YW—220堿性蝕銅添加劑使用說明*、背景：傳統(tǒng)意義上，市場(chǎng)上堿性蝕銅鹽一般都添加含硫物質(zhì)，含有含硫物質(zhì)的堿性蝕銅鹽所配制的蝕刻液對(duì)抗蝕膜（如鍍金、鎳層等）要求高，蝕刻條件要求苛刻，使用量較大，蝕速慢，容易造成鍍金層變色，后處理要求嚴(yán)格等缺點(diǎn)。*、突破：盈旺公司是一家銷售專用試劑,金屬清洗劑的專業(yè)化公司，經(jīng)過多年探索、試驗(yàn)，研究出堿性蝕刻的換代產(chǎn)品YW—220堿性添加劑（以下簡稱YW—220），YW—220具有以下優(yōu)點(diǎn)：蝕刻速度快、穩(wěn)定，正常使用蝕刻速率可達(dá)2.5～5.0mil/min。適用性廣，可用在多類型阻擋層，如金、鎳、錫、鉛錫合金及油墨，液體成像阻擋層干膜成像等。蝕銅多，母液比重可達(dá)26～29波美度，含銅達(dá)140～180g/L。側(cè)蝕小，含多種有效成份，最大限度減少側(cè)蝕。后處理沖洗簡單，減少因清洗不凈而導(dǎo)致線路通路，綠油起泡等現(xiàn)象。單液（子液），穩(wěn)定性好，不易結(jié)晶，不易沉淀。母液易回收，可配合電解回收機(jī)使用,實(shí)現(xiàn)蝕刻廢液的循環(huán)再用。低（無）硫配方，減少鍍金板子的變色。*、性狀：YW—220為白色結(jié)晶*、包裝：10kg/包裝(可根據(jù)客戶要求定包裝)*、用量：5.0噸子液/包裝(可根據(jù)客戶要求定包裝)*、蝕刻子液配制方法1(以配制1000L蝕刻液計(jì))：氯化銨（NH4CL）：225kg---275kg碳酸氫銨：20kg---25kg氨水（20％）：400～425kg水：約300CH—220：2kg(或根據(jù)包裝說明)操作：把計(jì)算量的水預(yù)先預(yù)熱至70～90℃，并加入攪拌缸。加入計(jì)算量氯化銨及碳銨。攪拌約20分鐘（如水溫較高，可減少攪拌時(shí)間）。按次序分別加入計(jì)算量的CH—220,氨水。YW-220氨性蝕銅助劑第1頁共9頁攪拌至所有鹽溶解。取樣分析,根據(jù)分析結(jié)果用水或氨水加至標(biāo)準(zhǔn)液位。過濾溶液，抽入儲(chǔ)存缸。方法2(以配制1000L藥液計(jì))氯化銨:225—275kg碳酸氫銨:20---25kg氨水(11.70%):825L---850LCH—220:2.0kg(或與供應(yīng)商協(xié)定)操作:把氨水(20%)用水稀釋成11.7%(11.7%氨水比重為0.9560)往攪拌缸中加入氯化銨及碳酸氫銨及CH—220往攪拌缸中加入計(jì)算量11.70%的氨水。攪拌至所有鹽溶解。過濾,泵入儲(chǔ)存缸。備注:攪拌缸底部設(shè)計(jì)成漏斗形,并裝有放水閥。*、分析特征：比重：1.0～5.0波美度。堿含量：6.0～6.5N/L。氯離子：160g/L～180g/L。堿（N/L）/鹽離子（氯化銨+碳銨*2）=（1.05—1.1）/1單位：換算為N/L。*、CH—220配制的蝕銅液操作狀況：溫度：45～55℃。YW-220氨性蝕銅助劑第2頁共9頁P(yáng)H值：8.0～9.0。比重：24～28波美度。銅含量130～160g/L。氯含量：160～200g/L。*、控制程序：人工控制：分析母液含銅量（或比重），如達(dá)150g/L，則放去10％～20％工作液，補(bǔ)充子液至最高液位，或比重達(dá)28波美度，放掉約1/4母液，加子液至最高液位。自動(dòng)控制：將比重調(diào)至24～28波美度。*、子液分析見YW—220溶液的分析部分。*、YW—220儲(chǔ)存：存放于陰涼通風(fēng)處，禁太陽暴曬，嚴(yán)禁與酸性及氧化性雜質(zhì)存放一起，正常儲(chǔ)存可保證12個(gè)月有效期。*、附注：YW—220高速蝕刻鹽（液）的YW—220溶液的分析。YW—220母液的回收。蝕刻常見異常及處理。YW—220高速蝕刻鹽（液）的分析：所需試劑：氨水溶液5％鉻酸鈉2％醋酸0.1N硝酸銀標(biāo)準(zhǔn)溶液MX指示劑0.1MEDTA標(biāo)準(zhǔn)溶液氯含量分析:取10mLYW—220蝕刻液，置於250mL容量瓶中。往容量瓶中加2～3mL氨水，用蒸餾水稀釋至刻度。從250mL容量瓶中吸取5mL溶液，放入250mL錐形瓶中。加30mL蒸餾水。加1mL5％鉻酸鈉指示劑。另加15mL2％醋酸，溶液變亮黃色。用標(biāo)準(zhǔn)0.1N硝酸銀溶液滴定至橙色。計(jì)算：氯含量（g/L）=17.75*(0.1N硝酸銀溶液毫升數(shù)銅含量分析：取上述稀釋YW—220蝕銅液10mL，放入250mL錐形瓶中。加50mL蒸餾水。YW-220氨性蝕銅助劑第3頁共9頁加氨水?dāng)?shù)滴至清亮深藍(lán)色。加MX指示劑0.1克。用標(biāo)準(zhǔn)0.1MEDTA溶液滴定至紫紅色。計(jì)算：銅含量（g/L）=（15.885）*(0.1MEDTA溶液毫升量)堿當(dāng)量。藥劑：HCL標(biāo)準(zhǔn)液，精密PH計(jì)（使用前經(jīng)校驗(yàn)）取5mL藥液于250mL燒杯中，加約50mL蒸餾水以精密PH計(jì)探頭放入燒杯中。緩慢滴入HCL標(biāo)準(zhǔn)液，同時(shí)不斷搖動(dòng)燒杯（同一旋轉(zhuǎn)方向）至PH=5.6～5.7時(shí)止。4．紀(jì)錄HCL讀數(shù)F。5．計(jì)算：堿當(dāng)量=鹽酸的當(dāng)量濃度*F。YW—220型母液的回收：原料：YW—220型母液，簡稱為堿性母液。HCL或NH4CL—HCL型蝕刻母液或HCL—H2O型蝕刻母液，簡稱為酸性母液（要求不含鈉離子）。原理：OH-+H+→H2O。OH-來自堿性母液。H-來自酸性母液。操作：分別分析堿性母液的OH-及酸性母液的H+含量。以約1:1當(dāng)量比例分別往缸中加入酸性母液及堿性母液。攪拌均勻（視情況加適量水）取樣分析其酸堿度（精密PH計(jì)分析）*中和點(diǎn)PH值為5.6～5.7。根據(jù)分析結(jié)果，以酸性（堿性）母液作微調(diào)。重復(fù)3～5操作至中和PH值在5.6～5.7間。靜置，沉淀約5～6小時(shí)以上（離心分離效果更好）。上層清液抽入儲(chǔ)存缸。把下層沉漿送過濾。YW-220氨性蝕銅助劑第4頁共9頁濾渣打包裝（袋）待出售，濾液送往儲(chǔ)存缸。儲(chǔ)存缸中液體經(jīng)分析其氯離子含量，計(jì)算含氯化銨量：氯化銨量（g/L）=1.5*氯離子含量（g/L）氯化銨量（kg）=1.5*氯離子含量（g/L）*回收液用量（L）1000備注：蝕刻液成本核算氯化銨：250ⅹ1.0=250碳銨：25ⅹ1.0=25氨水：425ⅹ0.6=255添加劑：＜100合計(jì)：＜625/t每kg蝕刻液可蝕刻約1m2，約0.6～0.7/m2，回收銅泥濾渣的價(jià)格≥蝕刻液的成本，故回收母液中銅的話，該蝕刻工藝可做到成本為零。蝕刻常見異常狀況及處理YW—220配制的蝕刻液較市場(chǎng)上常見的蝕刻鹽配制的蝕刻鹽穩(wěn)定，但由于機(jī)器操作、工人經(jīng)驗(yàn)等方面的原因，在適應(yīng)廠家的用法上難免會(huì)出現(xiàn)一段磨合過程,難免會(huì)出現(xiàn)一樣異?，F(xiàn)象,但仍有規(guī)律可尋，主要我們對(duì)以下幾個(gè)方面加以注意，可減少異常現(xiàn)象：加強(qiáng)為待蝕刻板子的檢驗(yàn)，對(duì)油墨附著力是否硬化，有無滲油，絲印質(zhì)量板材是否變形等有害蝕刻的因素檢驗(yàn)仔細(xì)清楚。加強(qiáng)為蝕刻機(jī)的日常維護(hù)，開機(jī)前檢查噴嘴是否正常，噴壓是否正常，輸送及搖擺是否正常等。蝕刻過程對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行監(jiān)控，如溫度、壓力、母液比重等。加強(qiáng)對(duì)后處理段的監(jiān)控，對(duì)循環(huán)水，擦棍等進(jìn)行維護(hù)與檢修。使用專用脫墨劑脫除油墨常見異?，F(xiàn)象及處理，a.壓力下降，蝕速下降：原因：過濾網(wǎng)或泵堵塞。處理：清洗過濾網(wǎng)或泵。b.壓力不變，比重不變，蝕速下降：原因1：噴嘴脫落。處理：停機(jī)把噴嘴維修后再開機(jī)原因2：冷卻（保溫）系統(tǒng)失靈。處理：維修保溫系統(tǒng)。c.殘銅：原因1：蝕速過快。處理：放慢蝕速。原因2：溫度過低。處理：升高溫度。原因3：含銅量（比重）低。處理：降低蝕速，少加子液，至比重至標(biāo)準(zhǔn)值后調(diào)節(jié)蝕速。原因4：含銅量（比重）高。處理：多加子液，同時(shí)注意調(diào)節(jié)蝕速，至比重為標(biāo)準(zhǔn)值時(shí)調(diào)節(jié)控制器及蝕速。d.過蝕：YW-220氨性蝕銅助劑第5頁共9頁原因1：蝕速過慢。處理：調(diào)快蝕刻速度，或降低蝕刻溫度。原因2：母液比重過低。處理：少添加子液，找含銅廢料浸泡，至達(dá)標(biāo)準(zhǔn)比重后蝕刻。e.藥液出現(xiàn)沉淀：原因1：意外進(jìn)水。處理：更換原合格母液。原因2：控制器失靈至母液比重過高。處理：排掉部分母液，加子液適量，空轉(zhuǎn)至沉淀少至3cm時(shí)止，同時(shí)調(diào)校好比重控制器。f.蝕刻出現(xiàn)掉油墨現(xiàn)象：原因1：油墨附著力差或未干。處理：待油墨干透（硬化）后蝕刻，如油墨附著力太差則考慮更換油墨。原因2：比重過低導(dǎo)至PH過高。處理：調(diào)節(jié)母液比重至正常值。原因3：壓力過高。處理：降低蝕刻噴壓。添加劑使用量為蝕刻400--500平方米/1.0公斤添加劑（1安士單面板計(jì)）.電解法回收:使用隔膜電解法,并適量補(bǔ)充氯化銨為佳,電解后蝕刻液含銅在70—100g/L為佳,定期分析母液的銅離子,氯離子,碳酸離子及堿含量,并適量補(bǔ)充氯化銨,氨水,碳銨及添加劑。YW—220堿性添加劑溶解：加5倍氨水?dāng)嚢枞芙馓砑釉瓌t：小量勤加計(jì)算YW—220堿性添加劑用量（公斤）=40公斤/1000公斤電解銅最佳添加量（每次）：30--50公斤電解銅，按比例計(jì)算YW—220用量本添加劑可用于氨水---銨鹽蝕刻銅---電積銅系統(tǒng)本添加劑可用于氨水---銨鹽蝕刻銅---萃銅---電積銅系統(tǒng)氨性蝕銅鹽的配制原料：氯化銨，碳酸氫銨，CH-220氨性蝕銅助劑。配比（每包成品25公斤或28公斤）：YW-220氨性蝕銅助劑第6頁共9頁氯化銨（工業(yè)級(jí)或農(nóng)用級(jí)）22.5-25KG碳酸氫銨（工業(yè)級(jí)或農(nóng)用級(jí)）2.25-2.5KG氯化銨/碳酸氫銨≈10/1（質(zhì)量比）CH-220氨性蝕銅助劑操作：1.稱取計(jì)算量的碳酸氫銨及CH-220氨性蝕銅助劑，混合均勻。2.稱取計(jì)算量的氯化銨加入混合缸中，混合均勻。3.出料，包裝氨性蝕刻鹽的成分及其作用氯化銨，銅離子的絡(luò)合劑，與氨水按一定量配比后形成緩沖溶液及銅離子穩(wěn)定劑，可使銅離子穩(wěn)定存在于水溶液中，是蝕刻液的主要成份。蝕刻液中的氯離子應(yīng)維持在一定范圍（約5.0—55mol/L）。碳酸氫銨：PH值穩(wěn)定劑，與氨水組成緩沖溶液，在一定范圍內(nèi)維持溶液PH值，從而保證蝕刻質(zhì)量。CH-220氨性蝕刻助劑：能加快蝕刻速度，保證蝕刻質(zhì)量。在普通氨性蝕銅液中加入適量的CH-220，可使蝕刻速度增加50%-300%，并使蝕銅量增加10-50%。說明：CH-220的添加量需在合理范圍，含量低效果不明顯，含量達(dá)到某一數(shù)值后再增加用量效果增速下降。氨性蝕銅助劑在銅氨液再生系統(tǒng)中的應(yīng)用。氨性含銅液回收銅并再生蝕刻液的方法有3種：1.酸氨中和調(diào)節(jié)法2.萃取—電積法YW-220氨性蝕銅助劑第7頁共9頁3.隔膜電解法酸堿（氨）中和法使用酸性含銅液和氨性含銅液中和到一定PH(5.65—5.75)值，使銅變?yōu)殂~泥（堿式或酸式氯化銅沉淀），從而得到含氯化銨溶液作為原料的一種方法。詳見前頁介紹。萃取—電積法使用銅萃取劑從銅氨液萃取銅，經(jīng)洗滌后，再用含酸較重的稀硫酸銅從萃取劑中反萃銅，形成高銅硫酸液，含銅較高的硫酸液去電積槽電積提銅。萃取—電積法歷史悠久，工藝穩(wěn)定，是提銅的較好方法。但對(duì)于氨銅液來說，萃取劑會(huì)殘留于銅氨液中，用強(qiáng)氧化劑方式也許會(huì)去除部分萃取劑（萃取劑的存在明顯減低蝕刻速度）。強(qiáng)氧化劑（雙氧水）的殘留會(huì)導(dǎo)致氨性蝕銅助劑變質(zhì)，因而此方法添加助劑只能使用在線補(bǔ)充的方法。隔膜電解（積）法使含銅較高的氨銅液在含離子隔膜的電解槽中電積提取銅，從原理（理論）上說，此方法最好，能耗較低，能一次性得到價(jià)值較高的金屬銅。但此方法陰極電積銅板不能厚，需經(jīng)常換陰極。優(yōu)點(diǎn)：1.可直接得到金屬銅.2.有效成份損耗小。缺點(diǎn)：1.電提取銅設(shè)備造價(jià)較高（此萃取法低）2.電積時(shí)陰極板不能電較厚銅。YW-220氨性蝕銅助劑第8頁共9頁展望：世界的發(fā)展，社會(huì)的進(jìn)步，環(huán)保，循環(huán)經(jīng)濟(jì)為潮流，隔膜電解（積）法為最有競爭力的處理工藝，當(dāng)高效的電積槽，專用添加劑出現(xiàn)后，隔膜電積法綜合成本及效能較好。專業(yè)于退錫（鍍）工藝及添加劑，浸取-電解法回收金屬工藝及添加劑。***《》內(nèi)文章可見QQ13532