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文檔簡介

2025年(集成電路設計與集成系統(tǒng))芯片設計試題及答案一、單選題(每題2分,共30分)1.在28nm工藝下,若標準單元高度為9T(Track),則金屬1(M1)的最小布線間距為0.09μm。若采用單向布線策略,M1僅允許水平走線,則下列關于M1布線資源的描述正確的是A.每微米垂直方向可提供11條有效走線B.每微米垂直方向可提供10條有效走線C.每微米垂直方向可提供9條有效走線D.每微米垂直方向可提供8條有效走線答案:B解析:0.09μm間距意味著1μm內可放置1/0.09≈11.1條走線,但第一條與最后一條需各占半間距,故有效走線為floor(11.1)=11,再減去1條邊界冗余,得10條。2.某SoC時鐘樹綜合后,全局時鐘網(wǎng)絡插入延遲為450ps,時鐘不確定性預算為60ps,若目標時鐘周期為1.25ns,則該時鐘網(wǎng)絡可接受的最大片上變化(OCV)降額因子為A.0.88B.0.92C.0.95D.0.98答案:C解析:可用預算=1.25ns?0.45ns?0.06ns=0.74ns;降額因子=0.74/1.25=0.592,但OCV降額針對建立時間檢查,需除以周期,再考慮庫文件kfactor,綜合得0.95。3.在FinFET工藝中,為了抑制短溝道效應,通常采用“柵極包覆”結構。若鰭高Hfin=25nm,鰭寬Wfin=8nm,等效氧化層厚度EOT=0.9nm,則亞閾值擺幅SS最接近A.62mV/decB.68mV/decC.75mV/decD.82mV/dec答案:B解析:SS=60mV/dec×(1+CDIT/Cox),其中CDIT≈0.13,Cox≈3.9×8.85×10?12/(0.9×10??)=38mF/m2,計算得SS≈68mV/dec。4.某14nm處理器采用8TSRAM單元,讀端口采用獨立傳輸管。若讀位線預充電至0.8V,讀電流為35μA,位線電容為120fF,則讀訪問時間(位線擺幅100mV)約為A.240psB.290psC.340psD.390ps答案:C解析:Δt=C×ΔV/I=120fF×0.1V/35μA≈343ps。5.在數(shù)字APR流程中,使用“NDR”規(guī)則對時鐘網(wǎng)絡進行雙倍間距、雙倍寬度的約束,其主要目的是A.降低IRdropB.提高EM可靠性C.減小耦合電容D.抑制天線效應答案:B解析:雙倍寬度降低電流密度,雙倍間距降低層間電遷移,綜合提高EM壽命。6.某高速SerDes采用4tapDFE,其中首抽頭系數(shù)為0.65,若輸入信號峰峰值為800mV,則首抽頭對信號的最大電壓修正量為A.260mVB.520mVC.650mVD.800mV答案:A解析:修正量=0.65×800mV/2=260mV(單端)。7.在SystemVerilog斷言中,若要檢測“信號a在高電平后兩個周期內b必須拉高一次”,正確的斷言語句是A.assertproperty(@(posedgeclk)a|>[1:2]b);B.assertproperty(@(posedgeclk)a|>2b);C.assertproperty(@(posedgeclk)a2b);D.assertproperty(@(posedgeclk)a[1:2]b|>1'b1);答案:A解析:|>為重疊蘊含,[1:2]表示1到2周期內任意時刻出現(xiàn)b。8.某芯片采用雙電源域,VDD1=0.8V,VDD2=1.2V,中間通過電平轉換器通信。若轉換器采用級聯(lián)反相器結構,低電平域驅動高電平域,則級聯(lián)反相器的最小數(shù)目為A.1B.2C.3D.4答案:B解析:第一級反相器用低閾值低電壓器件,第二級用高電壓器件,兩級可完成電平抬升且避免柵氧過壓。9.在28nm工藝中,金屬層M2的厚度為0.14μm,寬度為0.1μm,電阻率為2.2×10??Ω·m,則每毫米長度的電阻約為A.220ΩB.440ΩC.660ΩD.880Ω答案:B解析:R=ρL/A=2.2×10??×10?3/(0.14×10??×0.1×10??)=440Ω。10.某ADC采用SAR結構,電容陣列總容值為2pF,若參考電壓為1V,比較器失調電壓為0.5mV,則該ADC最高可實現(xiàn)的ENOB約為A.9.0B.9.8C.10.5D.11.2答案:B解析:ENOB=(SNDR?1.76)/6.02,SNDR≈20log10(1V/0.5mV√12)=60dB,得ENOB≈9.8。11.在物理驗證中,出現(xiàn)“Metalslotwidth<0.14μm”的DRC違例,其根本原因是A.金屬密度不足B.金屬應力釋放C.金屬爬坡斷裂D.金屬刻蝕負載答案:B解析:Slot用于釋放金屬熱應力,防止剝離,寬度不足導致應力集中。12.某設計采用門控時鐘,時鐘門控單元(ICG)的setup時間為?80ps,hold時間為120ps,若時鐘周期為1ns,則數(shù)據(jù)到達ICG輸入端的最晚時間為A.920psB.880psC.800psD.720ps答案:A解析:負setup意味著數(shù)據(jù)可在時鐘沿后80ps到達,故最晚到達=1000?80=920ps。13.在14nmFinFET中,若鰭間距為42nm,鰭寬度為8nm,則單位面積鰭密度(每μm2的鰭數(shù))約為A.240B.280C.320D.360答案:C解析:每μm長度可排1/(42nm)≈23.8鰭,每μm2=23.8×(1/0.042)=≈320。14.某芯片采用3DIC,TSV直徑為5μm,間距為10μm,則每mm2可集成TSV數(shù)量約為A.5kB.8kC.10kD.12k答案:C解析:每mm2=1/(10×10)×10?=10k。15.在UVM驗證環(huán)境中,若sequence使用`uvm_do_with宏并傳入約束“{datainside{[0:255]};}”,則該約束作用域為A.僅當前itemB.當前sequence所有itemC.當前sequencer所有sequenceD.全局constraint塊答案:A解析:`uvm_do_with僅對當前item隨機化生效。二、多選題(每題3分,共30分,多選少選均不得分)16.下列哪些技術可有效抑制動態(tài)功耗中的短路功耗A.提高閾值電壓B.降低電源電壓C.減小信號斜率D.插入低驅動單元答案:A、B解析:短路功耗∝(VDD?Vth)3,提高Vth、降低VDD均可抑制;減小斜率反而增加短路電流時間。17.關于時鐘抖動(Jitter)與偏移(Skew)的描述,正確的是A.Jitter是時間域隨機變量B.Skew是空間域確定性差值C.Jitter會隨溫度變化而增大D.Skew可通過時鐘樹綜合完全消除答案:A、B、C解析:Skew只能減小無法完全消除,受工藝、溫度、電壓影響。18.在DFT流程中,以下哪些屬于“測試覆蓋率損失”的常見原因A.多時鐘域跨域路徑未平衡B.存儲器BIST未使能C.模擬宏未包封WrapperD.邏輯冗余被工具優(yōu)化掉答案:B、C、D解析:跨域路徑影響atspeed測試,但不直接損失覆蓋率;BIST未使能導致存儲器無法測試;模擬宏無Wrapper無法掃描;冗余被優(yōu)化導致觀測點丟失。19.某高速接口采用8b/10b編碼,其技術特點包括A.直流平衡B.最大運行長度5C.可提供152個控制碼D.編碼效率80%答案:A、B、D解析:8b/10b共256數(shù)據(jù)+12控制碼=268,編碼效率8/10=80%,最大運行長度5。20.在模擬版圖匹配中,采用“共心匹配”結構可減小A.梯度誤差B.隨機失配C.熱梯度D.氧化層電荷漂移答案:A、C解析:共心匹配對線性梯度最敏感,可抵消一階梯度;隨機失配需增加面積。21.關于低功耗設計中的“狀態(tài)保持功率門控”(SRPG),正確的是A.保留寄存器使用高閾值單元B.斷電域喚醒后狀態(tài)可恢復C.需要隔離單元D.保持寄存器由alwayson電源供電答案:B、C、D解析:SRPG保留寄存器由獨立電源供電,非高閾值。22.在14nm以下工藝,使用“空氣間隙”(AirGap)作為層間介質的優(yōu)點有A.降低k值B.提高機械強度C.減小耦合電容D.降低RC延遲答案:A、C、D解析:空氣間隙k≈1,機械強度下降。23.下列哪些屬于“片上電感”在毫米波電路中的退化機制A.趨膚效應B.鄰近效應C.基板渦流D.自諧振頻率降低答案:A、B、C解析:自諧振頻率降低是結果而非機制。24.關于FinFET器件的“寬度量化”描述,正確的是A.最小寬度為一個鰭B.寬度增量為鰭高倍數(shù)C.導致模擬電路匹配困難D.可通過折疊鰭增加等效寬長比答案:A、C、D解析:寬度增量為鰭數(shù)量×2×Hfin,非簡單倍數(shù)。25.在UVM寄存器模型中,實現(xiàn)“前門訪問”與“后門訪問”差異包括A.前門需總線時鐘B.后門使用hierarchicalreferenceC.前門可觸發(fā)中斷D.后門可繞過寄存器鎖存答案:A、B、C、D解析:后門通過hdl_path直接讀寫,不消耗時鐘,但無法驗證時序。三、計算與簡答題(共40分)26.(8分)某65nm工藝下,一個反相器鏈驅動5pF負載,輸入電容為0.8fF,邏輯努力g=1,寄生努力p=1。若目標延遲為最優(yōu)延遲的1.2倍,請計算所需級數(shù)N與每級尺寸因子f,并給出最終輸入級尺寸與負載級尺寸關系。答案與解析:最優(yōu)級數(shù)N=ln(Cout/Cin)/ln(f),f=e≈2.718,得N≈ln(5pF/0.8fF)/ln2.718≈8.7→取9級。允許延遲增大1.2倍,即f=f×1.2≈3.26??偱=gbh=1×1×(5pF/0.8fF)=6250。每級努力f^N=F→3.26^N=6250→N=ln6250/ln3.26≈7.2→取8級。尺寸鏈:Cin,1=0.8fF;Cin,i+1=f×Cin,i;Cin,8=0.8fF×3.26^7≈5pF,吻合。輸入級尺寸保持1倍,負載級尺寸=5pF/0.8fF=6250倍,分8級指數(shù)增長。27.(8分)某SARADC采用分段電容陣列,高4位采用二進制權重,低4位采用C2C鏈,單位電容Cu=20fF,參考電壓Vref=1V。若比較器失調為1mV,要求DNL<0.5LSB,求允許的最大電容失配σ(單位%)。答案與解析:DNL=(σC/Cu)×Vref/LSB<0.5LSB。對于低4位C2C,最小LSB權重=1/2^4×Vref=62.5mV。得σC/Cu×1V<0.5×62.5mV→σC/Cu<3.125%??紤]高斯分布3σ準則,σ=3.125%/3≈1.04%。28.(8分)某芯片采用PoP封裝,DRAM與SoC通過330球、間距0.4mm的BGA連接。若每信號球寄生電感為0.18nH,同時切換噪聲(SSN)預算為5%×1.2V=60mV,切換電流為80mA,上升時間tr=100ps,求允許的最大同時切換信號數(shù)N。答案與解析:ΔV=N×L×dI/dt→60mV=N×0.18nH×80mA/100ps→N≈42。29.(8分)給定一個3級放大器,增益分別為A1=10,A2=20,A3=5,每級帶寬BW1=100MHz,BW2=50MHz,BW3=80MHz,求總增益與總?3dB帶寬。答案與解析:總增益A=10×20×5=1000=60dB??値?/BWtotal2=1/BW12+1/BW22+1/BW32=1/1002+1/502+1/802→BWtotal≈37.6MHz。30.(8分)某28GbpsNRZSerDes信道插入損耗在14GHz處為?18dB,若采用2tapFFE(抽頭系數(shù)+0.8?0.2),求輸出眼圖在14GHz處的相對提升(dB)。答案與解析:FFE傳遞函數(shù)H(ω)=0.8?0.2e^(?jωT),T=1/28GHz。在14GHz處ωT=π,H=0.8?0.2(?1)=1.0,相對于無FFE增益=1.0/0.8=1.25→20log101.25≈1.94dB。信道損耗改善=1.94dB,眼高提升≈1.94dB。四、綜合設計題(共50分)31.(25分)設計一個適用于AI加速器的可擴展256×256脈動陣列MAC單元,要求:1.支持4×4子陣級聯(lián),每子陣本地寄存器權重;2.采用14nmFinFET,電源電壓0.8V,目標頻率1GHz;3.輸入/權重8位有符號,輸出32位累加;4.考慮動態(tài)功耗<25mW每子陣,面積<0.01mm2每子陣;5.給出微架構圖、關鍵路徑、電源網(wǎng)絡、時鐘門控策略、DFT方案。答案與解析:微架構:4×4乘法器陣列采用Booth2壓縮,4:2CSA樹,32位超前進位加法器,寄存器文件雙端口SRAM256×8位,權重預載。關鍵路徑:Booth編碼→4:2CSA樹→CLA→累加寄存器,延遲=120ps(14nmFO4≈14ps),余量880ps,滿足1GHz。功耗:活動率α=0.25,Ceff=1.2pF,P=αCV2f=0.25×1.2p×

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