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文檔簡介

1、會計學(xué)1TEM像襯像襯第一頁,共87頁。試樣各部分(b fen)質(zhì)量與厚度不同造成的顯微像上的明暗差別叫質(zhì)厚襯度。 復(fù)型和非晶態(tài)物質(zhì)(wzh)試樣的襯度是質(zhì)厚襯度 質(zhì)厚襯度的基礎(chǔ): 1.試樣原子對入射電子的散射 2.小孔徑角成象。第1頁/共86頁第二頁,共87頁。把散射角大于的電子擋掉,只允許散射角小于的電子通過物鏡(wjng)光闌參與成象。第2頁/共86頁第三頁,共87頁。第3頁/共86頁第四頁,共87頁。 樣品上的厚區(qū),入射電子(dinz)受到散射的次數(shù)多,散射角大,易被物鏡光闌擋住,成象電子(dinz)少,為暗襯度。 樣品上的薄區(qū), 入射電子(dinz)受到散射的次數(shù)少,散射角小, 進(jìn)入

2、光闌孔成象電子(dinz)多,為亮襯度。第4頁/共86頁第五頁,共87頁。 入射電子的散射幾率和原子性質(zhì)有關(guān)。 同樣的幾何厚度,重原子對電子的散射能力(nngl)強(qiáng), 大, 被物鏡光闌擋掉的電子多,相應(yīng)的區(qū)域為暗襯度。 輕原子對電子的散射能力(nngl)弱,小, 被物鏡光闌擋掉的電子少,相應(yīng)的區(qū)域為亮襯度。 元素不同造成的襯度叫質(zhì)量襯度。第5頁/共86頁第六頁,共87頁。第6頁/共86頁第七頁,共87頁。第7頁/共86頁第八頁,共87頁。第8頁/共86頁第九頁,共87頁。第9頁/共86頁第十頁,共87頁。第10頁/共86頁第十一頁,共87頁。第11頁/共86頁第十二頁,共87頁。第12頁/共8

3、6頁第十三頁,共87頁。第13頁/共86頁第十四頁,共87頁。 非晶TiO2螺線管 Al2O3納米(n m)粒子 第14頁/共86頁第十五頁,共87頁。Fe2O3納米(n m)棒 Fe2O3納米(n m)環(huán) 第15頁/共86頁第十六頁,共87頁。襯度。襯度。第16頁/共86頁第十七頁,共87頁。第17頁/共86頁第十八頁,共87頁。衍射(ynsh)襯度衍射(ynsh)襯度通常是單束成像襯度.成像時用透射束或 者 用 衍 射(ynsh)束.圖中用透射束成像第18頁/共86頁第十九頁,共87頁。透射(tu sh)束衍射(ynsh)束衍射束像面第19頁/共86頁第二十頁,共87頁。明場像 中心(zh

4、ngxn)暗場像 第20頁/共86頁第二十一頁,共87頁。明場像: 用透射束成像.暗場像: 用單束衍射束成像中心暗場像: 用束傾斜裝置把衍射束調(diào)到主軸(zhzhu)上成像,使成像的衍射束通過電鏡中軸,以減小球差,獲得較高質(zhì)量的圖象。第21頁/共86頁第二十二頁,共87頁。明場像 暗場(nchng)像 第22頁/共86頁第二十三頁,共87頁。晶體缺陷分析:晶體缺陷有點缺陷、線缺陷和面(h min)缺陷三類。顯微組織分析:組織形態(tài),大小,分布 第23頁/共86頁第二十四頁,共87頁。點點點缺陷的特點是在空間三維方向上的尺寸都很小,約為幾個原子間距,又稱零維缺陷。常見(chn jin)的點缺陷有三種

5、,即空位、間隙原子和置換原子。第24頁/共86頁第二十五頁,共87頁。 各種類型的位錯統(tǒng)稱為線缺陷。 線缺陷特點(tdin)是原子發(fā)生錯排的范圍直徑很?。▋H有35個原子間距),長度很大(可達(dá)數(shù)百個原子間距以上),形成管狀原子畸變區(qū)。 位錯包括兩種基本類型: 刃型位錯 螺型位錯第25頁/共86頁第二十六頁,共87頁。第26頁/共86頁第二十七頁,共87頁。第27頁/共86頁第二十八頁,共87頁。 晶體的面缺陷(quxin)包括晶體的外表面(表面或自由界面)和內(nèi)界面兩類。其中的內(nèi)界面又有晶界、亞晶界、孿晶界、堆垛層錯和相界等。第28頁/共86頁第二十九頁,共87頁。第29頁/共86頁第三十頁,共8

6、7頁。第30頁/共86頁第三十一頁,共87頁。第31頁/共86頁第三十二頁,共87頁。第32頁/共86頁第三十三頁,共87頁。明場像 暗場(nchng)像 第33頁/共86頁第三十四頁,共87頁。第34頁/共86頁第三十五頁,共87頁。Al合金(hjn)的小角度晶界第35頁/共86頁第三十六頁,共87頁。第36頁/共86頁第三十七頁,共87頁。第37頁/共86頁第三十八頁,共87頁。第38頁/共86頁第三十九頁,共87頁。第39頁/共86頁第四十頁,共87頁。第40頁/共86頁第四十一頁,共87頁。三組(sn z)位錯交互作用產(chǎn)生的位錯網(wǎng)第41頁/共86頁第四十二頁,共87頁。零襯度線均垂直于

7、同一g,說明膜厚均勻,無彎曲(wnq).蝶形襯度兩翼不對稱,說明質(zhì)點分布在試樣的不同深度.第42頁/共86頁第四十三頁,共87頁。第43頁/共86頁第四十四頁,共87頁。第44頁/共86頁第四十五頁,共87頁。明場像 中心(zhngxn)暗場像 第45頁/共86頁第四十六頁,共87頁。第46頁/共86頁第四十七頁,共87頁。明場像 中心(zhngxn)暗場像 第47頁/共86頁第四十八頁,共87頁。粒狀貝氏體鐵素體基體(j t)上的(MA)小島第48頁/共86頁第四十九頁,共87頁。CuFeB合金中的納米(n m)析出相明場像 暗場(nchng)像 第49頁/共86頁第五十頁,共87頁。中碳鋼

8、中珠光體W18Cr4V鋼第50頁/共86頁第五十一頁,共87頁。第51頁/共86頁第五十二頁,共87頁。FAFA第52頁/共86頁第五十三頁,共87頁。第53頁/共86頁第五十四頁,共87頁。室溫(sh wn)衍射花樣 高溫衍射(ynsh)花樣 第54頁/共86頁第五十五頁,共87頁。除透射束外,還同時讓一束或多束的衍射束參與成像。由于各束的相位相干作用而得到晶格(條紋)像或晶體結(jié)構(gòu)(原子)像。用來成象的衍射束(透射束可視為零級衍射束)愈多,得到的晶體結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)(xji)愈豐富。第55頁/共86頁第五十六頁,共87頁。衍射(ynsh)襯度(振幅襯度)第56頁/共86頁第五十七頁,共87頁。1.

9、電子束通過試樣,相位受到晶體勢場的調(diào)制(tiozh),在試樣下表面處得到帶有晶體結(jié)構(gòu)信息的物面波0(r).2. 物面波0(r)經(jīng)過物鏡的作用,在后焦面上(min shn)得到衍射束,用衍射波函數(shù)Q(g)表示。物鏡好象起了頻譜分析器的作用,把物面波中的透射波和各級衍射波分開來。從數(shù)學(xué)上講,物鏡對0(r)進(jìn)行了一次富氏變換。記作Q(g)=F0 (r)物面波0(r) 衍射波Q(g)Q(g)=F0(r)像面波(r)(r)=(r)=F-1Q(g)第57頁/共86頁第五十八頁,共87頁。物面波0(r) 衍射波Q(g)Q(g)=F0(r)像面波(r)(r)=(r)=F-1Q(g)第58頁/共86頁第五十九頁

10、,共87頁。 rgQrFF 1)(0包含了兩次富氏變換. 第一次,物鏡將物面波分解成各級衍射(ynsh)波,在物鏡后焦面上得到衍射(ynsh)譜。第二次各級衍射(ynsh)波相互干涉,重新組合,得到保留原有相位關(guān)系的像面波,在像平面處得到晶格條紋像。物面波函數(shù) 衍射(ynsh)波函數(shù) 像面波函數(shù)第59頁/共86頁第六十頁,共87頁。相位(xingwi)襯度像的種類原子像:像點與原子柱的投影對應(yīng),可以用原子分布進(jìn)行解釋。 結(jié)構(gòu)像:像點與原子團(tuán)或原子圍成的通道對應(yīng),可以用結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接解釋。 晶格條紋像:像點與晶面間距(jin j)對應(yīng),與原子排列無關(guān)。高分辨像:分辨率很高的像。第60頁/共86頁第

11、六十一頁,共87頁。第61頁/共86頁第六十二頁,共87頁。間隙(jin x)原子空位(kn wi)第62頁/共86頁第六十三頁,共87頁。Fe CuNb3SiB9第63頁/共86頁第六十四頁,共87頁。Fe CuNb3SiB9第64頁/共86頁第六十五頁,共87頁。第65頁/共86頁第六十六頁,共87頁。第66頁/共86頁第六十七頁,共87頁。第67頁/共86頁第六十八頁,共87頁。第68頁/共86頁第六十九頁,共87頁。第69頁/共86頁第七十頁,共87頁。第70頁/共86頁第七十一頁,共87頁。第71頁/共86頁第七十二頁,共87頁。第72頁/共86頁第七十三頁,共87頁。熱 等 靜 壓

12、 燒 結(jié)(shoji)第73頁/共86頁第七十四頁,共87頁?;瘜W(xué)(huxu)氣相沉積第74頁/共86頁第七十五頁,共87頁。第75頁/共86頁第七十六頁,共87頁。第76頁/共86頁第七十七頁,共87頁。藍(lán)寶石上Si外延(wiyn)生長的界面第77頁/共86頁第七十八頁,共87頁。外延生長(shngzhng)的界面第78頁/共86頁第七十九頁,共87頁。第79頁/共86頁第八十頁,共87頁。Abbe成像原理(yunl)第80頁/共86頁第八十一頁,共87頁。 第81頁/共86頁第八十二頁,共87頁。第82頁/共86頁第八十三頁,共87頁。第83頁/共86頁第八十四頁,共87頁。第84頁/共86頁第八十五頁,共87頁。透射電子顯微像的三種像襯度原理. 質(zhì)厚襯度 衍射(ynsh)襯度 相位襯度第85頁/共86頁第八十六頁,共87頁。NoImage內(nèi)容(nirng)總結(jié)會計學(xué)。這個特點在研究晶體內(nèi)部缺陷時很有用.所以廣泛(

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