版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領
文檔簡介
1、2022-5-4共41頁1版圖繪制及Virtuoso 工具軟件范鎮(zhèn)淇2011年3月17日2022-5-4共41頁2主要內容典型深亞微米工藝流程Design Rule的簡介Virtuoso軟件的簡介及使用PDK簡介2022-5-4共41頁31、典型深亞微米工藝流程 這里介紹目前比較普通的N阱CMOS工藝流程,用到的wafer(晶圓)是P型襯底,所以需要用NWELL來構建p溝器件,而n型MOS管就構建在p襯底上。 這里以反相器為例簡單的介紹下其制作的基本工藝流程。2022-5-4共41頁4 第一張mask定義為n-well(or n-tub)maska)離子注入:制造nwell。b)擴散:在所有方
2、向上擴散,擴散越深,橫向也延伸越多。2022-5-4共41頁5 第二張mask定義為active mask。 有源區(qū)用來定義管子的柵以及允許注入的p型或者n型擴散的管子的源漏區(qū)。2022-5-4共41頁6 忽略版圖中無法體現(xiàn)的一些mask:諸如channel stop、閾值電壓調整等 要介紹的第三張mask為poly mask:它包含了多晶硅柵以及需要腐蝕成的形狀。2022-5-4共41頁7 第四張mask定義為nmask,用來定義需要注入n的區(qū)域。2022-5-4共41頁8 第五張mask是pmask。 p在Nwell中用來定義PMOS管或者NMOS體端引出;p在Pwell中用來作為歐姆接觸
3、。2022-5-4共41頁9 第六張mask就是定義接觸孔了。首先腐蝕SiO2到需要接觸的層的表面。其次要能夠使金屬接觸到擴散區(qū)或者多晶硅區(qū)。2022-5-4共41頁10 第七張mask就是金屬1(metal1)了。需要選擇性刻蝕出電路所需要的連接關系。至此,一個反相器的完整版圖就完成了。2022-5-4共41頁112、Design Rule的簡介 圖解術語2022-5-4共41頁122022-5-4共41頁132022-5-4共41頁14一個簡單的例子2022-5-4共41頁153、 Virtuoso軟件的簡介及使用 創(chuàng)建Layout Cellview File-New-Cellview20
4、22-5-4共41頁16Layout Editor Window2022-5-4共41頁17Layer Selection Window(LSW)2022-5-4共41頁182022-5-4共41頁19Layout Editor 菜單(1)Abstract用于版圖抽取,Dracula Interactive用于Dracula工具進行DRC等Verify菜單下的DRC等是用于Diva工具的。2022-5-4共41頁20Layout Editor 菜單(2)2022-5-4共41頁21Display Control Window2022-5-4共41頁22Virtuoso下的快捷鍵的使用(1)Ct
5、rlA 全選ShiftB Return,升到上一級視圖CtrlC 中斷某個命令,一般用ESC代替。ShiftC 裁切(chop)。C 復制,復制某個圖形CtrlD 取消選擇。亦可點擊空白處實現(xiàn)。CtrlF顯示上層等級ShiftF顯示所有等級F fit,顯示你畫的所有圖形K 標尺工具ShiftK清除所有標尺L 標簽工具M 移動工具ShiftM 合并工具,MergeN 斜45對角正交。ShiftO 旋轉工具。RotateO 插入接觸孔。CtrlP 插入引腳。 PinShiftP 多邊形工具。PolygonP 插入Path(路徑)Q 圖形對象屬性(選中一個圖形先)R 矩形工具。繪制矩形圖形S 拉伸工
6、具??梢岳煲粋€邊,也可以選擇要拉伸的組一起拉伸U 撤銷。 Undo。ShiftU重復。Redo。撤銷后反悔2022-5-4共41頁23Virtuoso下的快捷鍵的使用(2)V 關聯(lián)attach。將一個子圖形(child)關聯(lián)到一個父圖形(parent)后,若移動parent,child也跟著移動;移動child,parent不會移動。CtrlW 關閉窗口。ShiftW下一個視圖。W 前一個視圖。Y 區(qū)域復制Yank。和copy有區(qū)別,copy只能復制完整圖形對象。ShiftY 黏貼Paste。配合Yank使用。CtrlZ 視圖放大兩倍(也可點住鼠標右鍵拖動)ShiftZ 視圖縮小兩倍Z 視圖
7、放大ESC鍵 撤銷功能Tab鍵 平移視圖Pan。按Tab,用鼠標點擊視圖區(qū)中某點,視圖就會移至以該點為中心。Delete鍵 刪除BackSpace鍵 撤銷上一點。這就不用因為Path一點畫錯而刪除重畫??梢猿蜂N上一點。Enter鍵 確定一個圖形最后一點。也可以雙擊鼠標左鍵。Ctrl方向鍵 移動Cell。Shift方向鍵 移動鼠標。方向鍵 移動視圖。2022-5-4共41頁244、PDK簡介(1) 在以前,PMOS管、NMOS管、電容、電阻以及接觸孔contact等一系列元器件都是手工繪制的,效率比較低。因此為了提高效率,讓設計者有一個流暢的設計環(huán)境,降低開發(fā)周期,許多工藝制造產(chǎn)商都提供了相應尺
8、寸工藝下的PDK。PDK全稱Process Design Kit,它主要是由Cadence的Schematic和Layout Tool為主體所組成的,它可以看作是一個工作平臺,在這個工作平臺上可以加載一些模擬軟件和驗證軟件,形成一個完整的設計平臺,這樣的一個設計模式有助于縮短設計者的開發(fā)周期。2022-5-4共41頁25PDK簡介(2)2022-5-4共41頁26PDK簡介(3) PDK不僅提供了MOS管和接觸孔的版圖單元,而且還提供了各類電阻、電容、電感以及三極管等常用器件的Layout cell,并可以根據(jù)具體要求設置器件的相關屬性,參考PDK自帶的說明文件,靈活的使用PDK可以為版圖的繪
9、制帶來了很大的幫助 2022-5-4共41頁27PDK建立要想使用PDK首先要創(chuàng)建Library時建立起和Virtuoso軟件之間的鏈接關系:例:建立Library 在建立Library時需要定義techfile,此時應選擇“Attach to an existing techfile”,“Technology Library”選項中應選擇所采用的PDK,避免以后發(fā)生無法預期的錯誤。2022-5-4共41頁28PDK 中的常用元器件版圖NMOS: PMOS:(poly)&(active)&(nplus)&(psub) (poly)&(active)&(pplus)&(nwell)2022-5-
10、4共41頁29電容: 這是一個28um28um的電容,電容值為566fF。 跟邊上的MOS管比較起來,可見電容在layout中占用面積比率比較大。 電容的計算方式跟平板電容計算方式一樣(C=S/4kd )。2022-5-4共41頁30PNP:一般來說PDK中根據(jù)三極管發(fā)射極的面積提供了多種可供選擇的三極管2022-5-4共41頁31PNP的橫截面圖2022-5-4共41頁32電阻:2022-5-4共41頁33 PDK中的電阻類型比較多,大致可分為三種:擴散電阻、多晶硅電阻、阱電阻。不同類型的電阻其電阻值的取值范圍和阻值精度也是不一樣的。 擴散電阻擴散電阻 擴散電阻是在源漏擴散時形成,有N+擴散
11、和P擴散電阻。在CMOS工藝下,N+擴散電阻是做在PSUB上,P擴散是在N阱里。這類電阻器的阻值估算為RRSL/W(RS為薄層電阻,L,W分別為電阻器的寬度和長 ),其阻值較大,精度一般。2022-5-4共41頁34 多晶硅電阻多晶硅電阻 多晶硅電阻結構較簡單,分為兩種類型,一種用POLY1做阻值區(qū),另一種是用POLY2做阻值區(qū)。多晶硅電阻的方塊電阻最小,但精度最高,隨工藝,電壓和溫度的變化較小,適合高精度場合使用。 阱電阻阱電阻 阱電阻就是一N阱條(或P阱條),兩頭進行N+(P+)擴散以進行接觸。其薄層電阻值一般在1-10K歐/方,屬高阻。其電壓系數(shù)和溫度系數(shù)大,受光照輻射影響也大,但匹配性
12、好,通??捎迷诰纫蟛桓叩牡胤剑缟侠娮杌虮Wo電阻等。 2022-5-4共41頁35二極管CMOS N阱工藝中二極管結構一般有兩種,一是psub-nwell,另一個是sp-nwell,其中SP即P重摻雜,在源漏擴散時形成。SP/N-WELL 二極管存在寄生PNP三極管和較大的串聯(lián)電阻。 2022-5-4共41頁36設計中常見的問題找不到相應的找不到相應的Library原因:原因:n在FTP主文件夾下的“cds.lib”文件中的Library路徑不對n該Library并不存在與cds.lib文件中解決方法 編輯相應的 cds.lib 文件2022-5-4共41頁37不能打開一個 Cellvi
13、ew或編輯一個Cellview 有的時候你在一個Library中不能打開一個或編輯Cellview,這種情況的發(fā)生則說明你并沒有權利訪問該Cellview。解決方式:p改變你的訪問權利 Library Manager Edit Access Permissions form.p使用 UNIX command chmod 來改變你在該Library中的訪問權利(用的很少)2022-5-4共41頁38版圖中的Layout單元消失了A cellview often contains instances of cells from other design libraries. If you open
14、 a cellview that contains instances of cells from a library that the layout editor cannot find, the following happens:n When you try to open the cellview, you see a warning dialog box listing cells that the layout editor cannot findn When you close the dialog box, the cellview opens, but each area containing a missing cell displays a flashing box with an X2022-5-4共41頁39These ares cont
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 土方機械裝配調試工標準化知識考核試卷含答案
- 防水卷材制造工誠信品質測試考核試卷含答案
- 海水淡化工操作評估競賽考核試卷含答案
- 甲殼類繁育工誠信品質競賽考核試卷含答案
- 糧油保管員班組管理考核試卷含答案
- 液化氣體生產(chǎn)工成果評優(yōu)考核試卷含答案
- 油氣管道維護工安全理論競賽考核試卷含答案
- 攪拌工班組管理強化考核試卷含答案
- 皮革及皮革制品加工工安全管理水平考核試卷含答案
- 井下充填制備工安全培訓效果競賽考核試卷含答案
- 2024年聯(lián)勤保障部隊專業(yè)技能類文職人員招考2067人筆試備考題庫及完整答案詳解1套
- 孤立性漿細胞瘤影像診斷
- 建筑設計防火規(guī)范-實施指南
- 汾酒營銷活動方案
- 口腔科職業(yè)暴露與防護
- 咨詢公司文檔管理制度
- CJ/T 511-2017鑄鐵檢查井蓋
- 智能采血管理系統(tǒng)功能需求
- 團體標準解讀及臨床應用-成人經(jīng)鼻高流量濕化氧療技術規(guī)范2025
- 石材廢渣處理協(xié)議書
- 資產(chǎn)移交使用協(xié)議書
評論
0/150
提交評論