ITO靶材高密度化分析ITO靶材高密度化提高靶材的密度有助于減少毒化現(xiàn)象，并降低電阻率，提高靶材的使用壽命。毒化是指濺射過(guò)程中ITO靶材表面出現(xiàn)凸起物的結(jié)瘤現(xiàn)象，毒化會(huì)導(dǎo)致靶材濺射速率降低，弧光放電頻率增加，所制備的薄膜電阻增加，透光率降低且均勻性變差，此時(shí)必須停止濺射，清理靶材表面或更換靶材。高密度ITO靶材具有較好的熱傳導(dǎo)性和較小的界面電阻，不易在濺射過(guò)程中發(fā)生熱量蓄積，可減少毒化概率。因此，高密度化成為ITO靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)。濺射靶材行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀近年來(lái)我國(guó)對(duì)濺射靶材行業(yè)重視程度不斷提升，各類(lèi)政策出臺(tái)推動(dòng)行業(yè)積極發(fā)展。例如2019年《十四五規(guī)劃和2035年遠(yuǎn)景目標(biāo)剛要》提出集成電路攻關(guān)方面，以重點(diǎn)裝備和高純靶材等關(guān)鍵材料為研發(fā)方向。2021年3月，財(cái)政部、海關(guān)總署等聯(lián)合發(fā)布《關(guān)于支持集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)發(fā)展進(jìn)口稅收政策的通知》，明確對(duì)于國(guó)內(nèi)靶材企業(yè)進(jìn)口國(guó)內(nèi)不能生產(chǎn)、性能不滿足需求的自用生產(chǎn)性原材料及消耗品免征進(jìn)口關(guān)稅。在國(guó)內(nèi)良好的政策環(huán)境和各細(xì)分市場(chǎng)廣闊的市場(chǎng)空間下，國(guó)內(nèi)濺射靶材企業(yè)市占率提升空間大，機(jī)會(huì)逐步開(kāi)啟。隨著政策利好、以及在技術(shù)創(chuàng)新推動(dòng)下芯片、光伏高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)需求不斷釋放，我國(guó)濺射靶材行業(yè)規(guī)模不斷擴(kuò)大。數(shù)據(jù)顯示，2021年我國(guó)濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模達(dá)375．8億元，同比增長(zhǎng)9．7%。預(yù)計(jì)2022年我國(guó)濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到410億元。其中高性能濺射靶材市場(chǎng)在國(guó)家戰(zhàn)略政策支持以及下游眾多應(yīng)用領(lǐng)域需求的支撐下，行業(yè)技術(shù)不斷突破，產(chǎn)品性能不斷提升，帶動(dòng)市場(chǎng)規(guī)模不斷擴(kuò)大。數(shù)據(jù)顯示，2021年我國(guó)高性能濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模由2016年的98．9億元增長(zhǎng)至241．8億元，預(yù)計(jì)2022年市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)288．1億元。ITO靶材市場(chǎng)容量也在不斷擴(kuò)張。有數(shù)據(jù)顯示，2019-2021年，我國(guó)ITO靶材市場(chǎng)容量從639噸增長(zhǎng)到1002噸，年復(fù)合增長(zhǎng)率為25．22%。預(yù)計(jì)2022年我國(guó)ITO靶材市場(chǎng)容量能達(dá)到1067噸。濺射靶材中游分析（一）濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模在經(jīng)濟(jì)快速發(fā)展以及技術(shù)創(chuàng)新推動(dòng)下，我國(guó)芯片、光伏高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)獲得快速發(fā)展，隨著市場(chǎng)需求不斷釋放，濺射靶材行業(yè)規(guī)模將進(jìn)一步擴(kuò)大。在應(yīng)用需求帶動(dòng)下，我國(guó)濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模不斷擴(kuò)大。2021年我國(guó)濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模達(dá)375．8億元，同比增長(zhǎng)9．7％。（二）高性能濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模中國(guó)高性能濺射靶材行業(yè)在國(guó)家戰(zhàn)略政策支持以及下游眾多應(yīng)用領(lǐng)域需求的支撐下，行業(yè)技術(shù)不斷突破，產(chǎn)品性能不斷提升，帶動(dòng)高性能濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模不斷擴(kuò)大。中國(guó)高性能濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模由2016年的98．9億元增長(zhǎng)至2020年的201．5億元，年均復(fù)合增長(zhǎng)率為19．47%，預(yù)計(jì)2022年市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)288．1億元。（三）ITO靶材市場(chǎng)規(guī)模中國(guó)已成為世界上最大的銦靶材需求國(guó)。2019年至2021年，我國(guó)ITO靶材市場(chǎng)容量從639噸增長(zhǎng)到1002噸，年復(fù)合增長(zhǎng)率為25．22%。未來(lái)2-3年內(nèi)，雖然國(guó)內(nèi)平面顯示行業(yè)的固定資產(chǎn)投資增速將有所放緩，但由于平面顯示行業(yè)存量需求及太陽(yáng)能光伏電池的增量需求，國(guó)內(nèi)ITO靶材市場(chǎng)容量仍將保持一定幅度的增長(zhǎng)。預(yù)計(jì)2022年能達(dá)到1067噸，2024年達(dá)到1207噸。（四）濺射靶材競(jìng)爭(zhēng)格局全球靶材市場(chǎng)呈寡頭競(jìng)爭(zhēng)格局，日美在高端濺射靶材領(lǐng)域優(yōu)勢(shì)明顯。目前，全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)主要有四家企業(yè)，分別是JX日礦金屬、霍尼韋爾、東曹和普萊克斯，市場(chǎng)份額分別為30%、20%、20%和10%，合計(jì)壟斷了全球80%的市場(chǎng)份額。濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈中國(guó)濺射靶材上游為各種原材料，包括金屬、合金、陶瓷化合物；中游主要為靶材制造、濺射鍍膜；下游廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、平面顯示、信息存儲(chǔ)、太陽(yáng)能電池、智能玻璃等。中國(guó)濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈上游金屬上市企業(yè)包括新疆眾和、天山鋁業(yè)、銅陵有色、安寧股份、中環(huán)股份等，合金企業(yè)包括江贛鋒鋰業(yè)、興業(yè)礦業(yè)、浙富控股、廈門(mén)鉤業(yè)、寒銳鉆業(yè)等。中游的濺射靶材企業(yè)主要為日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、有研新材、金鉬股份、新疆眾和、隆華科技、江豐電子、康達(dá)新材、阿石創(chuàng)、超卓航科等。下游集成電路企業(yè)包括中芯國(guó)際、長(zhǎng)電科技、韋爾股份、通富微電、華天科技等，太陽(yáng)能電池企業(yè)包括通威股份、隆基綠能、天合光能、晶科能源、TCL中環(huán)等。濺射靶材上游分析2021年國(guó)內(nèi)共生產(chǎn)高純鋁14．6萬(wàn)噸，同比增長(zhǎng)9．77%，根據(jù)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)，2016年中國(guó)的高純鋁產(chǎn)量為11．8萬(wàn)噸，2020年增至13．3萬(wàn)噸，年均復(fù)合增長(zhǎng)率為3．0%。2021年全球經(jīng)濟(jì)復(fù)蘇疊加新能源汽車(chē)需求爆發(fā)，下游需求旺盛，高純鋁產(chǎn)量再創(chuàng)新高。預(yù)計(jì)2022年高純鋁產(chǎn)量將繼續(xù)保持增長(zhǎng)，將達(dá)15．4萬(wàn)噸。以純銅或銅合金制成各種形狀包括棒、線、板、帶、條、管、箔等統(tǒng)稱(chēng)銅材。近年來(lái)中國(guó)銅材產(chǎn)量整體保持增長(zhǎng)趨勢(shì)，2022年9月中國(guó)銅材產(chǎn)量222．1萬(wàn)噸，同比增長(zhǎng)9．5%；1-9月累計(jì)產(chǎn)量1636．6萬(wàn)噸，同比下降0．5%。光伏靶材應(yīng)用場(chǎng)景光伏領(lǐng)域?qū)Π胁牡氖褂弥饕潜∧る姵睾虷IT光伏電池（本征薄膜異質(zhì)結(jié)電池），目前市場(chǎng)主流的晶體硅太陽(yáng)能電池較少用到濺射靶材。其中自2015年三洋的HIT專(zhuān)利保護(hù)結(jié)束后，技術(shù)壁壘消除，HIT電池電池開(kāi)始推廣，近年來(lái)發(fā)展迅速。光伏電池用靶材形成背電極，靶材濺射鍍膜形成的太陽(yáng)能薄膜電池的背電級(jí)主要有三個(gè)用途：第一，它是各單體電池的負(fù)極；第二，它是各自電池串聯(lián)的導(dǎo)電通道；第三，它可以增加太陽(yáng)能電池對(duì)光的反射。目前太陽(yáng)能薄膜電池用濺射靶材主要為方形板狀，純度要求一般在99．99%（4N）以上。其中薄膜電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶（氧化鋁鋅）等，HIT電池則主要使用ITO靶材作為其透明導(dǎo)電薄膜。鋁靶、銅靶主要用于導(dǎo)電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜，ITO靶、AZO靶用于透明導(dǎo)電層薄膜。平板顯示靶材應(yīng)用場(chǎng)景平板顯示主要包括液晶顯示（LCD）、等離子顯示（PDP）、有機(jī)發(fā)光二極管顯示（OLED）等，多由金屬電極、透明導(dǎo)電極、絕緣層、發(fā)光層組成，為了保證大面積膜層的均勻性，提高生產(chǎn)率和降低成本，濺射技術(shù)越來(lái)越多地被用來(lái)制備這些膜層。平板顯示鍍膜用濺射靶材主要品種有：鉬靶、鋁靶、鋁合金靶、鉻靶、銅靶、銅合金靶、硅靶、鈦靶、鈮靶和氧化銦錫（ITO）靶材等。若根據(jù)工藝的不同，F(xiàn)PD行業(yè)用靶材也可大致分為濺射用靶材和蒸鍍用靶材。其中濺射用靶材主要為Cu、Al、Mo和IGZO等材料。蒸鍍用靶材一般為Ag和Mg兩種金屬。Ag和Mg合金一般用于小尺寸OLED面板產(chǎn)線中的陰極制作。除此以外，Ag也可以作為頂發(fā)射OLED器件中的陽(yáng)極反射層使用。薄膜晶體管液晶顯示面板TFT-LCD由大量的液晶顯示單元陣列組成（如4K分辨率的屏幕含有800多萬(wàn)個(gè)顯示單元陣列），而每一個(gè)液晶顯示單元，都由一個(gè)單獨(dú)的薄膜晶體管（TFT）所控制和驅(qū)動(dòng)。薄膜晶體管陣列的制作原理，是在真空條件下，利用離子束流去轟擊靶材，使固體表面的原子電離后沉積在玻璃基板上，經(jīng)過(guò)反復(fù)多次的沉積+刻蝕，一層層（一般為7－12層）地堆積制作出薄膜晶體管陣列。OLED典型結(jié)構(gòu)是在氧化銦錫（ITO）玻璃上制作一層幾十納米厚的發(fā)光材料，ITO透明電極作為器件的陽(yáng)極，鉬或者合金材料作為器件的陰極。從陰陽(yáng)2極分別注入電子和空穴，在一定電壓驅(qū)動(dòng)下，被注入的電子和空穴分別經(jīng)過(guò)電子傳輸層和空穴傳輸層遷移到發(fā)光層并復(fù)合，形成激子并使發(fā)光分子產(chǎn)生單態(tài)激子，單態(tài)激子衰減發(fā)光。濺射靶材發(fā)展趨勢(shì)近年來(lái)我國(guó)對(duì)濺射靶材行業(yè)重視程度不斷提升，各類(lèi)政策出臺(tái)推動(dòng)行業(yè)積極發(fā)展，明確對(duì)于國(guó)內(nèi)靶材企業(yè)進(jìn)口國(guó)內(nèi)不能生產(chǎn)、性能不滿足需求的自用生產(chǎn)性原材料及消耗品免征進(jìn)口關(guān)稅。在國(guó)內(nèi)良好的政策環(huán)境和各細(xì)分市場(chǎng)廣闊的市場(chǎng)空間下，國(guó)內(nèi)濺射靶材企業(yè)市占率提升空間大，機(jī)會(huì)逐步開(kāi)啟。此外高性能濺射靶材是顯示面板、半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池、記錄媒體不可缺少的原材料，進(jìn)而廣泛應(yīng)用于消費(fèi)電子、智能家電、通信照明、光伏、計(jì)算機(jī)、工業(yè)控制、汽車(chē)電子等多個(gè)下游應(yīng)用領(lǐng)域。我國(guó)是全球最大的消費(fèi)電子產(chǎn)品生產(chǎn)國(guó)、出口國(guó)和消費(fèi)國(guó)，也是全球最大的集成電路半導(dǎo)體消費(fèi)國(guó)和進(jìn)口國(guó)，在最終下游眾多生產(chǎn)及消費(fèi)領(lǐng)域的需求驅(qū)動(dòng)了我國(guó)高性能濺射靶材行業(yè)快速增長(zhǎng)。因此，未來(lái)高性能濺射靶材行業(yè)高速成長(zhǎng)的確定性較高，基本不會(huì)受到偶發(fā)性或突發(fā)性因素影響。隨著全球平面顯示、半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池、記錄存儲(chǔ)等行業(yè)生產(chǎn)規(guī)模持續(xù)擴(kuò)張，直接帶動(dòng)了高性能濺射靶材行業(yè)的發(fā)展，使得中國(guó)國(guó)內(nèi)濺射靶材使用量快速增長(zhǎng)，給國(guó)內(nèi)濺射靶材廠商帶來(lái)良好的發(fā)展機(jī)遇。濺射靶材指采用物理氣相沉積技術(shù)在基材上制備薄膜的原材料，靶材是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，更換不同的靶材可以得到不同的薄膜。濺射靶材是PVD（物理氣相沉積）領(lǐng)域內(nèi)應(yīng)用量最大的鍍膜材料。濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用荷能粒子（通常是離子），在真空中經(jīng)過(guò)加速聚集，而形成高速度能的粒子束流，轟擊固體表面，粒子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基板表面，被轟擊的固體即為濺射靶材。濺射靶材的種類(lèi)較多，即使相同材質(zhì)的濺射靶材也有不同的規(guī)格。按照不同的分類(lèi)方法，可將濺射靶材分為不同的類(lèi)別。濺射技術(shù)作為薄膜材料制備的主流工藝，其應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，如平面顯示、集成電路半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池、信息存儲(chǔ)、工具改性、光學(xué)鍍膜、電子器件、高檔裝飾用品等行業(yè)。濺射靶材產(chǎn)業(yè)集中度高、技術(shù)門(mén)檻高、設(shè)備投資大，具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對(duì)較少，國(guó)內(nèi)高性能濺射靶材市場(chǎng)尚處于發(fā)展初期，具有規(guī)模化生產(chǎn)能力和較強(qiáng)研發(fā)能力的廠商數(shù)量仍然偏少，隨著全球分工及產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移，國(guó)內(nèi)廠商正處于對(duì)國(guó)際廠商的加速替代過(guò)程中，已有如江豐電子、阿石創(chuàng)、有研新材、隆華科技、先導(dǎo)薄膜、歐萊新材以及映日科技等公司掌握了高性能濺射靶材研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)節(jié)的相關(guān)