標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 12964-2003 硅單晶拋光片》標(biāo)準(zhǔn)相比于《GB 12964-1996》,主要在以下幾個(gè)方面進(jìn)行了更新和調(diào)整:
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范圍擴(kuò)展:新標(biāo)準(zhǔn)可能對(duì)硅單晶拋光片的適用范圍進(jìn)行了細(xì)化或拓展,以適應(yīng)技術(shù)進(jìn)步和市場(chǎng)需求的變化,涵蓋了更廣泛的硅單晶材料類型或增加了新的應(yīng)用領(lǐng)域。
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技術(shù)指標(biāo)優(yōu)化:針對(duì)硅單晶拋光片的物理、化學(xué)及電學(xué)性能指標(biāo)進(jìn)行了修訂,可能包括尺寸精度、表面粗糙度、晶體缺陷密度、電阻率均勻性等方面的更嚴(yán)格要求,以提升產(chǎn)品質(zhì)量和一致性。
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檢測(cè)方法改進(jìn):更新了檢測(cè)和測(cè)量方法,引入了更先進(jìn)、精確的測(cè)試技術(shù)和設(shè)備,確保測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性。這可能涉及光學(xué)測(cè)量、掃描電子顯微鏡(SEM)、四探針法電阻率測(cè)量等方面的技術(shù)更新。
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質(zhì)量控制增強(qiáng):加強(qiáng)了生產(chǎn)過程中的質(zhì)量控制要求,可能新增或修訂了有關(guān)原材料篩選、生產(chǎn)環(huán)境、工藝控制、成品檢驗(yàn)等方面的條款,以保證最終產(chǎn)品的高質(zhì)量輸出。
-
標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)與表述:對(duì)標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了調(diào)整,使其更加條理化、清晰易懂。同時(shí),更新了術(shù)語(yǔ)定義,采用國(guó)際通用標(biāo)準(zhǔn)語(yǔ)言,提高了標(biāo)準(zhǔn)的國(guó)際化水平,便于國(guó)內(nèi)外企業(yè)遵循和交流。
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環(huán)保與安全要求:隨著時(shí)代發(fā)展,新標(biāo)準(zhǔn)可能加入了環(huán)境保護(hù)和生產(chǎn)安全的相關(guān)要求,強(qiáng)調(diào)在硅單晶拋光片的制造過程中應(yīng)遵循的環(huán)保規(guī)定和操作安全規(guī)范。
這些變化旨在適應(yīng)科技進(jìn)步、提升產(chǎn)品質(zhì)量、促進(jìn)產(chǎn)業(yè)升級(jí),并與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)接軌,滿足全球市場(chǎng)的需求。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 12964-2018
- 2003-06-16 頒布
- 2004-01-01 實(shí)施
文檔簡(jiǎn)介
犐犆犛29.045
犎82
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
犌犅/犜12964—2003
代替GB/T12964—1996
硅單晶拋光片
犕狅狀狅犮狉狔狊狋犪犾犾犻狀犲狊犻犾犻犮狅狀狆狅犾犻狊犺犲犱狑犪犳犲狉狊
20030616發(fā)布20040101實(shí)施
中華人民共和國(guó)發(fā)布
國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局
書
中華人民共和國(guó)
國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
硅單晶拋光片
GB/T12964—2003
中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社出版發(fā)行
北京西城區(qū)復(fù)興門外三里河北街16號(hào)
郵政編碼:100045
http://www.bzcbs.com
電話:63787337、63787447
2003年10月第一版2004年11月電子版制作
書號(hào):155066·119868
版權(quán)專有侵權(quán)必究
舉報(bào)電話:(010)68533533
書
犌犅/犜12964—2003
前言
本標(biāo)準(zhǔn)修改采用半導(dǎo)體設(shè)備和材料國(guó)際組織標(biāo)準(zhǔn)SEMIM1—0997《硅單晶拋光片規(guī)范》中的有關(guān)
內(nèi)容,對(duì)GB/T12964—1996進(jìn)行修訂而成的。主要在原標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容上增加了直徑200mm直拉硅單
晶拋光片的內(nèi)容。
本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)有色金屬工業(yè)協(xié)會(huì)提出。
本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)有色金屬工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量質(zhì)量研究所負(fù)責(zé)歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)由北京有色金屬研究總院、洛陽(yáng)單晶硅有限責(zé)任公司負(fù)責(zé)起草。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:翟富義、孫燕、董慧燕、盧立延、曹孜、孫文海。
本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為:
———GB/T12964—1991、GB/T12964—1996。
Ⅰ
書
犌犅/犜12964—2003
硅單晶拋光片
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硅單晶拋光片(簡(jiǎn)稱硅拋光片)的必要的相關(guān)性術(shù)語(yǔ)、產(chǎn)品分類、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、
檢測(cè)規(guī)則以及標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存等。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于直拉硅單晶研磨片經(jīng)腐蝕減薄后進(jìn)行單面拋光制備的硅拋光片。產(chǎn)品主要用于制作
集成電路等半導(dǎo)體器件或做為硅外延沉積的襯底。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有
的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而,鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究
是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
GB/T1550—1997非本征半導(dǎo)體材料導(dǎo)電類型測(cè)試方法
GB/T1552—1995硅、鍺單晶電阻率測(cè)定直排四探針法
GB/T1554—1995硅晶體完整性化學(xué)擇優(yōu)腐蝕檢驗(yàn)方法
GB/T1555—1997半導(dǎo)體單晶晶向測(cè)定方法
GB/T1558—1983測(cè)定硅晶體中代位碳含量的紅外吸收方法
GB/T2828—1987逐批檢查計(jì)數(shù)抽樣程序及抽樣表(適用于連續(xù)批的檢查)
GB/T4058—1995硅拋光片氧化誘生缺陷的檢驗(yàn)方法
GB/T6616—1995半導(dǎo)體硅片電阻率及硅薄膜薄層電阻測(cè)定非接觸渦流法
GB/T6618—1995硅片厚度和總厚度變化測(cè)試方法
GB/T6619—1995硅片彎曲度測(cè)試方法
GB/T6620—1995硅片翹曲度非
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