制造技術(shù)部制程講義蝕刻第1頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三一干膜成份的簡(jiǎn)介1.干膜的介紹：

干膜是一種高分子的化合物，它通過(guò)紫外線的照射后能夠產(chǎn)和一種聚合反應(yīng)形成一種穩(wěn)定的物質(zhì)附著于板面，從而達(dá)到阻擋電鍍和蝕刻的功能。第2頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三2.干膜的分類依據(jù)厚度的不同干膜可以分為三類：

1.2mil、1.5mil、2.0mil1.2mil干膜主要用于內(nèi)層板作業(yè)1.5mil、干膜主要用于外層板作業(yè)當(dāng)然也可以用于內(nèi)層板作業(yè)但由于較厚在蝕刻的過(guò)程中容易造成側(cè)蝕而且成本相對(duì)較高，所以一般不使用其作內(nèi)層。第3頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三2.0mil干膜主要用于一些較特殊的要求的板比如說(shuō)較大的二次孔1.5mil干膜無(wú)法達(dá)到要求時(shí)才使用到。干膜品牌較多如杜邦、長(zhǎng)興、日立，本公司目前使用杜邦干膜。第4頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三

干膜的分類一般分為三層，一層是PE保護(hù)膜，中間是干膜層，另一個(gè)是PET保護(hù)層。PE層和PET層都只是起保護(hù)作用的在壓膜前和顯影前都有必須要去掉的，真正起作用的是中間一層干膜，它具有一定的粘性和良好的流動(dòng)性。其主要成分如下：

PE層D/F層PET層

3.干膜的組成第5頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三

（1）粘合劑

作為光致抗蝕劑的成膜劑，使感光膠各組份粘結(jié)成膜，起抗蝕劑偽骨架作用，它在光致聚合過(guò)程中不參與化學(xué)反應(yīng)。要求粘結(jié)劑具有較好的成膜性；第6頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三

與光致抗蝕劑的各組份有較好的互溶性；與加工金屬表面有較好的附著力；它很容易從金屬表面用堿溶液除去；有較好的抗蝕、抗電鍍、抗冷流、耐熱等性能。粘結(jié)劑通常是酯化或酰胺化的聚苯乙烯——順丁烯二酸酐樹脂(聚苯丁樹脂)。第7頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三

（2）光聚合單體它是光致抗蝕劑膠膜的主要組份，在光引發(fā)劑的存在下，經(jīng)紫外光照射發(fā)生聚合反應(yīng)，生成體型聚合物，感光部分不溶于顯影液，而未曝光部分可通過(guò)顯影除去，從而形成抗蝕圖像。多元醇烯酸酯類及甲基丙烯酸酯類是廣泛應(yīng)用的聚合單體，例如季戊四醇三丙烯酸酯是較好的光聚合單體。第8頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三

在紫外光線照射下，光引發(fā)劑吸收紫外光的能量產(chǎn)生游離基，而游離基進(jìn)一步引發(fā)光聚合單體交聯(lián)。干膜光致抗蝕劑通常使用安息香醚、叔丁基恿醌等作光引發(fā)劑。

4)增塑劑

可增加干膜抗蝕劑的均勻性和柔韌性。三乙二醇雙醋

酸脂可作為增塑劑。

（3）光引發(fā)劑第9頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三(5)增粘劑

可增加干膜光致抗蝕劑與銅表面的化學(xué)結(jié)合力，防止因粘結(jié)不牢引起膠膜起翹、滲鍍等弊病。常用的增粘劑如苯并三氮唑。

(6)熱阻聚劑

在干膜的生產(chǎn)及應(yīng)用過(guò)程中，很多步驟需要接受熱能，為阻止熱能對(duì)干膜的聚合作用加入熱阻聚劑。如甲氧基酚、對(duì)苯二酚等均可作為熱阻聚劑。

第10頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三(7)色料為使干膜呈現(xiàn)鮮艷的顏色，便于修版和檢查而添加色料。如加入孔雀石綠、蘇丹三等色料使干膜呈現(xiàn)鮮艷的綠色、蘭色等。(8)溶劑

為溶解上述各組份必須使用溶劑。通常采用丙酮、酒精作溶劑。此外有些種類的干膜還加入光致變色劑，使之在曝光后增色或減色，以鑒別是否曝光，這種干膜又叫變色于膜。第11頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三4.干膜的儲(chǔ)存干膜在儲(chǔ)存過(guò)程中可能由于溶劑的揮發(fā)而變脆，也可能由于環(huán)境溫度的影響而產(chǎn)生熱聚·合，或因抗蝕劑產(chǎn)生局部流動(dòng)而造成厚度不均勻(即所謂冷流)，這些都嚴(yán)重影響干膜的使用。因此在良好的環(huán)境里儲(chǔ)存干膜是十分重要的。技術(shù)要求規(guī)定，干膜應(yīng)儲(chǔ)存在陰涼而潔凈的室內(nèi)，防止與化學(xué)藥品和放射性物質(zhì)一起存放。第12頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三二、干膜的流程儲(chǔ)存條件為：黃光區(qū)，溫度低于27℃(5—21℃為最佳)，相對(duì)濕度50％左右。儲(chǔ)存期從出廠之日算起不小于六個(gè)月，超過(guò)儲(chǔ)存期按技術(shù)要求檢驗(yàn)合格者仍可使用。

在儲(chǔ)存和運(yùn)輸過(guò)程中應(yīng)避免受潮、受熱、受機(jī)械損傷和受日光直接照射。

第13頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三

前處理(基板的清理)壓膜靜置對(duì)板曝光靜置顯影檢修貼干膜前基板表面的清潔處理與干燥貼干膜前板面包括覆銅箔板基板和孔金屬化后預(yù)鍍銅的基板。為保證干膜與基板表面牢固的粘附，要求基板表面無(wú)氧化層、油污、指印及其它污物，無(wú)鉆孔毛刺、無(wú)粗糙鍍層。為增大干膜與基板表面的接觸面積，還要求基板有微觀粗糙的表面。為達(dá)到上述兩項(xiàng)要求，貼膜前要對(duì)基板進(jìn)行認(rèn)真的處理。其處理方法可以概括為機(jī)械清洗和化學(xué)清洗兩類。

第14頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三

（1)機(jī)械清洗

機(jī)械清洗即用刷板機(jī)清洗。刷板機(jī)又分為磨料刷輥式刷板機(jī)和浮石粉刷板機(jī)兩種。

①磨料刷輥式刷板機(jī)磨料刷輥式刷板機(jī)裝配的刷子通常有兩種類型，壓縮型刷子和硬毛型刷子。壓縮型刷子是將粒度很細(xì)的碳化硅或氧化鋁磨料粘結(jié)在尼龍絲上，然后將這種尼龍絲制成纖維板或軟墊，經(jīng)固化后切成圓片，裝在一根輥芯上制成刷輥。第15頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三硬毛型刷子的刷體是用含有碳化硅磨料的直徑為0．6mm的尼龍絲編繞而成的。磨料粒度不同，用途也不同，通常粒度為180目和240目的刷子用于鉆孔后去毛刺處理，粒度為320月和500目的刷子用于貼干膜前基板的處理。兩種刷子相比較各有其優(yōu)缺點(diǎn)。壓縮型刷子因含磨料粒度很細(xì)，并且刷輥對(duì)被刷板面的壓力較大，第16頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三其缺點(diǎn)是由于尼龍絲較細(xì)容易撕裂，使用壽命短。硬毛型刷子的顯著優(yōu)點(diǎn)是尼龍絲耐磨性好，因而使用壽命長(zhǎng)，大約是壓縮型刷子的十倍，但是這種刷子不宜用于處理多層板內(nèi)層基板，因基板薄不僅處理效果不理想，而且還會(huì)造成基板卷曲。在使用刷輥式刷板機(jī)的過(guò)程中，為防止尼龍絲過(guò)熱而熔化，應(yīng)不斷向板面噴淋自來(lái)水進(jìn)行冷卻和潤(rùn)濕。

第17頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三②浮石粉刷板機(jī)

多年來(lái)國(guó)內(nèi)外廣泛使用的是磨料刷輥式刷板機(jī)。研究表明，用這類刷板機(jī)清潔處理板面有些缺欠，如在表面上有定向的擦傷，有耕地式的溝槽，有時(shí)孔的邊緣被撕破形成橢圓孔，由于磨刷磨損刷子高度不一致而造成處理后的板面不均勻等。第18頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三隨著電子工業(yè)的發(fā)展，現(xiàn)代的電路設(shè)計(jì)要求越來(lái)越細(xì)的線寬和間距，仍舊使用磨料刷輥式刷板機(jī)處理板面，產(chǎn)品合格率低下，因此發(fā)展了浮石粉刷板機(jī)。浮石粉刷板機(jī)是將浮石粉懸濁液噴到板面上用尼龍刷進(jìn)行擦刷，其機(jī)器主要有以下幾個(gè)工段：

a．尼龍刷與浮石粉漿液相結(jié)合進(jìn)行擦刷；

b．刷洗除去板面的浮石粉；

c．高壓水洗；

d．水洗；

e．干燥。第19頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三浮石粉刷板機(jī)處理板面有如下優(yōu)點(diǎn)：

a．磨料浮石粉粒子與尼龍刷相結(jié)合的作用與板面相切擦刷，能除去所有的污物，露出新鮮的純潔的銅；

b．能夠形成完全砂?；?、粗糙的、均勻的、多峰的表面，沒有耕地式的溝槽；第20頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三c．由于尼龍刷的作用緩和，表面和孔之間的連接不會(huì)受到破壞；

d．由于相對(duì)軟的尼龍刷的靈活性，可以彌補(bǔ)由于刷子磨損而造成的板面不均勻的問(wèn)題；

e．由于板面均勻無(wú)溝槽，降低了曝光時(shí)光的散射，從而改進(jìn)了成像的分辨率。其不足是浮石粉對(duì)設(shè)備的機(jī)械部分易損傷。第21頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三2)化學(xué)清洗

化學(xué)清洗首先用堿溶液去除銅表面的油污、指印及其它有機(jī)污物。然后用酸性溶液去除氧化層和原銅基材上為防止銅被氧化的保護(hù)涂層，最后再進(jìn)行微蝕處理以得到與干膜具有優(yōu)良粘附性能的充分粗化的表面。

第22頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三

(3)電解清洗

貼干膜前基板表面清潔處理，一般采用上述1)一2)種處理方法，機(jī)械清洗及浮石粉刷板對(duì)去除基板表面的含鉻鈍化膜(銅箔表面防氧化劑)效果不錯(cuò)，但易劃傷表面，并可能造成磨料顆粒(如，碳化硅、氧化鋁、浮石粉)嵌入基體內(nèi)，同時(shí)還可能使撓性基板、多層板內(nèi)層薄板及薄型印制板基板的尺寸變形。第23頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三化學(xué)清洗去油污性較好，但去除含鉻鈍化膜的效果差。

電解清洗的優(yōu)點(diǎn)不僅能較好地解決機(jī)械清洗、浮石粉刷板及化學(xué)清洗對(duì)基板表面清潔處理中存在的問(wèn)題，而且使基板產(chǎn)生一個(gè)微觀的比較均勻的粗糙表面，大大提高比表面，增強(qiáng)干膜與基板表面的粘合力，這對(duì)生產(chǎn)高密度、細(xì)導(dǎo)線的導(dǎo)電圖形是十分有利的。

第24頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三電解清洗工藝過(guò)程如下：

進(jìn)料→電解清洗→水洗→微蝕刻→水洗→鈍化→水洗→干燥→出料

本公司使用機(jī)械清洗的處理方式，其流程為:

進(jìn)料酸洗水洗磨刷水洗吸干烘干

其參數(shù)管控重點(diǎn)如下:1.刷痕12±1mm

第25頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三ABCD第26頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三上圖所示為刷痕試驗(yàn)的幾種狀況，A區(qū)所示為正常的刷痕，B區(qū)所示為刷輪左高右低之情況，C區(qū)所示為刷輪右高左低之情況，D區(qū)所示為刷輪嚴(yán)重變形之情況(俗稱“狗骨頭”)。如果出現(xiàn)B.C的狀況,需對(duì)刷輪的水平度進(jìn)行調(diào)試,如果出現(xiàn)D的狀況,需對(duì)刷輪進(jìn)行整刷或更換刷輪.

.第27頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三2.酸液的濃度:3—5%

3.刷輪電流:3±0.5A

4.烘干段溫度:95±5℃

5.輸送速度:3.1±0.05mm

處理后的板面是否清潔應(yīng)進(jìn)行檢查，簡(jiǎn)單的檢驗(yàn)方法是水膜破裂試驗(yàn)法。板面滑活處理后，流水浸濕，垂直放置，整個(gè)板面上的連續(xù)水膜應(yīng)能保持15秒鐘不破裂。清潔處理后，最好立即貼膜，如放置時(shí)間超過(guò)四個(gè)小時(shí)，應(yīng)重新進(jìn)行清潔。第28頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三前處理常見的不良問(wèn)題：板面氧化、粘膠等等。板面氧化的原因主要來(lái)源于：前處理的參數(shù)不正常，比如說(shuō)濃度偏低、溫度偏低或者是速度偏快等；粘膠來(lái)源于前處理之前的板面有些粘膠，而前處理的過(guò)程中無(wú)法去除掉從而導(dǎo)致經(jīng)過(guò)前處理的板子上粘有一些膠無(wú)法去掉從而對(duì)后續(xù)的品質(zhì)造成嚴(yán)重的影響。第29頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三貼膜

貼膜時(shí)，先從干膜上剝下聚乙烯保護(hù)膜，然后在加熱加壓的條件下將干膜抗蝕劑粘貼在覆銅箔板上。干膜中的抗蝕劑層受熱后變軟，流動(dòng)性增加，借助于熱壓輥的壓力和抗蝕劑中粘結(jié)劑的作用完成貼膜。第30頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三貼膜通常在貼膜機(jī)上完成，貼膜機(jī)型號(hào)繁多，但基本結(jié)構(gòu)大致相同：貼膜可連續(xù)貼，也可單張貼。

連續(xù)貼膜時(shí)要注意在上、下干膜送料輥上裝干膜時(shí)要對(duì)齊，單張貼時(shí)，膜的尺寸要稍小于板面，以防抗蝕劑粘到熱壓輥上。連續(xù)貼膜生產(chǎn)效率高，適合于大批量生產(chǎn)，小批量生產(chǎn)可采用單張貼法，以減少干膜的浪費(fèi)。

貼膜時(shí)要掌握好的三個(gè)要素為壓力、溫度、傳送速度。第31頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三壓力：新安裝的貼膜機(jī)，首先要將上下兩熱壓輥調(diào)至軸向平行，然后來(lái)用逐漸加大壓力的辦法進(jìn)行壓力調(diào)整，根據(jù)印制板厚度調(diào)至使干膜易貼、貼牢、不出皺折。一般壓力調(diào)整好后就可固定使用，不需經(jīng)常調(diào)整，一般線壓力為0.5—0.6kg／㎡。第32頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三溫度：根據(jù)干膜的類型、性能、環(huán)境溫度和濕度的不同而略有不同。膜涂布的較干、環(huán)境溫度低、濕度小時(shí)，貼膜溫度要高些，反之可低些。貼膜溫度過(guò)高，干膜圖像變脆，耐鍍性能差，貼膜溫度過(guò)低，干膜與銅表面粘附不牢，在顯影或電鍍過(guò)程中，膜易起翹甚至脫落。通?？刂瀑N膜溫度在100℃左右。傳送速度：與貼膜溫度有關(guān)，溫度高，傳送速度可快些，溫度低則將傳送速度調(diào)慢。通常傳送速度為0.9一1.8米／分。第33頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三大批量生產(chǎn)時(shí)，在所要求的傳送速度下，熱壓輥難以提供足夠的熱量，因此需給要貼膜的板子進(jìn)行預(yù)熱，即在烘箱中干燥處理后稍加冷卻便可貼膜。為適應(yīng)生產(chǎn)精細(xì)導(dǎo)線的印制板，又發(fā)展了濕法貼膜工藝，此工藝是利用專用貼膜機(jī)在貼干膜前于銅箔表面形成一層水膜，該水膜的作用是：提高干膜的流動(dòng)性；第34頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三驅(qū)除劃痕、砂眼、凹坑和織物凹陷等部位上滯留的氣泡；在加熱加壓貼膜過(guò)程中，水對(duì)光致抗蝕劑起增粘作用，因而可大大改善干膜與基板的粘附性，從而提高了制作精細(xì)導(dǎo)線的合格率，據(jù)報(bào)導(dǎo)，采用此工藝精細(xì)導(dǎo)線合格率可提高1—9％。完好的貼膜應(yīng)是表面平整、無(wú)皺折、無(wú)氣泡、無(wú)灰塵顆粒等夾雜。為保持工藝的穩(wěn)定性，貼膜后應(yīng)經(jīng)過(guò)15分鐘的冷卻及恢復(fù)期再進(jìn)行曝光。第35頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三

對(duì)板曝光

◎?qū)Π鍖?duì)板：對(duì)板作業(yè)員是指將底片與以壓過(guò)膜的板進(jìn)對(duì)位的過(guò)程，是進(jìn)行圖像轉(zhuǎn)移所不可缺少的步驟；其目的在于使底片上圖像與板上的孔作一個(gè)定位的動(dòng)作，以便后續(xù)作業(yè)。對(duì)板作業(yè)所遵循的規(guī)則是以孔為中心，以不崩孔為原則。即作業(yè)中是板上的孔為對(duì)位的基準(zhǔn)點(diǎn)，而不是說(shuō)隨意的蓋于板面即可的一種簡(jiǎn)單動(dòng)作。對(duì)板作業(yè)根據(jù)其作業(yè)方式的來(lái)不同基本上可分三類：手工作業(yè)(目視定位)、上PIN對(duì)板作業(yè)(即所謂的PIN對(duì))以及“三明治”式對(duì)板作業(yè)；第36頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三手工作業(yè)是指通過(guò)人工方法將底片對(duì)準(zhǔn)于板上，此種作業(yè)方式靈活性較高但對(duì)于局部性孔偏無(wú)法作出及時(shí)以及有效的反應(yīng)，而且底片在不斷的人工拉扯過(guò)程中容易變形造成一此無(wú)法處理的孔偏給后制程帶來(lái)一些困擾比如防焊作業(yè)時(shí)會(huì)出現(xiàn)陰影等。PIN對(duì)作業(yè)是批通過(guò)在底片打上PIN針，然后將板相對(duì)應(yīng)的孔對(duì)上去從而達(dá)到將底片與板對(duì)位的效果。

第37頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三此種方法作業(yè)中不容易出現(xiàn)底片變形的原因主要來(lái)源于無(wú)塵室內(nèi)的臟物，此部分臟物有大有小造成的問(wèn)題卻對(duì)品質(zhì)有十分大的影響。因此，環(huán)境衛(wèi)生對(duì)干膜的品質(zhì)有著舉足輕重的作用。菲林刮傷是指菲林在作業(yè)的過(guò)程中因銅渣或者說(shuō)是硬物的碰撞，使菲林受到登損受從而引起的生產(chǎn)品質(zhì)問(wèn)題。第38頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三菲林刮傷的原因主要來(lái)自于人為的操作不當(dāng)，其主要是在保存和使用過(guò)程中所產(chǎn)生的；改善的方法是對(duì)其保存以及使用操作有一個(gè)明確的規(guī)定，并且能依據(jù)所制定的規(guī)定嚴(yán)格要求所有的作業(yè)人員，使員工每個(gè)人都能十分清楚的了解以達(dá)到所需的目標(biāo)。第39頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三◎曝光

曝光即在紫外光照射下，光引發(fā)劑吸收了光能分解成游離基，游離基再引發(fā)光聚合單體進(jìn)行聚合交聯(lián)反應(yīng)，反應(yīng)后形成不溶于稀堿溶液的體型大分子結(jié)構(gòu)。曝光一般在自動(dòng)雙面曝光機(jī)內(nèi)進(jìn)行，現(xiàn)在曝光機(jī)根據(jù)光源的冷卻方式不同，可分風(fēng)冷和水冷式兩種

◎影響曝光成像質(zhì)量的因素影響曝光成像質(zhì)量的因素除干膜光致抗蝕劑的性能外，光源的選擇、曝光時(shí)間(曝光量)的控制、照相底版的質(zhì)量等都是影響曝光成像質(zhì)量的重要因素。第40頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三(1)光源的選擇

任何一種干膜都有其自身特有的光譜吸收曲線，而任何一種光源也都有其自身的發(fā)射光譜曲線。如果某種干膜的光譜吸收主峰能與某種光源的光譜發(fā)射主峰相重疊或大部分重疊，則兩者匹配良好，曝光效果最佳。

第41頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三2)曝光時(shí)間(曝光量)的控制

正確控制曝光時(shí)間是得到優(yōu)良的干膜抗蝕圖像非常重要的因素。當(dāng)曝光不足時(shí)，由于單體聚合的不徹底，在顯影過(guò)程中，膠膜溶漲變軟，線條不清晰，色澤暗淡，甚至脫膠，在電鍍前處理或電鍍過(guò)程中，膜起翹、滲鍍、甚至脫落。第42頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三當(dāng)曝光過(guò)頭時(shí)，會(huì)造成難于顯影，膠膜發(fā)脆、留下殘膠等弊病。更為嚴(yán)重的是不正確的曝光將產(chǎn)生圖像線寬的偏差，過(guò)量的曝光會(huì)使圖形電鍍的線條變細(xì)，使印制蝕刻的線條變粗，反之，曝光不足使圖形電鍍的線條變粗，使印制蝕刻的線條變細(xì)。第43頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三如何正確確定曝光時(shí)間呢?

嚴(yán)格的講，以時(shí)間來(lái)計(jì)量曝光是不科學(xué)的，因?yàn)楣庠吹膹?qiáng)度往往隨著外界電壓的波動(dòng)及燈的老化而改變。光能量定義的公式E＝IT，式中E表示總曝光量，單位為毫焦耳／平方厘米；I表示光的強(qiáng)度，單位為毫瓦／平方厘米；T為曝光時(shí)間，單位為秒。從上式可以看出，總曝光量E隨光強(qiáng)I和曝光時(shí)間T而變化。第44頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三當(dāng)曝光時(shí)間T恒定時(shí)，光強(qiáng)I改變，總曝光量也隨之改變，所以盡管嚴(yán)格控制了曝光時(shí)間，但實(shí)際上干膜在每次曝光時(shí)所接受的總曝光量并不一定相同，因而聚合程度也就不同。．為使每次曝光能量相同，使用光能量積分儀來(lái)計(jì)量曝光。其原理是當(dāng)光強(qiáng)I發(fā)生變化時(shí)，能自動(dòng)調(diào)整曝光時(shí)間T，以保持總曝光量E不變。第45頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三對(duì)板曝光中常見問(wèn)題點(diǎn)原因分析與改善對(duì)策一、對(duì)偏：指菲林的內(nèi)容和板本身未做到以孔為中心進(jìn)行對(duì)位。原因解決方法作業(yè)中的對(duì)位不準(zhǔn)以孔為中心，目視到位菲林有變形如伸長(zhǎng)縮短車間溫濕度保護(hù)在管控范圍內(nèi)，棕片嚴(yán)重變形時(shí)，重新制作新的棕片定位PIN針未上好如定位PIN孔有沖偏對(duì)板時(shí)套PIN有偏沖片后用高腳鏡量測(cè)PIN孔的偏差，對(duì)板時(shí)確保按PIN到位第46頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三二、對(duì)反：指在對(duì)板作業(yè)過(guò)程中因?yàn)槲磳?duì)印刷孔作業(yè)從而導(dǎo)致有一部分的內(nèi)容沒有對(duì)上(一般都是中間部分)。原因解決方法手工作業(yè)中作業(yè)員未能按對(duì)印刷孔作業(yè)而是以對(duì)兩頭的內(nèi)容作業(yè)加防呆PIN并嚴(yán)格按對(duì)三個(gè)印刷孔的方式作業(yè)PIN對(duì)作業(yè)中PIN針?biāo)系牡胤轿慈∮∷⒖椎姆较驈亩鴮?dǎo)致對(duì)板是套PIN錯(cuò)pIN對(duì)時(shí)分清面次，固定三個(gè)印刷孔右下角

第47頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三三、曝光過(guò)度：指在對(duì)板曝光過(guò)程中因?yàn)槟芰吭O(shè)定不當(dāng)或者操作不當(dāng)所引起的不需曝光的部分感到光而固化。原因解決方法曝光機(jī)所設(shè)定的能量較高使得干膜在曝光過(guò)程中因?yàn)樗邮艿哪芰窟^(guò)高從而導(dǎo)致曝光過(guò)度每班作曝光尺對(duì)曝光能量進(jìn)行確認(rèn)，如有異常及時(shí)調(diào)整。第48頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三在曝光過(guò)程中因?yàn)槲涣妓鶎?dǎo)致菲林的藥膜面未與干膜緊貼在一起，導(dǎo)致在曝光過(guò)程中光線的折射較多引起部分干膜曝光過(guò)度基板本身有凹陷或者機(jī)臺(tái)的臺(tái)面有一些不平以及導(dǎo)氣條的設(shè)置不當(dāng)(或者是說(shuō)未加導(dǎo)氣條)造成菲林與板面未能緊緊貼在一起而引起曝光過(guò)度加設(shè)導(dǎo)氣條（導(dǎo)氣條需跨臺(tái)面的導(dǎo)氣溝）吸真空710mmHg后開始趕氣對(duì)板彎板翹之板進(jìn)行整平處理第49頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三四、臟點(diǎn)：指在曝光過(guò)程中因有一些不透明的物質(zhì)附著于板面菲林而臺(tái)面或者干膜上，因?yàn)樵谄毓膺^(guò)程中這部分不透明物質(zhì)對(duì)光線有遮擋作用，所以本來(lái)要曝光的部分因有物體擋住從而未能曝光造成顯影時(shí)被沖掉。原因解決機(jī)臺(tái)上有臟物對(duì)機(jī)臺(tái)進(jìn)行徹底的保養(yǎng)對(duì)所用的棕片進(jìn)行定時(shí)清潔無(wú)塵室硬件設(shè)施不完善提升無(wú)塵室等級(jí)第50頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三顯影

◎顯影

顯影機(jī)理是感光膜中未曝光部分的活性基團(tuán)與稀堿溶液反應(yīng)生成可溶性物質(zhì)而溶解下來(lái)，顯影時(shí)活性基團(tuán)羧基一COOH與無(wú)水碳酸鈉溶液中的Na+作用，生成親水性集團(tuán)一COONa。從而把未曝光的部分溶解下來(lái)，而曝光部分的干膜不被溶脹。顯影操作一般在顯影機(jī)中進(jìn)行，控制好顯影液的溫度，傳送速度，噴淋壓力等顯影參數(shù)，能夠得到好的顯影效果。第51頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三顯影主要管控參數(shù)如下：碳酸鈉濃度：1.0±0.1%顯影液溫度：30±1℃顯影壓力：1#13±1PSI2#22±1PSI水洗壓力：22±2PSI烘干溫度：55--60℃第52頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三正確的顯影速度通過(guò)顯像點(diǎn)(沒有曝光的干膜從印制板上被顯掉之點(diǎn))來(lái)確定，顯像點(diǎn)必須保持在顯影段總長(zhǎng)度的一個(gè)恒定百分比上。如果顯出點(diǎn)離顯影段出口太近，未聚合的抗蝕膜得不到充分的清潔顯影，抗蝕劑的殘余可能留在板面上。如果顯出點(diǎn)離顯影段的入口太近，已聚合的于膜由于與顯影液過(guò)長(zhǎng)時(shí)間的接觸，可能被浸蝕而變得發(fā)毛，失去光澤。通常顯像點(diǎn)控制在顯影段總長(zhǎng)度的40％一60％之內(nèi)。第53頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三使用顯影機(jī)由于溶液不斷地噴淋攪動(dòng)，會(huì)出現(xiàn)大量泡沫，因此必須加入適量的消泡劑。如正丁醇、食品及醫(yī)藥用的消泡劑、印制板專用消泡劑AF一3等。消泡劑起始的加入量為0.1％左右，隨著顯影液溶進(jìn)干膜，泡沫又會(huì)增加，可繼續(xù)分次補(bǔ)加。顯影后要確保板面上無(wú)余膠，以保證基體金屬與電鍍金屬之間有良好的結(jié)合力。第54頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三顯影后板面是否有余膠，肉眼很難看出。可以做CUCL2實(shí)驗(yàn)進(jìn)行確認(rèn)，CUCL2實(shí)驗(yàn)操作方法如下：把顯影后的板直接放入除油槽浸泡2分鐘水洗10秒粗化槽浸泡20秒水洗10秒酸洗槽浸泡15秒水洗10秒5%CUCL2溶液15秒30秒水洗干凈.CUCL2實(shí)驗(yàn)后的板，露銅部分呈灰黑色則正常，如仍呈現(xiàn)銅顏色則是顯影不凈。第55頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三修版與去膜?。?！

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修版

修版包括兩方面，一是修補(bǔ)圖像上的缺陷，一是除去與要求圖像無(wú)關(guān)的疵點(diǎn)。上述缺陷產(chǎn)生的大體原因是：干膜本身有顆?；驒C(jī)械雜質(zhì)；基板表面粗糙或凹凸不平；操作工藝不當(dāng)如板面污物及貼膜小皺折；照相底版及真空框架不清潔等。為減少修版量，應(yīng)特別注意上述問(wèn)題。第56頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三修版液可用蟲膠、瀝青、耐酸油墨等。修版時(shí)應(yīng)注意戴細(xì)紗手套，以防手汗污染板面。◎去膜(退洗)

去膜使用3～5％的氫氧化鈉溶液，溫度50一60℃，去膜方式可槽式浸泡，也可機(jī)器噴淋。槽式浸泡是板子上架后浸泡到去膜溶液中，數(shù)分鐘后膜變軟脫落，取出后立即用水沖洗，膜就可以去除干凈，銅表面也不會(huì)被氧化。機(jī)器噴淋去膜生產(chǎn)效率高，但應(yīng)注意檢查噴嘴是否堵塞，在去膜溶液中必須加入消泡劑。第57頁(yè)，共63頁(yè)，2023年，2月20日，星期三干膜工藝