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1、第5章 絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管,場(chǎng)效應(yīng)晶體管(Field Effect Transistor,F(xiàn)ET)是另一類重要的微電子器件。這是一種電壓控制型多子導(dǎo)電器件,又稱為單極型晶體管。這種器件與雙極型晶體管相比,有以下優(yōu)點(diǎn), 輸入阻抗高; 溫度穩(wěn)定性好; 噪聲??; 大電流特性好; 無(wú)少子存儲(chǔ)效應(yīng),開關(guān)速度高; 制造工藝簡(jiǎn)單; 各管之間存在天然隔離,適宜于制作 VLSI 。,結(jié)型柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管( J FET ),肖特基勢(shì)壘柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管( MESFET ),絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管( IGFET 或 MOSFET ),場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FET)的分類,JFET 和 MESFET 的工作原理相同。以 JFET 為例
2、,用一個(gè)低摻雜的半導(dǎo)體作為導(dǎo)電溝道,在半導(dǎo)體的一側(cè)或兩側(cè)制作 PN 結(jié),并加上反向電壓。利用 PN 結(jié)勢(shì)壘區(qū)寬度隨反向電壓的變化而變化的特點(diǎn)來(lái)控制導(dǎo)電溝道的截面積,從而控制溝道的導(dǎo)電能力。兩種 FET 的不同之處僅在于,JFET 是利用 PN 結(jié)作為控制柵,而 MESFET 則是利用金- 半結(jié)(肖特基勢(shì)壘結(jié))來(lái)作為控制柵。,MOSFET( IGFET) 的工作原理略有不同,利用電場(chǎng)能來(lái)控制半導(dǎo)體的表面狀態(tài),從而控制溝道的導(dǎo)電能力。,根據(jù)溝道導(dǎo)電類型的不同,每類 FET 又可分為 N 溝道器件 和 P 溝道器件。,J - FET 的基本結(jié)構(gòu),源、漏,MESFET 的基本結(jié)構(gòu),MOSFET 的基本
3、結(jié)構(gòu),絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管 按其早期器件的縱向結(jié)構(gòu)又被稱為 “金屬 -氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管”,簡(jiǎn)稱為 MOSFET , 但現(xiàn)在這種器件的柵電極實(shí)際不一定是金屬,絕緣柵也不一定是氧化物,但仍被習(xí)慣地稱為 MOSFET 。,5.1 MOSFET 基礎(chǔ),5.1.1 MOSFET 的結(jié)構(gòu),P 型襯底,以 N 溝道 MOSFET 為例,,5.1.2 MOSFET 的工作原理,當(dāng) VGS VT 時(shí),柵下的 P 型硅表面發(fā)生 強(qiáng)反型 ,形成連通源、漏區(qū)的 N 型 溝道 ,在 VDS 作用下產(chǎn)生漏極電流 ID 。對(duì)于恒定的 VDS ,VGS 越大 ,溝道中的電子就越多 ,溝道電阻就越小,ID 就越大。,所
4、以 MOSFET 是通過(guò)改變 VGS 來(lái)控制溝道的導(dǎo)電性,從而控制漏極電流 ID ,是一種電壓控制型器件。,轉(zhuǎn)移特性曲線:VDS 恒定時(shí)的 VGS ID 曲線。MOSFET 的轉(zhuǎn)移特性反映了柵源電壓 VGS 對(duì)漏極電流 ID 的控制能力。,N 溝道 MOSFET 當(dāng),VT 0 時(shí),稱為增強(qiáng)型 ,為常關(guān)型。,VT 0 時(shí),稱為耗盡型 ,為常開型。,ID,VGS,VT,0,ID,VGS,VT,0,P 溝道 MOSFET 的特性與 N 溝道 MOSFET 相對(duì)稱,即: (1) 襯底為 N 型,源漏區(qū)為 P+ 型。 (2) VGS 、VDS 的極性以及 ID 的方向均與 N 溝相反。 (3) 溝道中的
5、可動(dòng)載流子為空穴。 (4) VT 0 時(shí)稱為耗盡型(常開型)。,5.1.3 MOSFET 的類型, 線性區(qū) 當(dāng) VDS 很小時(shí),溝道就象一個(gè)阻值與 VDS 無(wú)關(guān)的 固定電阻,這時(shí) ID 與 VDS 成線性關(guān)系,如圖中的 OA 段所示。,輸出特性曲線:VGS VT 且恒定時(shí)的 VDS ID 曲線??煞譃橐韵?4 段,5.1.4 MOSFET 的輸出特性, 過(guò)渡區(qū) 隨著 VDS 增大,漏附近的溝道變薄,溝道電阻增大,曲線逐漸下彎。當(dāng) VDS 增大到 VDsat ( 飽和漏源電壓 ) 時(shí),漏端處的可動(dòng)電子消失,這稱為溝道被 夾斷,如圖中的 AB 段所示。 線性區(qū)與過(guò)渡區(qū)統(tǒng)稱為非飽和區(qū),有時(shí)也統(tǒng)稱為線性區(qū)。, 飽和區(qū) 當(dāng) VDS VD sat 后,溝道夾斷點(diǎn)左移,漏附近只剩下耗盡區(qū)。這時(shí) ID 幾乎與 VDS 無(wú)關(guān)而保持常數(shù) ID sat ,曲線為水平直線,如圖中的 BC 段所示。 實(shí)際上 ID 隨 VDS 的增大而略有增大,曲線略向上翹。, 擊穿區(qū) 當(dāng) VDS 繼續(xù)增大到 BVDS 時(shí),漏結(jié)發(fā)生雪崩擊穿,或者漏源間發(fā)生穿通,ID 急劇增大,如圖中的 CD 段所示。,將各曲線的夾斷點(diǎn)用虛線連接起來(lái),虛線左側(cè)為非飽
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