.B5.B6.B7.B8.B9.A10.A二、多項選擇題1.AB2.AC3.AB4.BC5.ABC三、判斷題1.×2.√3.×4.√5.√6.√7.×8.×9.√10.√四、簡答題1.定向步驟及目標：（1）觀察寶石特性：通過偏光鏡、二色鏡等工具分析多色性、解理、光軸方向，目標是明確關(guān)鍵物理屬性；（2）確定臺面方向：對刻面寶石，使臺面垂直光軸（如剛玉）或平行最佳顏色方向（如碧璽）；對弧面寶石，使特殊光學效應(yīng)（如星光）居中且垂直觀察方向，目標是最大化美觀性；（3）標記切割線：用油性筆在毛坯表面標記主刻面或弧面輪廓，目標是為后續(xù)加工提供基準；（4）驗證模擬：通過數(shù)字化軟件模擬切割效果，檢查是否存在漏光或?qū)ΨQ性問題，目標是提前規(guī)避缺陷。2.關(guān)鍵差異：（1）加工目標：刻面型側(cè)重火彩（依賴角度與折射率匹配），弧面型側(cè)重光澤與光學效應(yīng)（如貓眼、星光）；（2）工序復(fù)雜度：刻面型需嚴格控制多組刻面角度（如冠部30°、亭部40°），弧面型注重整體弧度均勻性（曲率半徑偏差≤0.2mm）；（3）工具選擇：刻面型常用角度固定的夾頭（如冠部夾頭角度35°），弧面型多用弧形磨盤（半徑與設(shè)計弧度匹配）。3.低火彩成因：（1）刻面角度偏差：冠部角度過大（如>38°）或亭部角度過?。ㄈ?lt;38°）導致光線無法全反射；（2）拋光不達標：表面粗糙度>0.5μm，光線散射增加；（3）腰棱過厚：超過整體厚度的8%，遮擋內(nèi)部光線反射。優(yōu)化措施：（1）重新調(diào)整亭部角度至40°（與折射率1.76匹配的理想角度）；（2）采用2000目以上拋光粉精細拋光，使表面粗糙度≤0.2μm。4.冷卻液作用：（1）冷卻：降低磨盤與寶石摩擦產(chǎn)生的熱量（避免寶石因高溫開裂或褪色）；（2）潤滑：減少磨料與寶石的直接磨損（提升表面光潔度）；（3）排屑：沖走磨屑防止堵塞磨盤。常見冷卻液：（1）水基乳化液（水:礦物油=10:1），適用于硬度7-9的寶石（如剛玉、石英）；（2）甘油水溶液（甘油:水=3:7），適用于軟質(zhì)寶石（如歐泊、螢石），減少崩邊風險。5.2025年新技術(shù)/理念：（1）AI輔助設(shè)計：利用機器學習分析海量切割數(shù)據(jù)，自動提供最優(yōu)刻面方案（如針對含包體原料推薦避裂路徑）；（2）綠色工藝：推廣可降解磨料（如植物纖維基磨盤）和閉環(huán)水循環(huán)系統(tǒng)（廢水經(jīng)膜過濾后重復(fù)使用）；（3）3D打印夾具：根據(jù)寶石毛坯形狀定制夾頭，提升夾持穩(wěn)定性（減少對稱性偏差）；（4）智能監(jiān)測：通過激光掃描實時測量刻面角度（精度±0.1°），自動修正加工參數(shù)。五、綜合分析題1.琢磨方案設(shè)計：（1）原料評估：藍寶石c軸方向裂紋，硬度9，折射率1.76，顏色均勻，目標保留重量≥8克拉（保留率>50%）。（2）定向優(yōu)化：將裂紋方向與亭部主刻面方向平行（避免刻面垂直裂紋導致崩裂），臺面垂直光軸（增強顏色飽和度）。（3）粗磨參數(shù)：采用600目金剛石磨盤，轉(zhuǎn)速800轉(zhuǎn)/分鐘（低轉(zhuǎn)速減少振動），壓力0.3kg/cm2（輕壓避免裂紋擴展），先磨腰圍再修形。（4）刻面設(shè)計：選擇標準圓多面型（57刻面），亭部角度40°（與折射率1.76匹配的理想角度），冠部角度34°（避免漏光），腰棱厚度控制在整體厚度的5%（減少對光線的遮擋）。（5）裂紋處理：在裂紋延伸區(qū)域設(shè)計輔助刻面（如星小面），通過刻面反射分散裂紋視覺影響，同時避免磨盤直接沖擊裂紋尖端。（6）拋光工藝：使用1200目→2000目→3000目拋光粉序列，轉(zhuǎn)速500轉(zhuǎn)/分鐘，確保表面粗糙度≤0.1μm（提升火彩）。2.工藝優(yōu)化措施：（1）對稱性偏差改進：①引入數(shù)字化角度測量儀（精度±0.1°），替代人工目測，實時校準刻面角度；②采用3D打印定制夾頭（根據(jù)寶石形狀匹配夾持面），減少裝夾偏移（偏差從±1°降至±0.3°）；③建立“首件檢驗”制度，每批次首件通過激光掃描檢測對稱性（允許偏差≤0.5°），合格后批量生產(chǎn)。（2）表面劃痕控制：①規(guī)范磨料使用流程：粗磨（600目）→細磨（1200目）→預(yù)拋光（2000目）→精拋光（3000目），禁止跨粒度跳躍；②定期更換磨盤（磨盤磨損超過10%時需修盤或更換），避免磨料脫落造成劃痕；③增加“清洗工序