1T/TMACXXX—2026中束流離子注入機(jī)能量精度控制技術(shù)規(guī)范本文件規(guī)定了中束流離子注入機(jī)能量精度控制的工作要求、功能單元、技術(shù)要求和試驗(yàn)方法等內(nèi)容。本文件適用于中束流離子注入機(jī)的設(shè)計(jì)、制造、檢測(cè)、驗(yàn)收。2規(guī)范性引用文件下列文件中的內(nèi)容通過(guò)文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中，注日期的引用文件，僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改單）適用于本文件。GB/T15862離子注入機(jī)通用規(guī)范3術(shù)語(yǔ)和定義GB/T15862界定的以及下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件。3.1中束流離子注入機(jī)medium-beamionimplanter束流強(qiáng)度1mA～30mA，能量范圍5keV～500keV，用于半導(dǎo)體摻雜的離子注入設(shè)備。3.2能量精度energyprecision實(shí)際注入能量與設(shè)定能量之間的相對(duì)偏差。4工作要求4.1環(huán)境要求環(huán)境要求應(yīng)符合下列規(guī)定：a）溫度：22℃±1℃b）相對(duì)濕度：40%～60%c）潔凈度：ISO5級(jí)d）振動(dòng)：不大于2μm(5Hz～500Hz)4.2設(shè)備要求設(shè)備要求應(yīng)符合表1規(guī)定。表1設(shè)備要求5功能單元T/TMACXXX—20262功能單元應(yīng)符合下列規(guī)定：a）能量設(shè)定單元：設(shè)定范圍5keV～500keV，步進(jìn)不大于0.1keV；b）實(shí)時(shí)反饋單元：閉環(huán)反饋周期不大于10ms；c）能量校正單元：支持離線/在線自校準(zhǔn)；d）高壓加速平臺(tái)：提供5keV～500keV連續(xù)可調(diào)高壓，紋波不大于0.05%；e）動(dòng)態(tài)聚焦單元：實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)束斑直徑不大于2mm，保持晶圓表面均勻性；f）劑量調(diào)節(jié)單元：閉環(huán)劑量控制精度不大于±1%，響應(yīng)時(shí)間不大于10ms；g）氣體回收單元：回收未電離氣體，回收率不小于90%，排放符合環(huán)保要求。6技術(shù)要求中束流離子注入機(jī)能量精度控制技術(shù)要求應(yīng)符合表2規(guī)定。表2中束流離子注入機(jī)能量精度控制技術(shù)要求123450°~30°67輸出能量精度5keV～500keV8能量漂移（24h）任意設(shè)定點(diǎn)連續(xù)運(yùn)行9長(zhǎng)期穩(wěn)定性（30d）任意設(shè)定點(diǎn)每月統(tǒng)計(jì)7試驗(yàn)方法中束流離子注入機(jī)能量精度控制試驗(yàn)方法應(yīng)符合表3規(guī)定。表3中束流離子注入機(jī)能量精度控制試驗(yàn)方法123450