標準解讀

《GB/T 13387-1992 電子材料晶片參考面長度測量方法》是一項由中國發(fā)布的國家標準，旨在規(guī)定電子材料領域內(nèi)晶片參考面長度的測量原則、程序和要求，以確保測量結(jié)果的準確性和可比性。該標準適用于半導體材料、集成電路基板等電子材料晶片參考面長度的測定。以下是該標準的主要內(nèi)容概述：

  1. 范圍：明確了本標準適用的對象為電子材料晶片，特別是其參考面上的長度測量。參考面通常指晶片加工或特性評估中作為基準的平面。

  2. 術語和定義：對涉及的術語進行了明確界定，如晶片、參考面、長度等基本概念，確保了在執(zhí)行測量時各方有統(tǒng)一的理解基礎。

  3. 測量原理：介紹了采用光學、電子顯微鏡或其他合適手段進行長度測量的基本原理，這些方法需保證非接觸、高精度且不對晶片造成損傷。

  4. 測量設備：詳細說明了用于測量的儀器設備應滿足的要求，包括但不限于分辨率、精度、重復性等技術指標，確保測量工具的可靠性。

  5. 樣品制備與處理：規(guī)定了晶片在測量前的準備步驟，如清潔、固定等，以避免外部因素干擾測量結(jié)果。

  6. 測量步驟：詳細闡述了測量過程中的具體操作步驟，包括如何定位參考點、選擇合適的測量區(qū)域、實施測量以及數(shù)據(jù)記錄等，確保測量流程的標準化。

  7. 數(shù)據(jù)處理與誤差分析：提供了數(shù)據(jù)處理的方法，如平均值計算、異常值剔除及測量誤差的評估準則，幫助用戶正確分析測量結(jié)果并合理評估不確定性。

  8. 質(zhì)量控制：強調(diào)了實施質(zhì)量控制的重要性，建議通過定期校準測量設備、比對實驗等方式來監(jiān)控和保證測量結(jié)果的準確性。

  9. 安全與環(huán)境保護：簡要提及了在測量過程中應注意的安全措施和環(huán)境保護要求，確保操作人員安全及環(huán)境不受損害。


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  • 被代替
  • 已被新標準代替，建議下載現(xiàn)行標準GB/T 13387-2009
  • 1992-02-19 頒布
  • 1992-10-01 實施
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UDC669.782-172-415：531.71H21中華人民共和國國家標準GB/T133877—92電子材料晶片參考面長度測量方法Testmethodformeasuringflatlengthonslicesofelectronicmaterials1992-02-19發(fā)布1992-10-01實施國家技術監(jiān)督局發(fā)布

中華人民共和國國家標準電子材料晶片參考面長度測量方法GB/T13387-92Testmethodformeasuringflatlengthonslicesofelectronicmaterials主題內(nèi)容與適用范圍本標準規(guī)定了電子材料品片參考面長度的測量方法。本標準適用于測量各種直徑的硅拋光片、研磨片和切割片的參考面長度。i。也適用于測量砷化鏢、藍寶石和乳鏢石榴石等材料品片的參考面長度。2引用標準GB2828逐批檢查計數(shù)抽樣程序及抽樣表(適用于連續(xù)批的檢查）3方法提要利用光學投影儀，把品片參考面投影到顯示屏上，使參考面一端與顯示屏上的基準點對準,記錄測微計讀數(shù)。然后調(diào)節(jié)載物臺，使參考面另一端與基準點對準，再次記錄測微計該數(shù)。兩次讀數(shù)之差即為晶片的參考面長度。4測量儀器4.1光學投影儀，由以下幾部分構(gòu)成4.1.1光學系統(tǒng)，放大倍數(shù)為20倍。4.1.2載物臺.X軸行程應大于品片的參考面長度，Y軸行程為0～25mm，X軸測微計精度優(yōu)于2S：m4.1.3顯示屏，最小直徑為254mm?！?1.4輪廊板，由半透明材料制成,板上有兩條相互垂直的基準線相交于中央，在垂直基準線的中心上下,各有10個1mm間隔的刻度，

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