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1、第第4 4章章 定向凝固中的溫度場(chǎng)和溶質(zhì)場(chǎng)定向凝固中的溫度場(chǎng)和溶質(zhì)場(chǎng)4.1 定向凝固中的溶質(zhì)場(chǎng)和溫度場(chǎng)定向凝固中的溶質(zhì)場(chǎng)和溫度場(chǎng)xxxxxxdxxQxxJxJdxxc0000),(),(),(),(000方程中左邊為控制單元體的溶質(zhì)變化，右邊第一項(xiàng)和第二項(xiàng)為從x0位置處傳入的溶質(zhì)和從x0+x傳出的溶質(zhì)，其中J(x0,)為位置為x0，時(shí)刻的溶質(zhì)流量密度，而第三項(xiàng)為單元體中存在源或黑洞產(chǎn)生或消耗溶質(zhì)的部分。xxQxxJxJxxc),(),(),(),(20001x0 x1x0+x; x0 x2VV1 1) ) (a)k0=0.5， (b) k0=0.1，(c) k0=0.01(a)宏觀狀態(tài) (b)

2、外部 (c)內(nèi)部圖6-21 (110)單晶Si面中摻雜Al溶質(zhì)造成的宏觀和微觀生長(zhǎng)條紋B為籽晶旋轉(zhuǎn)而A為籽晶不旋轉(zhuǎn)的情況 非溶質(zhì)保守系統(tǒng)非溶質(zhì)保守系統(tǒng) 圖6-30不同的非溶質(zhì)保守系統(tǒng)工藝圖6-31非溶質(zhì)保守系統(tǒng)中溶質(zhì)分布 溶質(zhì)分布（分配）系數(shù)溶質(zhì)分布（分配）系數(shù) 1、平衡溶質(zhì)分布系數(shù)、平衡溶質(zhì)分布系數(shù)(k0) 有效溶質(zhì)分布系數(shù)有效溶質(zhì)分布系數(shù)(k(ke e) ) )()0(jLjSjeCCk)/exp()1 (000cceDVkkkkcceDVkk) 11ln() 11ln(0硅單晶中不同溶質(zhì)的平衡溶質(zhì)分布系數(shù)硅單晶中不同溶質(zhì)的平衡溶質(zhì)分布系數(shù) 界面溶質(zhì)分布系數(shù)界面溶質(zhì)分布系數(shù)(k(ki i) ) )0()0(jLjSjiCCk修正的溶質(zhì)分布系數(shù)(k*) )/(0LLdC

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